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1、 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。1 20232023 年年 1212 月月 0101 日日 電子電子 行業專題行業專題 芯片制造核心瓶頸環節，光刻機國產芯片制造核心瓶頸環節，光刻機國產替代加速推進替代加速推進 證券研究報告證券研究報告 投資評級投資評級 領先大市領先大市-A A 維持維持評級評級 首選股票首選股票 目標價（元）目標價（元）評級評級 688167 炬光科技 139.30 買入-A 603005 晶方科技 26.37 買入-A 300990 同飛股份 48.30 買入-A 003031 中瓷電子 142.6 買入-A 行業表現行業表現 資料來源：Win

2、d 資訊 升幅升幅%1M1M 3M3M 12M12M 相對收益相對收益 2.6 11.3 13.4 絕對收益絕對收益 0.2 3.6 4.1 馬良馬良 分析師分析師 SAC 執業證書編號：S1450518060001 郭旺郭旺 分析師分析師 SAC 執業證書編號：S1450521080002 相關報告相關報告 美國政府 30 億美元投資先進封裝，全球手機市場或迎來復蘇拐點 2023-11-26 VIVO 發布首款 AI 大模型手機，小米汽車亮相工信部新車目錄 2023-11-19 中芯國際上調全年資本開支預計，Meta VR 或于明年底引進國內 2023-11-12 整車互連技術趨勢及元器件投

3、資機遇 2023-11-09 長鑫存儲獲大基金增資，新2023-11-05 光刻機是芯片制造核心設備，對制程升級發揮關鍵作用：光刻機是芯片制造核心設備，對制程升級發揮關鍵作用：在芯片制造過程中，光刻工藝是最關鍵的一步，能夠將圖案從光掩模高精度地轉移到襯底（通常是硅片）上。芯片工藝升級的主要目標之一是在半導體器件上實現更小的特征尺寸，具有先進技術的光刻機，如極紫外（EUV）光刻，允許更短的光波長，從而能夠創建更小的圖案并實現更高的分辨率，對芯片制程升級發揮關鍵作用。DUV 光刻機通過多重曝光最高實現 7nm 制程，而波長更短的 EUV 光刻機可以實現 5nm 及以下制程。全球全球光刻機市場光刻機

4、市場超過超過 200200 億美元，億美元，ASMLASML 壟斷高端市場壟斷高端市場：2022 年全球光刻機市場超過 200 億美元，ASML、Canon、Nikon 三大巨頭壟斷了大部分市場份額，光刻機營收分別達到了 161 億美元、20 億美元、15 億美元，市場份額分別為 82%、10%、8%。在超高端的 EUV 光刻機上，基本上 ASML 處于壟斷地位。國產國產 2 28 8nmnm immersionimmersion 式式光刻機實現突破光刻機實現突破：國產光刻機在技術節點上與國際廠商相比仍有差距，其中上海微電子是國內光刻機龍頭企業，其 SSX600 系列光刻機可滿足 IC 前道制

5、造 90nm、110nm、280nm 關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求，可用于 8 寸線或 12 寸線的大規模工業生產。在之前 90nm 的基礎上，上海微電子即將量產 28nm immersion 式光刻機，在 2023 年交付國產第一臺 SSA/800-10W 光刻機設備。國內廠商在多個光刻機零部件環節實現突破國內廠商在多個光刻機零部件環節實現突破：全球光刻機零部件市場規模約 124 億美元，在零部件市場上，國內廠商已經在多個環節實現突破。茂萊光學研發的 DUV 光學透鏡已應用于 SMEE 國產光刻機中，公司半導體檢測設備光學模組供貨KLA，公司投影鏡分辨率達到 30nm 以下，而國外的 ZE

6、ISS 分辨率小于 0.25nm；目前針對 EUV 光源，國內也有研究機構取得一定進展。早在 2017 年，中國科學院長春光學精密機械與物理研究所的“極紫外光刻關鍵技術研究”獲得國家 02 專項的驗收，從而推進了我國對 EUV 的技術研發；福光股份有望為光刻機等領域提供高精密光學鏡頭及光學系統；蘇大維格向 SMEE 提供定位光柵部件，公司光柵尺周期精度小于 1nm，且公司納米壓印技術國內領先；而-11%-1%9%19%29%39%2022-122023-042023-072023-11電子電子滬深滬深300300 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。2 行業專題行業專題

7、/電子電子 光學晶體方面，福晶科技可供貨 LBO 晶體、BBO 晶體、Nd:YVO4 晶體、磁光晶體；激光器方面，炬光科技提供的光源不均勻度控制在 1%以下，國外 FLSBA 的光源不均勻度在 3%5%；晶方科技子公司控制的 Anteryon 為全球同時擁有混合鏡頭、晶圓級微型光學器件工藝技術設計、特性材料及量產能力的技術創新公司，其產品可廣泛應用于半導體精密設備，目前為 ASML 持續供貨。奧普光電為國內高端光柵編碼器龍頭，公司光柵編碼器（用于測量對準精度）精度為 1um/m，國外海德漢公司精準度為 3um/m。投資建議投資建議：光刻機是“工業王冠上的寶石”,是芯片制造中最復雜、最昂貴的設備

8、，國產替代勢在必行，推薦炬光科技（688167）、晶方科技（603005）;建議關注茂萊光學（688502）、福晶科技（002222）；光刻機光學鏡頭關注福光股份（688010）；光刻機光源系統關注波長光電（301421），奧普光電（002338）；合分束器關注騰景科技（688195）;溫控設備推薦同飛股份（300990）;陶瓷零部件推薦中瓷電子（003031），建議關注旭光電子（600353）；直寫光刻設備建議關注芯碁微裝（688630）、蘇大維格（300331）等。風險提示：風險提示：研發技術風險、運營資金風險、市場價格變動風險、供應鏈存在的風險、政策風險。機潮有望帶動消費電子復蘇 zVe

9、WcX8VaUfYsQnNmNtNqQbRdN7NsQmMpNpMjMnMoMlOqQtP7NqRqQuOmPqPvPpMrR行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。3 內容目錄內容目錄 1.光刻機：芯片制程升級的核心設備.7 1.1.光刻機將電路圖案轉移硅片上，是芯片制程升級的核心設備.7 1.2.光刻機的主要技術指標包含分辨率、光刻機精度、產能.8 1.3.光刻機演進歷程:從接觸式到 EUV.10 2.光刻機市場達 200 多億美元，ASML 壟斷高端市場.13 2.1.光刻機約占半導體設備市場 24%.13 2.2.ASML 壟斷高端光刻機

