2024掩膜版行業國產化需求、國產替代空間及龍頭企業清溢光電、路維光電分析報告（33頁）.pdf

1、2 0 2 3 年深度行業分析研究報告目錄目錄 1 1、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板 2 2、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展 3 3、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間 4 4、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板+半導體雙翼齊飛半導體雙翼齊飛 5 5、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮、路維光電：我國掩膜版頭

2、部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮 掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉移母版掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉移母版，是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業生產制造過程中重要的關鍵材料。掩膜版的作用是將設計者的電路圖形通過曝光的方式轉移到下游行業的基板或晶圓上，從而實現批量化生產。作為光刻復制圖形的基準和藍本，掩膜版是連接工業設計和工藝制造的關鍵，掩膜版的精度和質量水平會直接影響最終下游制品的優品率。圖圖 2 2：掩膜版在半導體生產中的應用：掩膜版在半導體生產中的應用 資料來源：清溢光電招股說明書 1.1 1.1 掩膜版：微電子制造的圖形轉移母板掩膜版：微電子制造的圖形轉移母板 圖圖 1 1：掩

3、膜版工作原理：掩膜版工作原理 資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿）掩膜版廣泛應用于半導體、平板顯示、電路板、觸控屏等領域。掩膜版廣泛應用于半導體、平板顯示、電路板、觸控屏等領域。TFT-LCD制造過程中，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，將設計好的TFT陣列和彩色濾光片圖形按照薄膜晶體管的膜層結構順序，依次曝光轉移至玻璃基板，最終形成多個膜層所疊加的顯示器件。晶圓制造過程中，其制造過程需要經過多次曝光工藝，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半導體晶圓表面形成柵極、源漏極、摻雜窗口、電極接觸孔等。半導體掩膜版在最小線寬、CD 精度、位置精度等重要參數方面的要求，均顯著高于平板顯示、PCB 等領域掩膜版產品。

4、資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿），SEMI，Omdia，光大證券研究所整理 1.2 1.2 掩膜版：半導體和平板顯示為兩大主要應用領域掩膜版：半導體和平板顯示為兩大主要應用領域 表表 1 1：各類掩膜版及下游應用占比：各類掩膜版及下游應用占比 產品類型產品類型 產品應用領域產品應用領域 下游下游應用應用市市場場占占比比 下游應用代表廠商下游應用代表廠商 半導體掩膜版 邏輯電路制造、模擬電路制造、功率器件制造、MEMS傳感器制造、IC封裝等 60%臺積電、英特爾、中芯國際、華虹半導體、華潤微、中芯集成、士蘭微、積塔半導體、比亞迪半導體、立昂微、燕東微、高德紅外、長電科技等 平板顯示掩膜版

5、LCD 顯示屏制造、OLED顯示屏制造等 28%京東方、天馬微電子、華星光電、中電熊貓、惠科等 其他 電路板（PCB、FPC）制造、觸控屏（TP）制造、光學器件制造等 12%藍思科技、紫翔電子等 關鍵參數關鍵參數 關鍵參數說明關鍵參數說明 半導體掩膜版半導體掩膜版 平板顯示掩膜版平板顯示掩膜版 PCBPCB掩膜版掩膜版 掩膜版最小線寬 掩膜版線寬越小，制作難度越高，對應下游產品線寬越小 0.5m 1.2m 10m CD 精度 數值越小，說明精度越高 0.02m 0.10m 0.50m CD 精度均值偏差 數值越小，說明精度穩定性越高 0.02m 0.12m 1m 位置精度 數值越小，掩膜版實際

6、圖形位置坐標與設計值的偏差越小，精度越高 0.02m 0.28m 套刻層數 下游生產時使用的掩膜版的層數，層數越多對套刻精度要求越高 成套芯片用掩膜版包含的張數較多，通常十幾張到數十張不等 成套的平板顯示用掩膜版一般數量相對較少，即使是AMOLED一般也僅需十數張 通常張數為個位數 表表 2 2：各類掩膜版參數：各類掩膜版參數 注：此處掩膜版最小線寬指掩膜版產品本身的最小線寬。由于半導體光刻時使用投影式光刻，掩膜版上曝光的圖案按照4:1 的比例投影至晶圓上，因此0.5m的掩膜版自身最小線寬對應下游半導體線寬約為130nm。顯示面板、PCB 在曝光時通常采用接近式光刻，掩膜版上的圖案按照1:1

7、的比例曝光。資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿），光大證券研究所整理 目錄目錄 1 1、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板 2 2、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展 3 3、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間 4 4、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板+半導體雙翼齊飛半導體雙翼齊飛 5 5、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國

8、產替代浪潮、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮 隨著韓國三星、隨著韓國三星、LG LG 逐步關?；虺鍪鬯鶕碛械闹鸩疥P?；虺鍪鬯鶕碛械?TFT LCD TFT LCD 生產線，中國大陸在全球生產線，中國大陸在全球 TFT LCD TFT LCD 市場市場 的占比進一步提升。的占比進一步提升。Omdia預測，到2027 年中國大陸LCD產能在全球的占比（按面積）將達到 73.74%，占據絕對領先地位。OLED OLED 在全球占比快速提升。在全球占比快速提升。在平板顯示領域，韓國已逐步放棄 TFT LCD 市場，轉而將焦點放在利潤更為豐厚且具有獨特優勢的 OLED 市場，中

9、國面板企業在 OLED 領域奮起直追，不斷縮小與韓國的差距。2023 年第四季度，京東方在折疊屏 OLED 市場實現了對三星顯示的超越，占有率排名居市場第一。UBI Research 預測，2024 年韓國 OLED 智能手機面板出貨量的占有率將同比減少 4.6 個百分點，降至 53%；到 2025 年將逐漸下降到 45.2%。中國在2023至2024年OLED智能手機面板出貨量占有率預計將從 42.4%增 加到 47%，預計2025年將會攀升至 54.8%。2025 年中國對OLED 智能手機面板占有率將超過韓國。根據路維光電2023年年報，2024 年中國柔性 OLED 智能手機面板出貨量

10、占比有望首次超過韓國，成為全球最大的智能手機柔性 AMOLED 生產國。由于 OLED 是電流驅動顯示，對像素驅動電路要求更高，進而對掩膜版的質量和數量提出了更高的要求，高端掩膜版需求增長。圖圖 3 3：全球各地區顯示面板產能占比（按面積）全球各地區顯示面板產能占比（按面積）2.1 2.1 中國大陸中國大陸 TFT LCD TFT LCD 已占據絕對優勢，已占據絕對優勢，OLED OLED 在全球占比快速提升在全球占比快速提升 平板顯示需求擴張。平板顯示需求擴張。平板顯示行業長期發展呈現像素高精度化、尺寸大型化、競爭白熱化、轉移加速化、產品定制化等特點。受益于電視平均尺寸增加，大屏手機、車載顯

