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1、3.2 蒸發源設備OLED 上游設備在產業鏈占比約 35%，為典型資本密集行業，市場增長強勁。OLED上游設備在 OLED 產業鏈中成本占比 35%左右，包括背板段工藝的顯影、蝕刻設備;蒸鍍封裝段工藝的蒸鍍、封裝設備;模組段工藝的檢查、測試設備。其技術壁壘高，研發成本較高，目前主要以歐美日等地區供應商為主。隨著一些 LCD 8 代線的轉型和改建，市場上出現了更多設備需求，這些需求主要是來自于蒸鍍段。蒸鍍工藝是 OLED 屏生產過程中難度最高的環節之一，將直接影響到制成品的良率和質量。HIL、HTL、EML(R&G&B 等顏色)、 ETL、EILr 等功能層采用真空蒸鍍方式、連續
2、地沉積在 TFT 基板之上。由于工藝參雜的需要和為了避免交叉污染, 不同的功能層需要在不同的蒸鍍機腔體內蒸鍍, 同時在蒸鍍完成后通過機械手將基板在不同的腔體之間進行轉移。OLED 有噴墨打印技術和傳統蒸鍍技術，傳統真空蒸鍍技術較長時間仍為 OLED 主流技術。OLED 有機發光層及輔助功能層的制備方法主要有真空蒸鍍法和噴墨打印法，前者是目前中小尺寸面板量產使用的主要技術，后者技術尚未成熟、未形成產業化。蒸發源作為進行蒸鍍的核心組件，其性能決定蒸鍍過程中的鍍膜厚度和均勻度，可視作蒸鍍設備的“心臟”。真空蒸鍍法工作原理是在真空環境中對有機發光材料加熱，使之氣化并沉積到基片上而獲得薄膜材料，又稱真空鍍膜。真空蒸鍍設備由真空抽氣系統和真空腔體組成，其中真空抽氣系統由(超)高真空泵、低真空泵、排氣管道和閥門等組成，真空腔體內配置蒸發源、晶振片及掩膜板等不可缺少的部件。真空腔體內設有多個放置有機材料的蒸發源并左右移動，用來加熱有機材料使之氣化蒸發并沉積至基板上成薄膜。
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