10、，國產光刻機 28nm 取得突破.13 3.2022 年全球光刻機零部件市場約 124 億美元，光源、光學、雙工臺是核心系統.15 3.1.光刻機系統構成.15 3.2.光源系統：為光刻機提供合適波長和穩定光線.19 3.3.光學系統：為光刻機提供精確投影和高效曝光.22 3.4.雙工臺：助力光刻機實現高效并行處理.24 4.相關標的.25 4.1.茂萊光學：國內工業級精密光學龍頭，半導體、AR/VR 成長空間廣闊.25 4.2.福晶科技：全球光學晶體龍頭，精密光學元件廣泛布局 VR/AR、半導體設備等領域.27 4.3.福光股份：航天級高端鏡頭領導者，引領 AI、泛半導體超高精密光學國產替代

11、 29 4.4.炬光科技：稀缺激光元器件廠商，激光雷達+泛半導體+醫美多產業布局.32 4.5.晶方科技：晶圓級封裝龍頭，汽車攝像頭、微型光學鏡頭、GaN 器件打開成長空間.34 4.6.蘇大維格：納米壓印光刻龍頭，業務涉及半導體、無人駕駛、AR/VR 檢測等多領域.36 4.7.奧普光電：光刻機核心部件供應商，業務涵蓋半導體、航空航天、醫療等多個領域.39 4.8.波長光電：精密光學元件、組件主要生產商，主營業務營收穩步增長.40 4.9.旭光電子：電真空+軍工+電子陶瓷共同發力，發射管、氮化鋁結構件打入半導體設備供應鏈.42 4.10.騰景科技：精密光學元件主要提供商之一，半導體+AR 有

12、望打開成長空間.44 4.11.同飛股份：數控溫控裝備龍頭，半導體器件制造設備專用溫控設備供應商.45 4.12.中瓷電子：電子陶瓷產品龍頭，資源整合切入化合物半導體領域.47 4.13.芯碁微裝：國產直寫光刻設備龍頭，業務布局包括 PCB、泛半導體與光伏域.49 5.風險提示.51 5.1.研發技術風險.51 5.2.運營資金風險.51 5.3.市場價格變動風險.51 5.4.供應鏈存在的風險.51 5.5.政策風險.51 圖表目錄圖表目錄 圖 1.ASML 旗下 EUV 光刻機.7 圖 2.光刻工藝流程圖.8 圖 3.光刻工藝技術圖.8 圖 4.TWINSCAN NXT2100i 光刻機內

13、部結構.8 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。4 圖 5.可見光譜圖.9 圖 6.物鏡系統.9 圖 7.雙頻激光干涉儀原理框圖.9 圖 8.LIGO 激光干涉儀.9 圖 9.Nikon 基于 Tandem Stage 的雙工件臺光刻機.10 圖 10.接觸式光刻示意圖.11 圖 11.接近式光刻示意圖.11 圖 12.深紫外（DUV）光刻術.12 圖 13.浸沒式光刻的技術原理及系統結構.12 圖 14.EUV 光刻機原理.13 圖 15.半導體市場主要設備占比.13 圖 16.全球光刻機三大供應商市場占比.14 圖 17.上海微電子 60

14、0 系列光刻機.15 圖 18.光刻機總體結構.16 圖 19.科益虹源準分子激光器.17 圖 20.Cymer193nm 準分子激光器.17 圖 21.炬光科技光場勻化器.17 圖 22.ASML 大孔徑物鏡系統.18 圖 23.ASML TWINSCAN NXE:3600D.18 圖 24.2018-2022 年 ASML 銷售毛利率.19 圖 25.納米級電驅動光源.19 圖 26.光刻機結構.20 圖 27.高壓汞燈光刻光源系統結構圖.20 圖 28.紫外激光器照明系統結構圖.20 圖 29.OSRAM 超高壓汞燈.21 圖 30.XLA 105HP 激光器.21 圖 31.ASML

15、的 EUV 系統.21 圖 32.Gigaphoton 的 EUV 光源系統.21 圖 33.高 NA EUV 光學系統.22 圖 34.攝像機物鏡內部結構.22 圖 35.投影物鏡.22 圖 36.第二代 EUV 光學曝光的圖形拼接技術.23 圖 37.福晶科技 LBO 晶體.23 圖 38.炬光科技半導體激光元器件.23 圖 39.雙工件臺示意圖.24 圖 40.TWINSCAN 雙工件臺內部結構.24 圖 41.Nikon 基于 Tandem Stage 的雙工件臺光刻機.24 圖 42.ASML 雙工件臺.25 圖 43.國產雙工件臺.25 圖 44.茂萊光學公司發展歷程.25 圖 4

16、5.茂萊光學營收及同比增速（單位：萬元）.26 圖 46.茂萊光學歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.26 圖 47.福晶科技發展歷程.28 圖 48.福晶科技營收及同比增速（單位：萬元）.28 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。5 圖 49.福晶科技歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.28 圖 50.福光股份公司發展歷程.30 圖 51.福光股份營收及同比增速（單位：萬元）.30 圖 52.福光股份歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.30 圖 53.2022 年福光股份營收占比.31 圖 54.炬光科技銷售網絡遍布全球.32 圖 55.炬

17、光科技營收及同比增速（單位：萬元）.33 圖 56.炬光科技歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.33 圖 57.集成電路封裝在產業鏈中的角色.34 圖 58.晶方科技營收及同比增速（單位：萬元）.35 圖 59.晶方科技歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.35 圖 60.2022 年晶方科技營收占比.35 圖 61.Anteryon 光表面處理技術.36 圖 62.公司產業布局圖.36 圖 63.蘇大維格營收及同比增速（單位：萬元）.37 圖 64.蘇大維格歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.37 圖 65.新材料應用場景.37 圖 66.光刻機應用場景圖.38 圖 67.奧普光電發展歷程.3

18、9 圖 68.奧普光電營收及同比增速（單位：萬元）.39 圖 69.奧普光電歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.39 圖 70.公司產品應用場景.41 圖 71.波長光電營收及同比增速（單位：萬元）.41 圖 72.波長光電歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）.41 圖 73.旭光電子發展歷程.42 圖 74.旭光電子營收及同比增速.43 圖 75.旭光電子歸母凈利潤及同比增速.43 圖 76.2022 旭光電子營收占比.43 圖 77.2022，2021 年旭光電子產品營收及毛利率.43 圖 78.騰景科技主營產品應用領域.44 圖 79.騰景科技營收及同比增速.45 圖 80.騰景科技歸母凈