11、示和公共顯示等需求的拉動，根據 Omdia 2023 年9月預測，2027 年全球平板顯示需求超過 300 百萬平方米。OLEDOLED長期成長空間廣闊。長期成長空間廣闊。根據Omdia預測，從2021到2028年，按面積計算的全球AMOLED顯示面板需求CAGR將達到11.6%。Omdia認為，AMOLED已成功進入智能手機市場，大多數智能手機品牌已經在其高端機型上采用了AMOLED面板。從面積角度，高端電視市場對OLED面板的需求超過了智能手機市場，未來將持續增長；多個移動PC品牌也開始在其高端機型上采用AMOLED顯示面板，更薄且亮度更高的顯示屏能夠提升移動PC的產品品質，在推向市場時也

12、可作為一大賣點。圖圖 5 5：全球：全球AMOLEDAMOLED面板面積需求預測面板面積需求預測 資料來源：Omdia 圖圖 4 4：全球全球 20222022-2027 2027 年年 平板顯示需求預測（單位：千平米）平板顯示需求預測（單位：千平米）2.1 2.1 平板顯示需求擴張，平板顯示需求擴張，OLEDOLED長期成長空間廣闊長期成長空間廣闊 圖圖 6 6：AMOLEDAMOLED面板分應用面積需求預測（單位：百面板分應用面積需求預測（單位：百萬平方米）萬平方米）資料來源：Omdia，光大證券研究所整理 資料來源：Omdia，光大證券研究所整理 中國大陸已經成為全球面板產能最多的地區。

13、中國大陸已經成為全球面板產能最多的地區。近年來我國集中建設高精度、高世代面板線為承接全球新型顯示產能轉移提供了良好條件，全球平板顯示產業布局向中國轉移的進程明顯加快。我國平板顯示產業集中度進一步提高，京津唐、長三角、珠三角以及成渝鄂等四大產業聚集區開始建設高精度、高世代面板線。根據 Omdia 2023 年 9 月預計，全球各區域面板制造商的產能份額中，在 2026 年中國大陸 6 代產能占比將達到 45%左右，6 代以上產能占比將達到 80%；多條 AMOLED/LTPS 生產線建設進展順利，京東方、華星光電、天馬、維信諾、和輝光電等企業在 AMOLED/LTPS 高分辨率、折疊屏、全面屏、

14、高飽和度等新技術上加大投入，量產進程穩步推進。圖圖 7 7：全球全球 20002000-2028 2028 年全球各區域各世代面板制造商的產能份額趨勢年全球各區域各世代面板制造商的產能份額趨勢 2.1 2.1 中國大陸平板顯示產能建設加速中國大陸平板顯示產能建設加速 2023 年是我國顯示產業的投資大年。2023 年一季度京東方宣布投資 290 億建設第 6 代新型半導體顯示器件生產線項目，著力布局 VR、Mini LED 等高端顯示技術；四季度，京東方宣布在成都投資 630 億元建設 8.6 代 AMOLED 生產線項目，主要生產用于筆記本電腦、平板電腦等高端觸控顯示屏，推進 OLED 在高

15、端中尺寸 IT 類產品滲透，開拓中尺寸 OLED 屏幕產品的廣闊市場。與此同時，TCL 華星在其全球顯示生態大會上宣布，投資建設采用印刷 OLED 技術生產顯示屏的生產線，主要生產用于 IT、醫療等領域的顯示屏。根據根據 OmdiaOmdia 2023 2023 年年 9 9 月統計分析，預計月統計分析，預計2024 2024 年有年有 24 24 條條8.5 8.5 代以上高世代線，其中代以上高世代線，其中 8.5/8.6 8.5/8.6 代合計有代合計有 19 19 條，條，20242024年中國大陸預計有年中國大陸預計有 23 23 條中精度及高精度條中精度及高精度 AMOLED/LTP

16、S/aAMOLED/LTPS/a-SiSi。2.1 2.1 中國大陸平板顯示產能建設加速中國大陸平板顯示產能建設加速 表表 3 3：2024 2024 年年 19 19 條條 8.5/8.6 8.5/8.6 代高精度代高精度 TFT TFT 產線情況產線情況 生產商生產商 工廠工廠 應用應用 主要技術主要技術 代數代數 1 1 京東方 BOE B4 LCD a-Si 8.5 2 2 京東方 BOE B5 LCD+OLED a-Si 8.5 3 3 京東方 BOE B8 LCD a-Si 8.5 4 4 京東方 BOE B10 LCD a-Si 8.5 5 5 京東方 BOE B18 LCD O

17、xide 8.5 6 6 京東方 BOE B19 LCD Oxide 8.6 7 7 華星光電 CSOT T1 LCD+EPD a-Si 8.5 8 8 華星光電 CSOT T2 LCD a-Si 8.5 9 9 華星光電 CSOT T9 LCD a-Si/Oxide 8.6 1010 華星光電 CSOT T10 LCD a-Si 8.5 1111 惠科 HKC H1 LCD a-Si 8.6 1212 惠科 HKC H2 LCD a-Si 8.6 1313 惠科 HKC H4 LCD a-Si 8.6 1414 惠科 HKC H5 LCD a-Si 8.6 1515 咸陽彩虹 CECX 1

18、LCD a-Si 8.6 1616 LG Display LGD GP1 LCD a-Si 8.5 1717 LG Display LGD GP3 OLED Oxide 8.5 1818 天馬 Tianma TM19 LCD a-Si/Oxide 8.6 1919 泰嘉 Taijia LCD a-Si 8.5 userid:93117,docid:164986,date:2024-06-17, 2.1 2.1 中國大陸平板顯示產能建設加速中國大陸平板顯示產能建設加速 表表 4 4：2024 2024 年年 23 23 條中精度及高精度條中精度及高精度 AMOLED/LTPS/aAMOLED/L

19、TPS/a-Si Si 情況情況 生產商生產商 工廠工廠 應用應用 主要技術主要技術 代數代數 備注備注 1 1 友達光電 AUO L6K LCD LTPS 6 2 2 京東方 BOE B3 LCD a-Si 6 3 3 京東方 BOE B6 LCD+OLED LTPS 5.5 4 4 京東方 BOE B7 OLED LTPS 6 5 5 京東方 BOE B11 OLED LTPS 6 6 6 京東方 BOE B12 OLED LTPS 6 7 7 京東方 BOE B20 LCD+Micro LED LTPS 6 8 8 京東方 BOE B16 OLED-8.6 計劃中 9 9 中電熊貓 C1

