光刻膠是什么東西？應用領域有哪些？

1 光刻膠是什么?

光刻膠是影響光刻效果的核心要素之一，在電子產業中占據重要地位，是我國重點發展的電子產業關鍵材料之一。光刻膠具有光化學敏感性，是一類混合液體，光刻膠利用光化學反應，通過光刻工藝（曝光、顯影等），將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。

2 光刻膠的主要成分

(1)溶劑：溶液是容量最大的成分，由于光引發劑和添加劑都是固態物質，為了方便均勻的涂抹在器件表面，要將它們加入溶劑進行溶解，形成液態物質，且使之具有良好的流動性

(2)光引發劑：光引發劑是核心部分，在特定波長光形式的輻射能下會產生光化學反應，改變成膜樹脂在顯影液中的溶解度

(3)成膜樹脂;樹脂是一種惰性的聚合物基質，是用來將其它材料聚合在一起的粘合劑，決定曝光后光刻膠的基本性能

(4)添加劑：單體對光引發劑的光化學反應有調節作用;助劑是根據不同用途添加的顏料、分散劑等，用于調節光刻膠整體性能

3 光刻膠的分類

(1)從光刻膠的發展歷程看，光刻技術經歷了紫外全譜(300-340nm)，G 線(436nm)，I 線(365nm)，深紫外(Deep Ultraviolet，DUV，248nm 和 193nm)，以及目前最引人注目的極紫外(EUV，13.5nm)光刻，電子束光刻等六個階段.

(2)根據反應機理和顯影原理，光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠。正性光刻膠形成的圖形與掩膜版(光罩)相同，負性光刻膠顯影時形成的圖形與掩膜版相反。

(3)根據感光樹脂的化學結構，光刻膠可分為光聚合型，光分解型和光交聯型和化學放大型。

(4)根據應用領域的不同，光刻膠可分為 PCB 光刻膠、LCD 光刻膠和半導體光刻膠。PCB 光刻膠主要包括干膜光刻膠、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨。LCD 領域光刻膠主要包括彩色光刻膠和黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠、TFT-LCD 光刻膠。半導體光刻膠包括普通寬普光刻膠、g 線(436nm)、i 線(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)及最先進的 EUV(<13.5nm)光刻膠，級越往上其極限分辨率越高，同一面積的硅晶圓布線密度越大，性能越好

4 如何評價光刻膠的核心性能特性

可從靈敏度、對比度、分辨能力、曝光寬容度、工藝寬容度、熱流動性、膨脹效應、黏度、保證期限等幾個方面評價光刻膠的核心性能特性

5 光刻膠應用領域

光刻工藝是微圖形加工中最核心的技術之一，顯示面板、晶圓、PCB 板、MEMS 微機電裝置的制造過程中有廣泛的應用。

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