19、利潤及同比增速.45 圖 81.公司發展歷史.46 圖 82.同飛股份營收及同比增速.46 圖 83.同飛股份歸母凈利潤及同比增速.46 圖 84.中瓷電子發展歷程.48 圖 85.中瓷電子營收及同比增速.48 圖 86.中瓷電子歸母凈利潤及同比增速.48 圖 87.公司直寫光刻技術下游應用包括 PCB、泛半導體、光伏等.50 圖 88.芯碁微裝營收及同比增速.50 圖 89.芯碁微裝歸母凈利潤及同比增速.50 圖 90.直寫光刻的優勢.51 圖 91.WLP2000.51 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。6 表 1：2022 年全球三大

20、光刻機廠商出貨量.14 表 2：光刻機分系統及其作用.16 表 3：茂萊光學主要產品.26 表 4：福晶科技主要產品.29 表 5：福光股份核心技術.31 表 6：炬光科技半導體激光核心技術.33 表 7：蘇大維格公司主要產品及應用.37 表 8：奧普光電非球面超精密鐵磨設備和多自由度快速研拋設備.40 表 9：公司產品介紹.42 表 10：旭光電子產品一覽.44 表 11：騰景科技分束器.45 表 12：公司產品及應用場景.47 表 13：中瓷電子消費電子陶瓷外殼及基板主要產品特點及應用領域.49 表 14：推薦標的盈利預測及估值.51 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份

21、有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。7 1.1.光刻機：光刻機：芯片制程升級的芯片制程升級的核心設備核心設備 1.1.1.1.光刻機光刻機將將電路圖案轉移電路圖案轉移硅片上，是芯片制程升級的核心設備硅片上，是芯片制程升級的核心設備 光刻機是芯片制造的核心設備。光刻機是芯片制造的核心設備。光刻機的主要功能是將圖案從光掩模高精度地轉移到襯底（通常是硅片）上，它也被稱為掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（

22、即芯片）。光刻機在芯片制程升級中發揮關鍵作用。光刻機在芯片制程升級中發揮關鍵作用。芯片工藝升級的主要目標之一是在半導體器件上實現更小的特征尺寸。具有先進技術的光刻機，如極紫外（EUV）光刻，允許更短的光波長，從而能夠創建更小的圖案并實現更高的分辨率。圖圖1.1.ASML 旗下旗下 EUV 光刻機光刻機 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 光刻是制造芯片的核心技術之一，是一種精密的微細加工技術。它采用類似照片沖印的技術，將電路圖形轉移到硅片或介質層上，以實現電路圖形的刻畫和復制。光刻機的工作原理是采用波長為 20004500 埃的紫外光作為圖像信息載體，以光刻蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實

23、現圖形的變換、轉移和處理，最終把圖像信息傳遞到晶片（主要指硅片）或介質層上的一種工藝。光刻環節直接決定芯片的制成水平和性能水平，耗時占整個制造環節的一半，成本占據芯片生產的三分之一。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可以繼續涂膠、曝光。越復雜的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。8 圖圖2.2.光刻工藝流程圖光刻工藝流程圖 資料來源：半導體行業觀察，安信證券研究中心 光刻機技術原理是基于光學投影技術，通

24、過特殊設計的鏡頭系統和精密的光學系統，將掩模上的電路圖形高精度地轉移到硅片上的光刻膠上。光刻機需要采用高級鏡頭技術、高精度對準技術等，以實現更高的分辨率和更精確的圖案轉移。此外，光刻機還需要采用一系列關鍵技術來提高分辨率和圖案轉移的精度，如光學鄰近效應修正（OPC）技術可以補償鄰近物鏡像差和非線性效應，使實際投影圖像與理想圖像更加接近。圖圖3.3.光刻工藝技術圖光刻工藝技術圖 圖圖4.4.TWINSCAN NXT2100i 光刻機內部結構光刻機內部結構 資料來源：電子科技大學，安信證券研究中心 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 1.2.1.2.光刻機的主要技術指標包含光刻機的主要技術

25、指標包含分辨率、光刻機精度分辨率、光刻機精度、產能、產能 光刻機的性能是基于以下關鍵性能指標來評估，分別是光刻機的分辨率、光刻機精度（包含覆蓋精度和對準精度）、產能。根據瑞利準則，分辨率公式為 R=k1*/NA，代表光源波長，NA 代表物鏡的數值孔徑，k1 代表與光刻工藝因子。分辨率是光刻機精確定義精細特征和行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。9 圖案能力的關鍵指標。對于 EUV 光刻，極紫外光源的波長是一個關鍵的性能參數。較短的波長允許更小的特征尺寸和更好的分辨率。高分辨率也要求物鏡擁有更大的直徑、更多的物鏡組合以及更加先進的物鏡工藝。圖圖

26、5.5.可見光譜圖可見光譜圖 圖圖6.6.物鏡系統物鏡系統 資料來源：Freepik，安信證券研究中心 資料來源：ZEISS 官網，安信證券研究中心 精度：精度包括覆蓋精度以及對準精度。覆蓋精度測量機器在硅片上對齊和準確定位多個掩模層，對于半導體器件的不同層精確對齊至關重要。對準精度衡量光刻機對掩模和基板的對準精度。以光雙工件臺系統為例，工件臺和掩模臺只有同步運動才能保證良率。而其精度要通過激光干涉儀來測量以確保其誤差在可控范圍之內。通常激光干涉儀精度10nm能支撐90nm光刻機，1nm 能支撐 7nm 光刻機。ASML 的 EUV 光刻機的激光干涉儀的有效位移測量分辨力為38pm。圖圖7.7

27、.雙頻激光干涉儀原理框圖雙頻激光干涉儀原理框圖 圖圖8.8.LIGO 激光干涉儀激光干涉儀 資料來源：復旦大學工程與應用技術研究院上海市超精密運動控制與檢測工程研究中心，安信證券研究中心 資料來源：牧夫天文，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。10 產能:產能通過處理量來體現。主要指光刻機處理晶圓的速度，以每小時(WPH)的晶圓來衡量，對于半導體制造的整體效率至關重要，更高的吞吐量允許更快的生產和更低的每芯片成本。光刻機的晶圓需要按部就班進行測量、對準、曝光程序，因此在一定程度上限制了光刻機的產能。自 21 世紀初，ASML