20、 LCD a-Si 6 1010 華星光電 CSOT T4 OLED LTPS 6 1111 華星光電 CSOT T3 LCD LTPS 6 1212 華星光電 CSOT T5 OLED LTPS 6 1313 和輝光電 Everdisplay 1 OLED LTPS 4.5 1414 和輝光電 Everdisplay 2 OLED LTPS 6 1515 華佳彩 MDT 1 LCD+OLED a-Si 6 1616 天馬 TM15 OLED LTPS 5.5 1717 天馬 TM16 LCD+OLED LTPS 6 1818 天馬 TM17 OLED LTPS 6 1919 天馬 TM18

21、OLED LTPS 6 2020 維信諾 VSX V1 OLED LTPS 5.5 2121 維信諾 VSX V1 OLED LTPS 6 2222 維信諾 VSX V1 OLED LTPS 6 2323 維信諾 VSX V1 OLED LTPS 8.6 計劃中 根據 Omida 分析，2022 年全球光掩膜版市場約為 1,280 億日元，2024 年預計將達到 1,309 億日元。根據 Omdia 分析，中國大陸平板顯示行業掩膜版需求占全球比重，從 2017 年的 32%上升到 2022 年的 57%。未來隨著相關產業進一步向國內轉移，中國大陸平板顯示行業掩膜版的需求將未來隨著相關產業進一步

22、向國內轉移，中國大陸平板顯示行業掩膜版的需求將持續上升持續上升，預計到 2026 年，中國大陸平板顯示行業掩膜版需求全球占比將達到 60%。根據前瞻產業研究院數據，2021年我國平板顯示（FPD）掩膜版市場規模為30.24億元，估測2022年我國平板顯示（FPD）掩膜版市場規模約為35.38億元。資料來源：Omdia 2.1 2.1 平板顯示掩膜版國產替代需求旺盛平板顯示掩膜版國產替代需求旺盛 圖圖 8 8：全球光掩膜版市場規模全球光掩膜版市場規模 圖圖 9 9：全球全球 各區域平板顯示掩膜版市場份額預測各區域平板顯示掩膜版市場份額預測 資料來源：Omdia 大尺寸屏幕的需求增加引領全球平板顯

23、示產業向8+代線和10+代線邁進。面板的世代數是按照產線所應用的玻璃基板的尺寸劃分，總體來說，面板代數越高，面板的玻璃基板尺寸越大，切割的屏幕數目越多，利用率和效益越高。近幾年面板廠商積極投資與擴產大尺寸世代線，面板尺寸的增大帶動其上游材料掩膜版朝著大尺寸化的方向發展，也會帶動大尺寸掩膜版的需求增長。隨著面板世代數不斷演進，掩膜版的世代也相應演進。隨著面板世代數不斷演進，掩膜版的世代也相應演進。圖圖 1111：9090寸及寸及23.323.3寸面板切割效率示意圖寸面板切割效率示意圖 資料來源：路維光電招股說明書 2.2 2.2 顯示面板趨向大尺寸，平板顯示掩膜版需求增加顯示面板趨向大尺寸，平板

24、顯示掩膜版需求增加 圖圖 1010：6565寸及寸及7575寸面板切割效率示意圖寸面板切割效率示意圖 資料來源：路維光電招股說明書 8.6 8.6 代及以下平板顯示行業掩膜版需求保持穩定增長。代及以下平板顯示行業掩膜版需求保持穩定增長。根據 Omdia 分析，預計 2027 年全球 8.6 代及以下平板顯示行業掩膜版銷售收入為 1,293 億日元，占全球平板顯示行業掩膜版銷售額的比例為 93.5%。根據 Omdia 2021 年的預測，在 2019 年和 2022 年之間，液晶電視平均尺寸預計將從 45.6 英寸增加到 50.2 英寸。自 2018 年起，G11（2940mmx3370mm）及

25、以內液晶面板玻璃基板能較好地滿足產品切割需求。OLED 產品方面，受限于蒸鍍機尺寸，目前主流目前主流 OLED OLED 顯示面板廠尺寸主要集中在顯示面板廠尺寸主要集中在 G6G6，對應掩 膜版產品主要集中在 850mmx1200mm 尺寸。三星宣布在韓國牙山投建全球首條 G8.6OLED 生產線，京東方在 2023 年四季度也宣布在成都投建 G8.6 AMOLED 產線，LG 計劃通過出售廣州工廠籌集資金建設其 G8 AMOLED 產線。隨著各大廠商對大尺寸隨著各大廠商對大尺寸 OLED OLED 面板產線的投資和建設，預計未來面板產線的投資和建設，預計未來 OLED OLED 掩膜版產品也

26、將向大尺寸靠攏。掩膜版產品也將向大尺寸靠攏。2.2 2.2 顯示面板趨向大尺寸，平板顯示掩膜版需求增加顯示面板趨向大尺寸，平板顯示掩膜版需求增加 圖圖 1212：全球：全球8.68.6代及以下平板顯示行業掩膜版銷售預測（單位：萬日元）代及以下平板顯示行業掩膜版銷售預測（單位：萬日元）圖圖 1313：不同尺寸的面板基板對應不同尺寸的掩膜版（單位：不同尺寸的面板基板對應不同尺寸的掩膜版（單位：mmmm）資料來源：路維光電招股說明書 高分辨率終端顯示產品的滲透帶動掩膜版向高精細化的方向發展。高分辨率終端顯示產品的滲透帶動掩膜版向高精細化的方向發展。掩膜版作為平板顯示制造過程的關鍵材料，對面板產品的精

27、度起決定性的作用，高分辨率產品對掩膜版的精度提出了更高的技術要求。近年來隨著平板顯示解析度不斷提高，TFT半導體主動層材料已逐步采用LTPS/Oxide技術，并朝著LTPO（低溫多晶氧化物）等新技術演變。對于掩膜版的配套技術要求，主要體現在曝光分辨率（最小線寬線縫）、最小孔或方塊、CD均勻性以及套合精度的不斷提升。隨著隨著LTPOLTPO屏幕技術普及，掩膜版層數也隨之增加。屏幕技術普及，掩膜版層數也隨之增加。為進一步降低AMOLED屏幕的功耗，業內在LTPS背板的基礎上開發出了LTPO背板顯示技術。傳統LTPS背板一般需要9-13層掩膜版，結合IGZO技術后，LTPO背板工藝所需掩膜版增加至1

28、3-17層。2023 年，LTPO OLED 屏幕出貨量達 1.882 億片，較 2022 年的 1.4273 億片增長 31.9%。2.2 2.2 平板顯示掩膜版趨向高精度，平板顯示掩膜版趨向高精度，LTPOLTPO工藝所需掩膜版層數增長工藝所需掩膜版層數增長 圖圖 1414：平板顯示掩膜版精度發展趨勢簡圖平板顯示掩膜版精度發展趨勢簡圖 資料來源：Omdia 目錄目錄 1 1、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板 2 2、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展

