從光刻膠的發展歷程看，20 世紀 50 年代至今，光刻技術經歷了紫外全譜（300-340nm），G 線（436nm），I 線（365nm），深紫外（Deep Ultraviolet，DUV，248nm 和 193nm），以及目前最引人注目的極紫外（EUV，13.5nm）光刻，電子束光刻等六個階段，隨著光刻技術發展，各曝光波長的光刻膠組分（成膜樹脂、感光劑和添加劑等）也隨之變化。