28、 推出雙工件臺光刻機的產能實現跨越式的提升。系統可以通過雙工件臺實現各個程序同步進行。圖圖9.9.Nikon 基于基于 Tandem Stage 的雙工件臺光刻機的雙工件臺光刻機 資料來源：芯制造，安信證券研究中心 1.3.1.3.光刻機光刻機演進演進歷程歷程:從接觸式到從接觸式到 EUVEUV 光刻機最早的歷史要追溯到上世紀。1955 年，貝爾實驗室將制造印刷電路板的光刻技術應用到矽片上。3 年后，仙童半導體制造了第一臺“步進重復”光刻照相機。20 世紀 60 年代，GCA公司制造出第一臺接觸式光刻機。在此之后，尼康和佳能加入光刻機行業研究。隨后，尼康推出了第一臺步進式光刻機。1984 年

29、ASML 成立，并于 21 世紀初推出雙工件臺光刻機。2003年 ASML 推出浸沒式光刻機，至此 ASML 奠定光刻機統治地位。十年后，世界上第一臺 EUV 量產產品由 ASML 推出，其壟斷地位進一步加強。接觸光刻（接觸光刻（19501950 年代）：年代）：最早的光刻技術，它是一種通過直接物理接觸將圖案從光掩模(具有所需圖案的掩模)轉移到襯底(如硅片)的方法。在接觸光刻機中，光掩膜和承印物彼此直接物理接觸。掩模直接放在基板的頂部，紫外線通過掩模照射，將圖案轉移到基板上。該工藝通常用于較小特征的圖案，并且通常與較舊的半導體制造工藝相關聯。由于光的衍射以及在不損壞掩?；蚓那闆r下進行直接接

30、觸的挑戰，它在實現精細分辨率方面存在局限性。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。11 圖圖10.10.接觸式光刻示意圖接觸式光刻示意圖 資料來源：世界先進制造技術論壇，安信證券研究中心 接近光刻機：接近光刻機：接近光刻技術將圖案從光掩模轉移到硅片，掩模和襯底之間具有小間隙。在近距離光刻機中，光掩膜靠近基板而不是直接接觸基板。與接觸式光刻相比，鄰近光刻具有一些優勢，例如降低掩模和基板損壞的風險，以及與接觸式光刻相比能夠實現更小的特征尺寸。這種方法在接觸光刻后不久出現，增加了掩模和晶片之間的距離以防止損壞，但面臨類似的分辨率限制。圖圖11.11.

31、接接近近式光刻示意圖式光刻示意圖 資料來源：世界先進制造技術論壇，安信證券研究中心 步進步進掃描光學光刻（掃描光學光刻（19801980 年代至年代至 19901990 年代）：年代）：掃描投影光刻技術是一種高分辨率、高通量的工藝，該技術使用掃描過程，其中掩模和基板保持靜止，投影系統掃描基板上的圖案。掃描投影光刻機通過以步進重復的方式掃描光掩模圖案在基板上進行操作，其中基板逐漸移動以暴露不同區域。深紫外（深紫外（DUVDUV）光刻術（）光刻術（2020 世紀世紀 9090 年代至年代至 20102010 年代）：年代）：隨著對更小特征的需求，光刻術進入了深紫外光譜，最初在 248nm 左右，然

32、后逐漸發展到 193nm 等更短的波長。這些進步允許更精細的細節，但需要復雜的光學系統來處理更短的波長。2000 年 8 月，阿斯麥爾的首臺 TWINSCAN 系統光刻機出貨，這是光刻機行業的一大進步。此前的光刻機都只有一個工件臺，而阿斯麥爾創新為雙工件臺，在一個工件臺進行 12 英寸晶圓曝光的同時，另外一個工件臺進行曝光之前的預對準工作，生產效率可驚人地提高大約 35%。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。12 圖圖12.12.深紫外（深紫外（DUV）光刻術）光刻術 資料來源：電子發燒友，安信證券研究中心 浸沒式光刻：浸沒式光刻：為了進一步

33、提高分辨率，引入了浸沒式光刻。在透鏡和晶片之間使用液體（通常是水）代替空氣，從而可以有效地使用更短的波長。2004 年，光刻機廠商阿斯麥爾率先研制出浸沒式光刻機改進成熟并順利投入使用。雙重圖案化和多重圖案化：雙重圖案化和多重圖案化：作為一種突破分辨率限制的解決方案，這些方法包括將圖案分割為多次曝光，以實現比單次曝光更精細的特征。圖圖13.13.浸沒式光刻的技術原理及系統結構浸沒式光刻的技術原理及系統結構 資料來源：Nikon，中國科學院大學微電子學院，安信證券研究中心 極紫外（極紫外（EUVEUV）光刻（）光刻（20102010 年代至今）：年代至今）：EUV 光刻利用了約 13.5nm 的極

34、短波長，在不依賴復雜的多重圖案化的情況下實現了更小的特征。依靠 EUV 光刻機，已經能實現 7nm 及以下更加精細制程。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。13 圖圖14.14.EUV 光刻機原理光刻機原理 資料來源：ASML，安信證券研究中心 2.2.光刻機光刻機市場市場達達 2 20000 多多億美元億美元，ASMLASML 壟斷高端市場壟斷高端市場 2.1.2.1.光刻機光刻機約占半導體設備市場約占半導體設備市場 2 24 4%據 SEMI 發布的數據顯示，2013-2022 年全球半導體設備市場規模由 318 億美元增長至 1074億

35、美元，CAGR 為 14.5%；同期中國大陸半導體設備規模由 34 億美元增長至 283 億美元，CAGR為 26.5%，顯著高于全球水平。隨著消費電子、PC 等下游市場的繁榮和 5G、AI、云計算等新應用領域的拓展，全球半導體需求持續增長，進而推動了半導體廠商的資本開支進入上升周期，半導體設備市場規模也隨之提升。2022 年全球光刻機市場規模約為 258 億美元。半導體設備=制造設備+封測設備，根據 SEMI數據，2022 年全球半導體設備市場中，晶圓制造設備市場規模占比超過 85%，在晶圓制造的所有設備中，市場投資占比最高的是光刻機、刻蝕機和薄膜沉積設備，占整個半導體設備比重分別為 24%