29、 3 3、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間 4 4、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板+半導體雙翼齊飛半導體雙翼齊飛 5 5、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮 根據根據SEMISEMI世界晶圓廠預測報告世界晶圓廠預測報告，20242024年半導體行業的增長將由前沿邏輯和代工、包括生成式人工智能和高性能計算（年半導體行業的增長將由前沿邏輯和代工、包括生成式人工智能和高性能計算（HPCHPC）在內

30、的應用的）在內的應用的產能增長以及芯片終端需求的復蘇推動。產能增長以及芯片終端需求的復蘇推動。全球半導體每月晶圓（WPM）產能在2023年增長5.5%至2960萬片后，預計2024年將增長6.4%，首次突破每月3000萬片大關（以200mm當量計算）。從2022年至2024年，全球半導體行業計劃開始運營82個新的晶圓廠，其中包括2023年的11個項目和2024年的42個項目，晶圓尺寸從300mm到100mm不等。在政府資金和其他激勵措施的推動下，預計中國將增加其在全球半導體產能中的份額。在政府資金和其他激勵措施的推動下，預計中國將增加其在全球半導體產能中的份額。SEMI預計中國芯片制造商將在2

31、024年開始運營18個項目，2023年產能同比增長12%，達到每月760萬片晶圓，2024年產能同比增加13%，達到每月860萬片晶圓。中國臺灣預計仍將是半導體產能第二大地區，2023年產能將增長5.6%至每月540萬片晶圓，2024年增長4.2%至每月570萬片晶圓。該地區準備在2024年開始運營五家晶圓廠。韓國的芯片產能排名第三，2023年為每月490萬片晶圓，隨著一家晶圓廠的投產，2024年增長了5.4%為每月510萬片晶圓。日本預計將在2023年和2024年分別以每月460萬片和470萬片的產量位居第四，隨著2024年四家晶圓廠的投產，產能將增長2%。2024年，美洲將新增6家晶圓廠，

32、芯片產能同比增長6%，達到每月310萬片晶圓。隨著四家新晶圓廠的投產，歐洲和中東地區的產能預計將在2024年增長3.6%，達到每月270萬片晶圓。隨著四個新晶圓廠項目的啟動，東南亞準備在2024年將產能提高4%，達到每月170萬片晶圓。FoundryFoundry供應商預計將成為最大的半導體設備買家，供應商預計將成為最大的半導體設備買家，20232023年年產能將增至每月產能將增至每月930930萬片晶圓，萬片晶圓，20242024年產能將達到創紀錄的每月年產能將達到創紀錄的每月10201020萬片晶圓。萬片晶圓。3.1 3.1 晶圓廠產能擴張帶動半導體材料市場規模增長晶圓廠產能擴張帶動半導體

33、材料市場規模增長 統計及預測 圖圖 1515：新增運營晶圓廠個數：新增運營晶圓廠個數 SEMI（國際半導體產業協會）最新數據顯示，2023年全球半導體材料市場銷售額從2022年的727億美元同比下降8.2%，至667億美元，主要因為2023年半導體行業處于去庫存過程中，晶圓廠利用率下降，從而材料消耗下降。2023年，晶圓制造材料銷售額下降7%至415億美元，封裝材料銷售額下降10.1%至252億美元。根據SEMI 數據、CEMIA 數據，中國大陸半導體材料市場規?？焖僭鲩L，從2019年為87 億美元增長至2022年的129.7億美元，年復合增長率為14.24%，預估2023 年規模為148.2

34、 億美元。資料來源：SEMI材料市場數據訂閱(MMDS),2024年5月 3.1 3.1 晶圓廠產能擴張帶動半導體材料市場規模增長晶圓廠產能擴張帶動半導體材料市場規模增長 圖圖 1616：20192019-20232023年全球半導體材料市場規模（單位：十億美元）年全球半導體材料市場規模（單位：十億美元）資料來源：SEMI，CEMIA，龍圖光罩招股說明書（注冊稿），光大證券研究所 圖圖 1717：20172017-20232023年中國半導體材料市場規模年中國半導體材料市場規模 半導體材料可以劃分為制造材料和封裝材料兩部分。其中制造材料包括硅片（也稱晶圓）、電子氣體、掩膜版光刻膠、濕電子化學品

35、以及靶材等。SEMI數據顯示，2018-2022年，全球半導體掩膜版市場規模由40.41億美元增長至49億美元，復合年均增長率達4.9%，預估2023年半導體掩膜版市場規模將繼續增長至50.98億美元。根據龍圖光罩招股說明書，20222022年我國大陸半導體掩膜版市場規模為年我國大陸半導體掩膜版市場規模為15.5615.56億美元，億美元，20232023年預估為年預估為17.7817.78億美元，億美元，同比增長同比增長14.27%14.27%。圖圖 1919：20182018-20232023年全球半導體掩膜版市場規模年全球半導體掩膜版市場規模 3.1 3.1 半導體掩膜版：半導體材料中占

36、比較大的市場半導體掩膜版：半導體材料中占比較大的市場 圖圖 1818：20222022年半導體制造材料市場結構年半導體制造材料市場結構 資料來源：SEMI，華經產業研究院，光大證券研究所 圖圖 2020：20172017-20232023年中國半導體掩膜版市場規模年中國半導體掩膜版市場規模 資料來源：SEMI，CEMIA，龍圖光罩招股說明書（注冊稿），光大證券研究所 資料來源：SEMI，中商產業研究院，光大證券研究所 半導體掩膜版生產廠商可以分為晶圓廠自建配套工廠和獨立第三方掩膜廠商兩大類。由于28nm 及以下的先進制程晶圓制造工藝復雜且難度大，各家用于芯片制造的掩膜版涉及晶圓制造廠的重要工藝

37、機密且制造難度較大，因此先進制程晶圓制造廠商所用的掩膜版大部分由自己的專業工廠內部生產，如英特爾、三星、臺積電、中芯國際等公司的掩膜版均主要由自制掩模版部門提供。對于28nm以上等較為成熟的制程所用的掩膜版，芯片制造廠商為了降低成本，在滿足技術要求下，更傾向于向獨立第三方掩膜版廠商進行采購。根據貝恩咨詢發布的中國半導體白皮書，全球晶圓制造代工收入中28nm 以上制程的收入占比約為55.38%，占據晶圓代工大部分收入。根據根據SEMISEMI 數據數據，在全球半導體掩膜版市場在全球半導體掩膜版市場，晶圓廠自行配晶圓廠自行配套的掩膜版工廠規模占比套的掩膜版工廠規模占比6565%，獨立第三方掩膜廠商

