刻膠及相關產品項目設計產能1.1萬噸光刻膠，2萬噸半導體高純試劑。公司上?；瘜W工業區工廠年產1千噸半導體光刻膠量產產線，主要包括年產300/400噸ArF及KrF光刻膠量產產線，通過采用超高純PFA（涂層）設備、引入高精度物料流量控制系統、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統，可以實現ppt級金屬雜質及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產能力。