36、、20%和 20%，這三種設備合計市場規模占整個半導體設備比重為 64%。結合此前 SEMI 給出的 2022 年半導體設備市場 1074 億美元的數據，按此比例測算，半導體光刻機2022 年市場規模達到 258 億美元。從國內來看，如果按照 2022 年半導體設備國內占全球 26%來測算，中國大陸光刻機設備市場規模約為 67 億美元。圖圖15.15.半導體半導體市場主要設備占比市場主要設備占比 資料來源：SEMI，安信證券研究中心 2 2.2 2.ASMLASML 壟斷高端光刻機，國產光刻機壟斷高端光刻機，國產光刻機 2 28 8nmnm 取得突破取得突破 根據 SEMI 預測，在全球光刻機

37、市場中，ASML、Canon、Nikon 三大巨頭壟斷了大部分市場份額。據統計，2022 年全球光刻機市場規模超過 200 億美元，其中 ASML、Canon、Nikon 光刻24%20%20%9%21%6%光刻機光刻機刻蝕機刻蝕機薄膜沉積設備薄膜沉積設備測試設備測試設備其他設備其他設備封裝設備封裝設備行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。14 機營收分別達到了 161 億美元、20 億美元、15 億美元，市場份額分別為 82%、10%、8%。在出貨量方面，ASML、Canon、Nikon 分別占據了 63%、32%、5%的市場份額。從 EUV

38、、ArFi、ArF三個高端機型的出貨情況來看，ASML 仍然維持領先地位，出貨量分別占 100%、95%、87%。從2022 年收入來源看，中國大陸占 ASML 銷售額的 14%。2022 年 ASML 光刻機營收約 161 億美元，較 2021 年 131 億增長 23%。共出貨 345 臺光刻機，其中 EUV 光刻機出貨 40 臺，ArFi 光刻機出貨 81 臺，ArF 光刻機出貨 28 臺，KrF 光刻機出貨151 臺，i-line 光刻機出貨 45 臺。2022 年 Canon 光刻機營收約為 20 億美元。Canon 的光刻機主要是 i-line、KrF，光刻機出貨量達 176 臺。

39、其中，i-line 出貨 125 臺。Canon 面板（FPD）用光刻機出貨 51 臺。2022 年 Nikon 光刻機業務營收約 15 億美元。Nikon 光刻機主要用于集成電路，共出貨 30 臺。其中 ArFi 光刻機出貨 4 臺，ArF 光刻機出貨 4 臺，KrF 光刻機出貨 7 臺，i-line 光刻機出貨15 臺。圖圖16.16.全球光刻機三大供應商市場占比全球光刻機三大供應商市場占比 資料來源：中國光刻機研究報告，安信證券研究中心 2022 年該三家廠商市場份額占比分別為 82%、10%和 8%，以 ASML 為首形成壟斷格局。其中，超高端光刻機 EUV 領域中 ASML 獨占鰲頭

40、，高端光刻機 ArFi 和 ArFdry 領域也主要由 ASML 占領，Canon 主要集中在 i-line 光刻機領域，Nikon 除 EUV 外均有涉及。表表1 1：2 2022022 年全球三大光刻機廠商出貨量年全球三大光刻機廠商出貨量 光刻機種類光刻機種類 類型類型 A ASMLSML N Nikonikon C Canonanon 超高端 EUV 40 高端 ArFi 81 4 ArF dry 28 4 中低端 KrF 151 7 51 i-line 45 15 125 總計 345 30 176 資料來源：ASML 官網，Nikon 官網，Canon 官網，安信證券研究中心 國產光

41、刻機在技術節點上與國際廠商相比仍有差距，其中上海微電子是國內光刻機龍頭企業，其 SSX600 系列光刻機可滿足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求，可用于 8 寸線或 12 寸線的大規模工業生產。在之前 90nm 的基礎上，上海微電子即將量產 28nm immersion 式光刻機，在 2023 年交付國產第一臺 SSA/800-10W 光刻機設備。ASML,82%Nikon,8%Canon,10%行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。15 圖圖17.17.上海微電子上海微電子 600 系列光刻機系

42、列光刻機 資料來源：上海微電子官網，安信證券研究中心 3.3.2022022 2 年年全球全球光刻機零部件市場約光刻機零部件市場約 124124 億美元，光源、光學、雙工臺億美元，光源、光學、雙工臺是核心系統是核心系統 3.1.3.1.光刻機系統構成光刻機系統構成 光刻機系統復雜，包含光源系統、照明系統、投影物鏡系統、工件臺和掩模臺分系統、調平調焦分系統、掩模與硅片對準分系統、硅片傳輸與預對準系統分系統、整機環境分系統。（1）光源系統：光刻機中的關鍵組件，在光刻機中發揮著提供光線、控制光線波長及強度、提高曝光效率、保障曝光質量等關鍵作用。光源發出的光穿過光掩模的透明區域，形成圖案化的圖像。（2

43、）照明系統：它位于光源與投影物鏡之間，是復雜的非成像光學系統。作用主要是為投影物鏡提供合適的光線，以便其能夠準確地成像。在光刻機中，物鏡的性能決定了光刻機的線寬和套刻精度，是光刻機的核心部件，而照明系統則為物鏡提供合適的光源，協助其完成高精度的成像任務。（3）投影物鏡系統：投影物鏡系統是光刻機中的核心組件之一，它的作用是將芯片圖案通過光學原理放大并投影到硅片上。在投影物鏡系統中，通常由多個透鏡和反射鏡組成，這些鏡片被精確地排列和校準，以確保投影的準確性和清晰度。（4）工件臺：工件臺是光刻機中用于放置硅片的重要部件，其作用是在光刻過程中支撐和固定硅片，以確保光刻的精度和質量。工件臺通常由高精度的

44、機械結構組成，具有高穩定性和高精度性。在工件臺上，硅片被精確地定位和固定，以避免在光刻過程中出現移動或變形。此外，工件臺還具有溫度控制、震動抑制等功能，以確保光刻過程中的環境穩定。目前先進的光刻機采用了雙工件臺系統，進一步提高光刻機生產效率和產能。（5）掩模臺分系統：掩模臺主要用于承載掩模板，并確保在光刻過程中掩模板的穩定性和精度。在光刻機工作時，掩模臺會按照預設的程序進行自動操作，包括掩模板的裝載、定位、固定，以確保掩模板的位置和角度的準確性。（6）調平調焦分系統：調平調焦分系統是光刻機中用于精確調整工件臺和掩模臺位置的重要部分，以確保在光刻過程中能夠實現高精度的投影和成像。（7）掩模與硅片