38、規模占比獨立第三方掩膜廠商規模占比3535%。獨立第三方掩膜版市場主要被美國獨立第三方掩膜版市場主要被美國PhotronicsPhotronics、日本日本ToppanToppan 和日本和日本DNPDNP 三家公司所控制三家公司所控制，三者共占八成以上的市場規模三者共占八成以上的市場規模，市場集中度較高市場集中度較高。由于半導體掩膜版具有較高的進入門檻，國內半導體掩膜版主要生產商僅包括中芯國際光罩廠、迪思微、中微掩模、龍圖光罩、清溢光電、路維光電、中國臺灣光罩等。圖圖 2222：全球獨立第三方半導體掩膜版廠商市場格局：全球獨立第三方半導體掩膜版廠商市場格局 3.2 3.2 獨立第三方半導體掩

39、膜版市場中，海外公司占比較高獨立第三方半導體掩膜版市場中，海外公司占比較高 圖圖 2121：全球半導體掩膜版廠商市場格局：全球半導體掩膜版廠商市場格局 資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿），光大證券研究所 資料來源：SEMI，龍圖光罩招股說明書（注冊稿），光大證券研究所 半導體掩膜版行業具有顯著的資本投入大、技術壁壘高、高度依賴專有技術的特點。半導體掩膜版行業具有顯著的資本投入大、技術壁壘高、高度依賴專有技術的特點。晶圓制造廠商自行配套掩膜工廠，主要是出于制作能力的考量，但隨著制程工藝逐漸成熟及第三方掩膜版廠商的制作水平的不斷提升，自建掩膜工廠的諸多弊端逐漸體現，如設備、人工投入巨大，生產環

40、節過于復雜，成本過于昂貴等。第三方半導體掩膜版廠商能充分發揮技術專業化、規?；瘍瀯?，具有顯著的規模經濟效應。在技術水平、產品性能指標符合要求前提下，獨立第三方掩膜版廠商對晶圓制造廠商的吸引力不斷增加。由于掩膜版承載著芯片設計方案和圖形信息，涉及到芯片設計公司的重要知識產權，第三方半導體掩膜版廠商作為芯片設計與芯片制造的中間橋梁，能夠更好地發揮信息隔離功能，芯片設計公司更傾向于將芯片設計版圖交給第三方掩膜廠進行掩模生產以保證自身的信息安全。隨著技術水平不斷提高，第三方獨立掩膜版廠商競爭優勢將不斷體現，市場份額將隨著技術水平不斷提高，第三方獨立掩膜版廠商競爭優勢將不斷體現，市場份額將持續增加。持續

41、增加。表表 5 5：半導體掩膜版行業具有較強抗周期行業特性，需求穩定性較高半導體掩膜版行業具有較強抗周期行業特性，需求穩定性較高 3.2 3.2 半導體掩半導體掩膜膜版行業需求穩定性較高，獨立第三方廠商市場份額增大版行業需求穩定性較高，獨立第三方廠商市場份額增大 資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿），光大證券研究所 特征特征 介紹介紹 半導體產品不斷迭代創新 隨著我國半導體芯片行業的國產替代推進，技術水平、工藝能力不斷進步，芯片設計公司將會不斷推出新的產品，對于掩膜版的產品需求不斷增加。半導體掩膜版具有部分逆產業周期特性 當半導體行業處于下行周期，晶圓制造廠商的產能利用率不足時，為了提升產能

42、利用率，晶圓制造廠商會向眾多的中小芯片設計公司提供晶圓代工服務，從而生產的半導體產品類型亦會增多，相應增加掩膜版的需求量；同時當下游需求低迷時，芯片設計公司將通過設計新產品刺激市場，提升銷量，新產品也會帶來對掩膜版的增量需求。半導體產品種類繁多，應用廣泛 與產品種類較為集中的平板顯示行業相比，半導體行業的產品種類繁多、工藝多樣、應用廣泛，不同類型的產品應用于不同的終端場景，如消費電子、人工智能、汽車電子、新能源、工業制造、無線通信、物聯網等，掩膜版的需求此消彼長，不容易因某單一行業波動而產生較大的需求影響。半導體生產工藝通常采用投影式光刻方法，在投影式光刻中，激光透過掩膜版后，經過投影物鏡成像

43、到晶圓的光刻膠表面，通過掩膜版對光線的遮擋或透過功能，實現掩膜圖案向晶圓線路圖的圖形轉移。半導體掩膜版的技術演進的過程，是不斷解決極限情況下光的干涉與衍射現象、克服物理極限的過程。隨著掩膜版的線寬和線縫越來越小，當尺寸逐漸接近光刻機的波長時，曝光過程中就會出現嚴重的衍射現象。光的衍射現象是指光在傳播過程中，遇到尺寸與波長大小相近的障礙物時，光會傳到障礙物的陰影區并形成明暗變化的光強分布情況。這種情況在投影式光刻中尤為明顯，激光通過掩膜版的透光區和投影物鏡后會出現顯著的夫瑯禾費衍射現象，導致曝光圖形邊緣的分辨率降低，圖案邊緣失真嚴重，CD 精度大幅下降。因此，為為了提高光刻環節曝光圖形的了提高光

44、刻環節曝光圖形的CD CD 精度，必須要對掩膜圖案進行光學鄰近效應修正（精度，必須要對掩膜圖案進行光學鄰近效應修正（OPCOPC）。）。圖圖 2424：由于光的衍射造成的圖像失真及由于光的衍射造成的圖像失真及OPC OPC 效果對比效果對比 3.3 3.3 半導體掩膜版技術難度較大，我國廠商逐步突破半導體掩膜版技術難度較大，我國廠商逐步突破 圖圖 2323：投影式光刻原理圖：投影式光刻原理圖 資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿）資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿）隨著掩膜版圖形越來越復雜、線路密度越來越大，掩膜版的透光區間距離便越來越短，此時曝光過程中就會出現顯著的干涉現象。光的干涉是指兩

45、束相干光相遇而引起光的強度重新分布的現象。當掩膜版的透光區間位置趨于接近時，從相鄰兩個透光區射出的光線頻率相同、振動方向相近、相位差恒定，形成了相干光。兩列或多列相干光在空間相遇時相互疊加，光強在某些區域始終加強，在另一些區域則始終削弱，出現了穩定的強弱分布現象。上述現象會造成晶圓感光時遮光區域仍有曝光、透光區域光強不足的情況，導致整體的對比度降低，CD 精度大幅下降，從而嚴重影響了晶圓的電路圖形質量。當半導體的最小線寬小于當半導體的最小線寬小于130nm 130nm 后，傳統的二元掩膜版（后，傳統的二元掩膜版（Binary MaskBinary Mask）會由于光的干涉現象而無法對晶圓進）會

