干式ArF光刻機出貨量(臺):2023年ASML、 持續研發投入轉化為可持續領先優勢。ASML 持續加大研發力度,2023 年ASML 研發費用 39.8 億歐元,研發費用率 14.4%,顯著高于尼康的 10.7%、佳能的 7.9%。持續研發投入體現為高端光刻機領域的壟斷,目前 EUV 光刻機僅 ASML 具備生產能力,次高端的浸入式 ArFi 光刻機、干式 ArF 光刻機尼康具備少量出貨能力,而佳能專注于中低端的 KrF 和 I-line,不涉及 EUV和 ArF 等尖端產品。 行業數據 下載Excel 下載圖片 原圖定位