45、對準分系統：掩模與硅片對準分系統是光刻機中用于確保掩模板和硅片精確對準的關鍵部分，以確保在光刻過程中能夠實現高精度的投影和成像。在對準分系統中，常用的技術包括光學對準、電子顯微鏡對準等。這些技術可以通過對掩模板和硅片的表面進行掃描和檢測，以實現高精度的對準。（8）硅片傳輸與預對準系統分系統：光刻機中的硅片傳輸和預對準系統負責確保硅片的高精度投影和成像。傳輸系統將硅片從軌道機傳遞到預對準平臺，預對準系統則通過光學測量和傳感器技術對硅片進行準確的定位和調整，以確保其在光刻機中的正確位置和角度。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。16（9）整機環境

46、分系統：光刻機中的整機環境分系統通過控制溫度、濕度、清潔度和真空度等參數，確保光刻過程的精度和成像質量。這些控制子系統的協調工作能夠為光刻機提供穩定的加工環境，從而確保高精度的光刻效果。圖圖18.18.光刻機總光刻機總體結構體結構 資料來源：長春光機所，安信證券研究中心 表表2 2：光刻機分系統及其作用光刻機分系統及其作用 分系統分系統 作用作用 光源系統 為光刻機提供曝光能量，光刻機的核心部件之一。照明系統 對激光的擴束、高均勻高強度均勻照明，并提供特定照明方式；主要包括傳輸光路，光束矯正器、光束整形、能量探測與計量控制、照明均勻器、掩模光闌等。投影物鏡系統 由 2030 塊鏡片組成，把掩膜

47、版上的電路圖按比例縮小，再投影到硅片上，并且可 以補償各種光學誤差。工件臺和掩模臺 分系統 實現掩模-硅片的同步掃描、步進運動、對準掃描、執行調平調焦、協助硅片下片 等。調平調焦分系統 通過調整硅片臺的六個自由度，保證曝光場在所要求焦深范圍內，進而保證曝光 質量。掩模與硅片對準 分系統 將掩模上的圖像和晶圓上已有的圖形對準，以保證曝光后圖像之間的準確套刻。硅片傳輸與預對 準系統分系統 將硅片從片盒傳送到工件臺，并完成機械預對準和光學預對準，使硅片與機器坐標 系初步對準，并進入到對準系統范圍內，再將已曝光的硅片從工件臺傳送回片盒。整機環境分系統 將工作臺與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾

48、，并控制溫度、壓力、濕 度等。包括封閉框架、減震裝置等。資料來源：于新峰高數值孔徑光刻投影物鏡成像理論及像質補償和檢測技術研究，安信證券研究中心 光刻機被譽為人類科技的巔峰，其工藝之巔主要體現在三大系統光源系統、光學系統、雙工件臺系統。光源系統主要為光刻機提供曝光能量，光刻機的核心部件之一。常見波長有 7 種，紫外線 3種：G 線（波長 436nm），H 線（405nm），I 線（365nm）；深紫外（DUV）三種：248nm，193nm，157nm；極紫外（EUV）一種：13.5nm。一般來說，波長越短，分辨率越高。準分子激光器通常用來提供深紫外光源,而 EUV 光源主要提供 13.5nm

49、的 EUV 光。光刻機光源壁壘高，準分子激光器主要由 Cymer 和 Gigaphoton 提供，科益虹源則為國內供應商。超高端光刻機 EUV 領域中 ASML 獨占鰲頭，高端光刻機 ArFi 和 ArFdry 領域也主要由 ASML 占領，Canon 主要集中在 i-line 光刻機領域，Nikon 除 EUV 外均有涉及。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。17 圖圖19.19.科益虹源科益虹源準分子激光器準分子激光器 圖圖20.20.Cymer193nm準分子激光器準分子激光器 資料來源：中工網，安信證券研究中心 資料來源：Cymer

50、官網，安信證券研究中心 照明系統是光學系統中的一環。照明系統的關鍵功能之一是提供光源的均勻照明，覆蓋整個光掩膜和基片。均勻性對于確保圖案轉移準確、無畸變和無缺陷至關重要。光源設備方面：波長光電成功開發了光刻機平行光源系統，可用于國產光刻機領域配套。炬光科技的光場勻化器供貨給世界頂級光學公司并最終應用于 ASML 核心設備。圖圖21.21.炬光科技光場勻化器炬光科技光場勻化器 資料來源：炬光科技 2021 年年報，安信證券研究中心 投影物鏡系統由 2030 塊鏡片組成，把掩膜版上的電路圖按比例縮小，再投影到硅片上，并且可以補償各種光學誤差。國外 ZEISS 為 ASML 關鍵光學元件獨供商，國內

51、而言賽微電子的子公司 Silex 為全球光刻龍頭公司提供微鏡系統。茂萊光學研發的 DUV 光學透鏡已應用于 SMEE 國產光刻機中，公司半導體檢測設備光學模組供貨 KLA。福光股份作為國內領先的光學企業之一，具備提供高精度光學鏡頭和光學系統的能力，有望為光刻機等領域提供高精密光學鏡頭及光學系統?？傮w來說，國內技術水平仍有較大差距。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。18 圖圖22.22.ASML 大孔徑物鏡系統大孔徑物鏡系統 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 工件臺和掩模臺分系統可以實現掩模-硅片的同步掃描、步進運動、對準掃描、執行

52、調平調焦、協助硅片下片等。其有效提高了光刻精度與效率，國外光刻機雙工件臺由 ASML 壟斷，國內華卓精科和清華大學團隊走在前列。硅片傳輸與預對準系統分系統將硅片從片盒傳送到工件臺，并完成機械預對準和光學預對準，使硅片與機器坐標系初步對準，并進入到對準系統范圍內，再將已曝光的硅片從工件臺傳送回片盒。測量準度的儀器為光柵尺。奧普光電為國內高端光柵編碼器龍頭。蘇大維格向 SMEE 提供定位光柵部件，公司光柵尺周期精度小于 1nm，且公司納米壓印技術國內領先。圖圖23.23.ASML TWINSCAN NXE:3600D 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 全球的半導體設備市場集中度較高，TO

53、P5 廠商的市占率之和超過 75%，它們的毛利率也較為穩定，因此參考全球半導體設備 TOP5 廠商的毛利率估算半導體設備的成本率。除了第五大廠商科天半導體毛利率超過 60%，前四大廠商毛利率基本都在 40%-50%范圍內。按照 2021 年的銷售額對 TOP 廠商的毛利率進行加權，得到半導體設備的毛利率約為 46.5%，即成本率約為 53.5%。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。19 以 ASML 為例，2023Q3 凈銷售額為 67 億歐元，毛利率為 51.9%，ASML 制造成本里 90%來自零部件，因此假設光刻機零部件成本占比 90%