46、由于光的干涉現象而無法對晶圓進行有效曝光，需要采用相移掩膜版（行有效曝光，需要采用相移掩膜版（Phase Shift Mask,PSMPhase Shift Mask,PSM）來消除曝光光束中的干涉現象，提升）來消除曝光光束中的干涉現象，提升CD CD 精度水平。精度水平。隨著半導體功能的不斷進步，制程能力的不斷提升，半導體器件與集成電路的細微電路圖也越發復雜，晶圓表面需要光刻的圖案由傳統的二維電路圖像發展成含有多層結構的三維電路圖像，這也導致半導體掩膜版的層數不斷增加，對掩模版的套刻精度也提出了更高的要求。圖圖 2626：光刻圖案發展成含有多層結構的三維電路圖像光刻圖案發展成含有多層結構的三

47、維電路圖像 3.3 3.3 半導體掩膜版技術難度較大，我國廠商逐步突破半導體掩膜版技術難度較大，我國廠商逐步突破 圖圖 2525：二元掩膜版和二元掩膜版和PSM PSM 掩膜版的原理掩膜版的原理 資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿）資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿）目錄目錄 1 1、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板 2 2、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展 3 3、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間、半導體掩膜版：晶圓廠持

48、續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間 4 4、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板+半導體雙翼齊飛半導體雙翼齊飛 5 5、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮 清溢光電是國內成立最早掩膜版生產企業之一，公司深耕平板顯示和半導體芯片行業的應用，產品聚焦于低溫多晶硅（清溢光電是國內成立最早掩膜版生產企業之一，公司深耕平板顯示和半導體芯片行業的應用，產品聚焦于低溫多晶硅（LTPSLTPS）、金屬氧化物）、金屬氧化物（IGZOIGZO）、）、有源矩陣有機發光二極體（有源矩陣有機發光二極體（A

49、MOLEDAMOLED）、）、MicroLEDMicroLED 顯示、顯示、Micro OLED Micro OLED 顯示、半導體芯片、顯示、半導體芯片、ChipletChiplet 先進封裝技術等領域。先進封裝技術等領域。受益于廠商加大新品開發力度帶動掩膜版需求增長，公司訂單數量提升，公司2023年實現營收9.24億元，同比增長21%，2024Q1實現營收2.72億元，同比增長49%。公司2023年實現歸母凈利潤1.34億元，同比增長35%，2024Q1實現歸母凈利潤0.50億元，同比增長155%。公司2024Q1毛凈利率分別為30.68%和18.24%，同比增長7.06pct和7.62p

50、ct。圖圖 2828：公司：公司20192019-2024Q12024Q1歸母凈利潤及同比增速歸母凈利潤及同比增速 資料來源：Wind，光大證券研究所 4.1 4.1 清溢光電：國產掩膜版領航者，面板清溢光電：國產掩膜版領航者，面板+半導體雙翼齊飛半導體雙翼齊飛 圖圖 2727：公司：公司20192019-2024Q12024Q1營收及同比增速營收及同比增速 圖圖 2929：公司：公司20192019-2024Q12024Q1毛凈利率毛凈利率 資料來源：Wind，光大證券研究所 資料來源：Wind，光大證券研究所 公司在公司在 8.6 8.6 代及以下平板顯示具備較強的產品技術與制造工藝能力。

51、代及以下平板顯示具備較強的產品技術與制造工藝能力。2023 年，公司平板顯示掩膜版的營業收入為7.31 億元，同比增長25.42%，其中AMOLED/LTPS營業收入為2.97億，同比增長43.91%。公司 AMOLED/LTPS 掩膜版已廣泛應用到下游 AMOLED 和 LTPS 顯示面板的產品上，包括平板電腦、手機、筆記本、手表、智能駕駛等產品。HTM Mask（半色調掩膜版）是公司的戰略性產品，公司擁有多年的技術積累，目前在合肥新工廠進行研發制作。公司開發出了6代AMOLED高精度掩膜版，以掩膜版尺寸為980*1150mm為例，最小線寬尺寸為1.5m，大約相當于一根頭發絲直徑的五十分之一

52、寬度，線寬精度0.08m，位置精度0.2m，缺陷精度0.5m，公司平板顯示掩膜版產品技術優異。資料來源：清溢光電公告，光大證券研究所 4.2 4.2 平板顯示掩膜版：產品量產能力提升，出貨量增長平板顯示掩膜版：產品量產能力提升，出貨量增長 表表 6 6：公司產品及工藝情況：公司產品及工藝情況 產品產品 進度進度 工藝工藝 進度進度 8.6 代高精度 TFT 掩膜版及 6 代中高精度 AMOLED/LTPS 等掩膜版 量產 掩膜基板涂膠工藝 量產 8代TFT-LCD Half tone Mask產品 量產，通過品牌客戶驗證及實際交付 半透膜掩膜版(HTM)產品 多家客戶供貨 先進高規格半透膜掩膜

53、版(HTM)積極布局 6 代 AMOLED 高精度掩膜版 開發完成 高規格相移掩膜版(PSM)技術 積極布局 6 代超高精度 AMOLED/LTPS 等掩膜版 研發 高規格半透膜掩膜版(HTM)規劃研發 圖圖 3030：公司：公司20202020-20232023年平板顯示掩膜版營收及同比增速年平板顯示掩膜版營收及同比增速 資料來源：清溢光電2023年年報，光大證券研究所 公司產品主要應用在 IGBT、MOSFET、碳化硅和 MEMS等半導體芯片領域，涵蓋半導體集成電路凸塊（IC Bumping）掩膜版、集成電路代工（IC Foundry）掩膜版、集成電路載板（IC Substrate）掩膜版

54、、發光二極管（LED）封裝掩膜版及微機電（MEMS）掩膜版等產品。2023 2023 年公司年公司半導體芯片掩膜版的營業收入為半導體芯片掩膜版的營業收入為 1.44 1.44 億元，較上年同期增長億元，較上年同期增長 41.04%41.04%。IC Foundry 產品中，功率器件產品的增長較快，半導體芯片掩膜版的技術研發持續獲得較快進展，產品性能達到業內先進的水平。2023 年，公司持續推進半導體芯片掩膜版產能提升，隨著設備陸續投產，預期半導體芯片掩膜版營業收入有望快速成長。公司已實現公司已實現180nm180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的量產，以及工藝節點半導體芯片掩膜版的量產，以及150

55、nm150nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證與小規模量產，正在推進工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證與小規模量產，正在推進 130nm130nm-65nm 65nm 的的 PSM PSM 和和 OPC OPC 工藝的掩膜版開發和工藝的掩膜版開發和 28nm 28nm 半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃。2023 年上半年，深圳清溢微引進的清洗設備和 AOI 投產，且新引入光刻機在第三季度投產，進一步提升半導體芯片掩膜版的產能。4.2 4.2 半導體掩膜版：把握國產替代機遇，制程不斷突破半導體掩膜版：把握國產替代機遇，制程不斷突破 圖圖 3 31 1

56、：公司：公司20202020-20232023年半導體掩膜版營收及同比增速年半導體掩膜版營收及同比增速 資料來源：清溢光電公告，光大證券研究所 公司的平板顯示掩膜版平板顯示掩膜版產品和技術在業內有較高的知名度。公司的平板顯示行業掩膜版產品包括薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD）掩膜版含陣列（Array）掩膜版（a-Si/LTPS 技術）及彩色濾光片（CF）掩膜版、有源矩陣有機發光二極管顯示器（AMOLED）掩膜 版、超扭曲向列型液晶顯示器（STN-LCD）掩膜版和 Fine Metal Mask 掩膜版、MicroLED 顯示掩 膜版和 Micro OLED 顯示掩膜版等，服務的典型客戶包括

57、京東方、維信諾、服務的典型客戶包括京東方、維信諾、惠科、天馬、華星光電、惠科、天馬、華星光電、信利、龍騰光電、群創光電、瀚宇彩晶。信利、龍騰光電、群創光電、瀚宇彩晶。在平板顯示掩膜版行業，根據 Omdia 2023 年 7 月統計的 2022 年全球平板顯示掩膜版企業銷售金額排名，前五名分別為福尼克斯、SKE、HOYA、LG-IT 和清溢光電，公司位列全球第五名。公司以行業發展趨勢和國家的產業政策為導向，通過持續拓展半導體芯片掩膜版半導體芯片掩膜版的工藝研發能力和先進產品的競爭力，大力發展半導體芯片掩膜版業務。半導體芯片行業掩膜版主要包括半導體集成電路凸塊（IC Bumping）掩膜版、集成電

58、路代工（IC Foundry）掩膜版、集成電路載板（IC Substrate）掩膜版、發光二極管（LED）封裝掩膜版 及微機電（MEMS）掩膜版等。公司與國內重點的 IC Foundry、功率半導體器件、MEMS、MicroLED 芯片、先進封裝 等領域企業均建立了深度的合作關系，服務的典型客戶包括芯聯集成、三安光電、艾克爾、士蘭微、泰科服務的典型客戶包括芯聯集成、三安光電、艾克爾、士蘭微、泰科 天潤、積塔半天潤、積塔半導體、華微電子、賽微電子和長電科技等客戶。導體、華微電子、賽微電子和長電科技等客戶。觸控行業掩膜版主要包括內嵌式觸控面板（In Cell、On Cell）掩膜版、外掛式觸控（O

59、GS、Metal Mesh）掩膜版、觸控屏用納米壓印掩膜版。服務的典型客戶包括京東方、天馬等。電路板行業掩膜版主要包括柔性電路板（FPC）掩膜版、高密度互連線路板（HDI）掩膜版。服務的典型客戶包括紫翔電子、鵬鼎控股等。4.3 4.3 平板顯示銷售額領先，平板顯示及半導體頭部客戶資源豐富平板顯示銷售額領先，平板顯示及半導體頭部客戶資源豐富 類型類型 應用領域應用領域 客戶客戶 平板顯示掩膜版 京東方、維信諾、惠科、天馬、華星光電、信利、龍騰光電、群創光電、瀚宇彩晶 半導體掩膜版 IC 載板、發光二極管 LED、封裝等 三安光電、長電科技 功率器件、濾波器件 中芯國際、士蘭微 觸控行業掩膜版 京

60、東方、天馬 電路板行業掩膜版 紫翔電子、鵬鼎控股 表表 7 7：公司各產品客戶：公司各產品客戶 資料來源：清溢光電公告，光大證券研究所 公司擬在佛山市南海區投資人民幣公司擬在佛山市南海區投資人民幣 35 35 億元建設佛山生產基地項目，包括“高億元建設佛山生產基地項目，包括“高 精度掩膜版生產基地建設項目”和“高端半導體掩膜版生產基地建精度掩膜版生產基地建設項目”和“高端半導體掩膜版生產基地建設項目”。設項目”。其中高精度掩膜版生產基地建設項目一期、二期項目擬購置土地 50 畝（具體面積以最終掛牌面積為 準），自簽訂土地出讓合同之月起，在 12 個月內開工建設、36 個月內投產；高端半導體掩膜

61、版生產基地建設項目一期、二期項目擬購置土地 30 畝（具體面積以最終掛牌面積為 準），自簽訂土地出讓合同之月起，在 12 個月內開工建設、36 個月內投產。目前公司已發布一期項目定增預案。4.3 4.3 產能逐步釋放，量產能力增強產能逐步釋放，量產能力增強 表表 8 8：公司佛山生產基地項目投資規劃公司佛山生產基地項目投資規劃 資料來源：清溢光電公告，光大證券研究所 項目名稱項目名稱 項目期數項目期數 項目金額（億元）項目金額（億元）總投資額（億元）總投資額（億元）高精度掩膜版生產基地建設項目 一期 8 20 二期 3 三期 9 高端半導體掩膜版生產基地建設項目 一期 6.05 15 二期 2

62、.95 三期 6 目錄目錄 1 1、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板、掩膜版：半導體和平板顯示制作的圖形轉移母板 2 2、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展、平板顯示掩膜版：產能轉移帶動國產化需求，技術迭代推動產品發展 3 3、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間、半導體掩膜版：晶圓廠持續擴產，成熟制程存在巨大國產替代空間 4 4、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板、清溢光電：國產掩膜版領航者，面板+半導體雙翼齊飛半導體雙翼齊飛 5 5、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮、路維光電：我國掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”

63、擁抱國產替代浪潮 公司自創立以來，一直致力于掩膜版的研發、生產和銷售。根據基板材料的不同，公司的產品可以分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其它。根據下游應用行業的不同，公司的產品可分為平板顯示掩膜版、半導體掩膜版、觸控掩膜版和電路板掩膜版等。平板顯示掩膜版應用于薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD）制造，包括 TFT-Array 制程和 CF 制程；低溫多晶硅液晶顯示器（LTPS-LCD）制造；有源矩陣有機發光二極管顯示器（AMOLED）制 造；扭曲/超扭曲向列型液晶顯示器（TN/STN-LCD）制造；銦鎵鋅氧化物有機發光二極管顯示器（IGZO-OLED）制造，低溫多晶硅氧化物有機發光二極管顯示器（

64、LTPO-OLED）制造等。半導體掩膜版應用于集成電路（IC）制造、集成電路（IC）封裝、半導體器件制造（包括分 立器件、光電子器件、傳感器及微機電（MEMS）等）及 LED 芯片外延片制造等。觸控掩膜版用于觸摸屏的制造過程；電路板掩膜版用于 PCB 及 FPC 的制造過程。公司公司20232023年實現營收年實現營收6.726.72億元，同比增長億元，同比增長5%5%，2024Q12024Q1實現營收實現營收1.771.77億元，同比增長億元，同比增長30%30%。公司。公司20232023年實現歸母凈利潤年實現歸母凈利潤1.491.49億元，同比增長億元，同比增長24%24%，2024Q1