54、。根據 SEMI 數據，2022 年全球半導體市場規模為 1074 億美元，其中光刻機市場規模為 258 億美元。根據公式:光刻機零部件市場規模=光刻機設備市場規模*成本率*設備中零部件成本占比，結合以上分析，得到:2022 年全球光刻機零部件市場規模=258 億美元 x53.5%x90%=124.23 億美元。圖圖24.24.2018-2022 年年 ASML 銷售毛利率銷售毛利率 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心測算 3.2.3.2.光源系統光源系統：為光刻機提供合適波長和穩定光線：為光刻機提供合適波長和穩定光線 光源系統是光刻機中的核心組件之一，它負責提供特定波長和強度的光線，

55、以實現半導體制造過程中的精確曝光，決定了光刻機的分辨率。根據瑞利準則，分辨率公式為：R=k1*/NA，代表光源波長，NA 代表物鏡的數值孔徑，k1 代表與光刻工藝因子。其中常見波長有 7 種，紫外線 3 種：G 線（波長 436nm），H 線（405nm），I 線（365nm）；深紫外（DUV）三種：248nm，193nm，157nm；極紫外（EUV）一種：13.5nm。一般來說，波長越短，分辨率越高。圖圖25.25.納米級電驅動光源納米級電驅動光源 資料來源：The Journal of Physical Chemistry Letters，安信證券研究中心 46%44.70%48.60%5

56、2.70%50.50%51.90%40%40%42%42%44%44%46%46%48%48%50%50%52%52%54%54%20182018201920192020202020212021202220222023Q32023Q3行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。20 光源在光刻機中具有以下作用：1.光源：光刻機的光源會向光板發射光線，成為曝光過程的主要來源。2.波長控制：精確控制光源的波長，通過改變光源的溫度、電流等參數來調整波長。3.提高曝光效率：高強度、穩定的光源可以提高曝光效率，通過調節光源的電流、電壓等參數來控制光線的強度，實

57、現更快速和準確的曝光。4.保障曝光質量：光源的波長穩定、強度穩定、光斑大小均會影響曝光質量，它通常包括一系列光學元件和反饋控制系統，用于監測和控制光線的穩定性。5.延長光刻機使用壽命：使用合適、穩定的光源可以減少機器的損耗，避免機器因過多的光源調整而損壞。圖圖26.26.光刻機結構光刻機結構 資料來源：錦緞研究院，安信證券研究中心 光源系統內部構造包括發光二極管（LED）和光學系統。LED 是光源系統的核心部分，它是一種電致發光的半導體材料，通過針腳作為正負電極并起到支撐作用。LED 的發光原理是，在p 型半導體和 n 型半導體之間有一個過渡層，稱為 p-n 結。當在電極上加上正向偏壓之后，使

58、電子和空穴分別注入 P 區和 N 區，當非平衡少數載流子與多數載流子復合時，就會以輻射光子的形式將多余的能量轉化為光能。光學系統用于調整光線的形狀和大小，以適應光刻機的物鏡系統。它通常包括一系列透鏡和反射鏡，用于將光線聚焦成所需的光斑形狀和大小。此外，控制系統用于控制光源系統的穩定性和精度。它通常包括一系列傳感器和控制電路，用于監測和控制光線的波長、強度和穩定性。圖圖27.27.高壓汞燈光刻光源系統結構圖高壓汞燈光刻光源系統結構圖 圖圖28.28.紫外激光器照明系統結構圖紫外激光器照明系統結構圖 資料來源：半導體工藝與設備，安信證券研究中心 資料來源：半導體工藝與設備，安信證券研究中心 光源分

59、類：汞燈、準分子激光器、EUV 光源。1.汞燈：作為光刻機目前最普遍的光源，汞燈發光的常見波長為 365nm、405nm、436nm。對汞燈通電時，系統中電子激發產生光。此種造光方式通常會釋放大量熱量因此需要冷卻系統維護，由于長時間釋放熱量，汞燈的壽命的效率也會下降。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。21 2.準分子激光器：準分子激光器通常用來提供深紫外光源。準分子具有激發態結合為分子、在基態離解為原子的性質。激光器利用其性質使其發生激光躍遷釋放出特定波長的光。準分子激光一般分為三種：KrF（248nm）、ArF（193nm）、F2（157

60、nm）。3.EUV 光源：此光源主要提供 13.5 nm 的 EUV 光。工作原理：通過高功率 CO2 激光照射錫（Sn）微滴產生光源。以 LPP 方案為例，真空腔內熔融錫液滴從發生器中噴射出來，通過低強度預脈沖撞擊使其膨脹成薄餅型（薄餅錫受光面積大可明顯增大光強），緊接著高強度脈沖撞擊形成等離子體，最后收集鏡捕獲等離子體發出輻射并傳遞至曝光系統。圖圖29.29.OSRAM 超高壓汞燈超高壓汞燈 圖圖30.30.XLA 105HP 激光器激光器 資料來源：OSRAM 官網，安信證券研究中心 資料來源：Cymer 官網，安信證券研究中心 光刻機光源壁壘高，光刻機光源系統的技術復雜性、高精度和高穩

61、定性要求、知識產權壁壘、供應鏈壁壘以及市場規模相對較小等因素，共同導致了光刻機光源的高壁壘。這些因素使得新進入該領域的企業面臨較大的市場風險和不確定性，從而使得整個光刻機光源行業的競爭格局相對穩定。國外 Gigaphoton（EUV 光源供應商之一）激光器功率達 27kW：Gigaphoton 成立以來一直為 ASML、Nikon 和 Canon 提供激光光源。共設計三款 EUV 光源，分別為 Proto#1、Proto#12、Pilot#1,其中 Pilot#1 為商業化應用的產品，激光器功率為 27kw，輸出功率達到 250W。目前EUV 光源只有兩家公司能夠生產：一家是美國 Cymer，

62、另外一家是日本 Gigaphoton,Cymer 2013 年被 ASML 收購，目前占據了光刻機光源 80%以上的市場。目前國內而言，科益虹源可提供 193nmArF 準分子激光器,打破壟斷。圖圖31.31.ASML 的的 EUV 系統系統 圖圖32.32.Gigaphoton 的的 EUV 光源系統光源系統 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 資料來源：Gigaphoton 官網，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。22 3.3.3.3.光學系統光學系統：為光刻機提供精確投影和高效曝光：為光刻機提供精確投影和高效