65、2024Q1實現歸母凈利潤實現歸母凈利潤0.410.41億元，同比增長億元，同比增長45%45%。5.1 5.1 路維光電：國產掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮路維光電：國產掩膜版頭部企業，“以屏帶芯”擁抱國產替代浪潮 圖圖 3232：公司：公司20192019-2024Q12024Q1營收及同比增速營收及同比增速 資料來源：Wind，光大證券研究所 圖圖 3434：公司：公司20192019-2024Q12024Q1毛凈利率毛凈利率 圖圖 3333：公司：公司20192019-2024Q12024Q1歸母凈利潤及同比增速歸母凈利潤及同比增速 資料來源：Wind，光大證券研究所 資

66、料來源：Wind，光大證券研究所 在平板顯示掩膜版方面，公司既可以提供傳統的 TFT LCD 掩膜版，也可以提供 LTPS LCD、AMOLED、Mini/Micro-LED 等中高端平板顯示掩膜版，產品線實現了 G2.5-G11 全世代覆蓋。在高端市場，以 G11 掩膜版為例，因其技術難度大，進入門檻高，長期被少數國際先進掩膜版廠商壟斷。經過多年技術沉淀，公司于公司于 2019 2019 年成功建設年成功建設G11G11掩膜版產線，成為國內第一家掌握掩膜版產線，成為國內第一家掌握G11G11高世代掩膜版生產技術的本土企業，是國內唯一一家高世代掩膜版生產技術的本土企業，是國內唯一一家可以全面配

67、套不同世代面板產線（可以全面配套不同世代面板產線（G2.5G2.5-G11G11）的本土掩膜版企業。）的本土掩膜版企業。根據 Omdia 研究報告，公司 2022 年 G11 掩膜版銷售收入排名全球第三位，市場占有率提升至 21.5%。在全球范圍內，目前僅有5家企業擁有 G11 高世代掩膜版生產能力，分別是DNP、福尼克斯、SKE、LG-IT 及路維光電。在平板顯示領域，公司的主要客戶包括京東方、公司的主要客戶包括京東方、TCL TCL 華星、天馬微電子、信利、上海儀電、昆山龍騰光電股份有限公司等華星、天馬微電子、信利、上海儀電、昆山龍騰光電股份有限公司等。隨著顯示技術發展和新型顯示應用產業的

68、多樣化，預計平板顯示行業中相移掩膜版的使用率將不斷增長。圖圖 3535：按面板技術預測的相移光掩膜片數按面板技術預測的相移光掩膜片數 5.2 G2.55.2 G2.5-G11 G11 全世代平板顯示掩膜版生產能力全世代平板顯示掩膜版生產能力 在半導體領域公司實現了在半導體領域公司實現了 180nm 180nm 及以上制程節點半導體掩膜版量產，并積累了及以上制程節點半導體掩膜版量產，并積累了 150nm 150nm 制程節點及以下成熟制程半導體掩膜版制造關鍵核心技術，制程節點及以下成熟制程半導體掩膜版制造關鍵核心技術，可以滿足國內先進半導可以滿足國內先進半導 體封裝和半導體器件等應用需求。體封裝

69、和半導體器件等應用需求。公司與國內某些領先芯片公司及其配套供應商、中芯集成電路（寧波）有限公司、通富微電、晶方科技、華天科技等國內諸多主流廠商建立了緊密的合作關系，共同推動國內半導 體產業的發展。面對產業鏈上下游逐步實現進口替代的發展機遇，公司充分利用自身的產業背景，進一步完善和提升產業布局。2023年公司通過產業基金路維盛德間接投資江蘇路芯半導體技術有限公司130nm-28nm制程節點的半導體掩膜版產線項目，該項目預計總投資人民幣20億元。公司的主要客戶包括國內某些領先芯片公司及其配套供應商、中芯集成電路（寧波）有限公司、晶方科技、華天科技、通富微電、三安光電等。圖圖 3636：半導體多層光

70、刻原理圖：半導體多層光刻原理圖 5.3 5.3 持續發力半導體掩膜版領域，產品逐步量產持續發力半導體掩膜版領域，產品逐步量產 資料來源：龍圖光罩招股說明書（注冊稿）5.4 5.4 注重研發投入，多款產品技術持續突破注重研發投入，多款產品技術持續突破 突破光阻涂布原材料技術突破光阻涂布原材料技術 掩膜版的原材料是掩膜基板，即涂有光阻和鍍鉻的玻璃基板，光阻有一定的時效性，失效后會影響產品質量。與國內的競爭對手相比，目前公司已掌握掩膜版光阻涂布技術，一方面可以降低掩膜基板特別是大尺寸掩膜基板的采購成本，這是因為公司可以向供應商采購鍍鉻的玻璃基板后自行進行光阻涂布，減少了供應商的光阻涂布工序，因此與采

71、購常規的涂有光阻和鍍鉻的玻璃基板相比，采購價格相應降低；另一方面，公司可根據生產需求對基板重新光阻涂布后進行加工，大幅提升了材料利用效率，減少了產品不良率。對標對標HOYAHOYA、LGLG-ITIT 等具備研磨等具備研磨、拋光拋光、鍍鉻鍍鉻、光阻涂布等掩膜版全產業鏈技術能力的國際領先掩膜版廠商光阻涂布等掩膜版全產業鏈技術能力的國際領先掩膜版廠商，公司公司以光阻涂布技術為突破點以光阻涂布技術為突破點，逐步向原材料基礎技術延伸逐步向原材料基礎技術延伸，以提升公司的全產業鏈技術能力。平板顯示用相移掩膜平板顯示用相移掩膜 PSMPSM 平板顯示用相移掩膜版，主要用于提升下游曝光機分辨率，屬于光刻分辨

72、率增強技術（RET）的一種，此類掩膜版一方面可以提升傳統液晶面板廠的制程工藝能力，豐富其產品種類；另一方面，也可以應用于AMOLED及LTPO等新型顯示面板工廠，幫助其減小晶體管尺寸，提升像素密切度和開口率，隨著顯示技術發展和新型顯示應用產業的多樣化，預計平板顯示行業中相移掩膜版的使用率將不斷增長。公司已公司已自主開發衰減型相移掩膜版自主開發衰減型相移掩膜版(ATT(ATT PSM)PSM)工藝核心技術工藝核心技術，可應用于可應用于180180nmnm及以下節及以下節點半導體用掩膜版點半導體用掩膜版，目前正在穩步推進平板顯示用相移掩膜版產品的開發，并已取得相應進展，進一 步豐富公司產品種類。圖圖 3737：公司掩膜版生產工藝流程：公司掩膜版生產工藝流程 資料來源：路維光電招股說明書