63、曝光 光學系統在光刻機中發揮著至關重要的作用，是光刻機高分辨率成像的保證，直接影響著芯片制造的精度、質量和可靠性。它主要由透鏡、反射鏡、平凸透鏡等光學元件組成，通過精確控制光線的聚焦、照明和曝光時間，將芯片設計圖案高精度地投射到掩模上。具體作用包括圖像顯影、分辨率控制、曝光控制、穩定性與可靠性、照明控制等。圖圖33.33.高高 NA EUV 光學系統光學系統 資料來源：ZEISS 官網，安信證券研究中心 光學系統=照明系統+投影物鏡。其中照明系統通過調整光的形狀、對光束進行擴束、控制曝光劑量與提升光的均勻度從而提供穩定照明；投影物鏡分為接觸式和非接觸式，功能是將掩模版圖案倍縮并投影聚焦在晶圓上

64、。圖圖34.34.攝像機物鏡內部結構攝像機物鏡內部結構 圖圖35.35.投影物鏡投影物鏡 資料來源：ASML,ZEISS 官網，安信證券研究中心 資料來源：ZEISS 官網，安信證券研究中心 光學系統是光刻機中重要的部分之一，主要包括以下幾種類型：1.投影光學系統 投影光學系統是光刻機中應用最廣泛的光學系統之一。它利用光源、透鏡、反射鏡等組件，將掩模上的芯片圖案縮小并映射到硅片上，從而實現芯片制造。2.掃描光學系統 掃描光學系統是一種新型的光學系統，它采用高速掃描的方式將掩模圖案投影到硅片上。掃描光學系統具有高速、高精度和高穩定性等優點，已經成為現代芯片制造中不可或缺的重要設備。相較于傳統的投

65、影光學系統，掃描光學系統具有更高的制造效率和更高的精度。3.干涉光學系統 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。23 干涉光學系統是一種基于干涉原理的光學系統，它利用光的干涉來實現芯片圖案的制造。干涉光學系統具有高精度和高穩定性等優點，已經成為一些特殊領域，如微納制造、光子晶體制造等中不可或缺的重要設備。圖圖36.36.第二代第二代 EUV 光學曝光的圖形拼接技術光學曝光的圖形拼接技術 資料來源：ZEISS 官網，安信證券研究中心 技術壁壘而言，分為以下 2 個方面：投影物鏡：隨著分辨率要求不斷提高，投影物鏡需要不斷疊加才能滿足要求，光學材料、

66、加工已經接近工業極限，所以技術提升難度較大。照明系統：對光有三個要求，分別是光均勻度、光形狀的調整、掃描條形光的控制。就供應商而言，國內投影物鏡供貨商為茂萊光學，分辨率達到 30nm 以下，而國外的 ZEISS 分辨率小于 0.25nm；而光學晶體方面，福晶科技可供貨 LBO 晶體、BBO 晶體、Nd:YVO4 晶體、磁光晶體，而 Cristal Laser S.A.公司可供 KTA 晶體、RTP 晶體、LBO 晶體、BBO 晶體；激光器方面，炬光科技光源不均勻度控制在 1%以下，國外 FLSBA 的光源不均勻度在 3%5%。圖圖37.37.福晶科技福晶科技 LBO 晶體晶體 圖圖38.38.

67、炬光科技炬光科技半導體激光元器件半導體激光元器件 資料來源：福晶科技官網，安信證券研究中心 資料來源：炬光科技官網，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。24 3.4.3.4.雙工臺雙工臺：助力光刻機實現高效并行處理：助力光刻機實現高效并行處理 雙工臺系統在光刻機中扮演了重要角色，有效提升了光刻機的生產效率。傳統光刻機只有一個工件臺，所有的步驟，如晶圓的上下片、測量、對準和曝光，都是順序進行的。然而，雙工臺系統的設計使得大部分的測量和校正工作可以與曝光工作并行進行。以 TWINSCAN 雙工件臺為例，當一號工作臺在曝光位置進行

68、步進掃描曝光時，二號工作臺可以在測量位置完成硅片的上下片、三維形貌測量等工作。一旦一號工作臺完成硅片的曝光，兩個工作臺再交換位置和職能，如此循環往復，實現了硅片的高效曝光。因此，雙工臺系統的設計顯著提高了光刻機的產能。圖圖39.39.雙工件臺示意圖雙工件臺示意圖 圖圖40.40.TWINSCAN 雙工件臺內部結構雙工件臺內部結構 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 資料來源：半導體設備與材料，安信證券研究中心 雙工臺內部構造主要包括以下幾個主要部分：1 雙工臺載臺：雙工臺載臺是雙工臺系統的核心部件，它承載著硅片在光刻機中的運輸和定位任務。雙工臺載臺通常由高精度的機械結構組成，以確保在光

69、刻機工作過程中的精度和穩定性。2.定位系統：雙工臺系統的定位系統是用來確定硅片在載臺上的位置和姿態的。它通常由一系列的傳感器和執行器組成，可以實現對硅片的精確控制和調整。3.搬運系統：雙工臺系統的搬運系統是用來將硅片在載臺之間進行轉移的。它通常由一系列的機械手臂和驅動器組成，可以實現對硅片的快速和準確的搬運。4.控制系統：雙工臺系統的控制系統是用來控制整個系統的運動和工作的。它通常由一系列的控制器和傳感器組成，可以實現對系統的精確控制和調整。5.安全系統：雙工臺系統的安全系統是用來保證系統在工作過程中的安全性的。它通常由一系列的安全傳感器和執行器組成，可以實現對系統的安全監控和控制。圖圖41.

70、41.Nikon 基于基于 Tandem Stage 的雙工件臺光刻機的雙工件臺光刻機 資料來源：ZEISS 官網，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。25 評價雙工件臺的技術水平主要是晶圓的轉移速度和對準精度，而其技術壁壘也是主要來自這2 方面。就轉移速度而言，要滿足 DUV 光刻機曝光成像速度，晶圓平臺需以 7g 加速度移動才能匹配成像速度。而雙工件臺對于精度要求也很高。其一是芯片在制造中由于需要疊加所以會產生偏移，一般是數千納米的偏移，而對精度要求是 1-2nm；其二由于晶圓表面高低不平，晶圓表面不同位置的光阻高度相差

71、 500nm 以上，精度要求小于 100nm。目前國內能供貨雙工件臺的只有華卓精科，可用于 65nm 光刻機應用；而 ASML 可供貨亞納米光刻機工件臺。奧普光電的光柵編碼器（用于測量對準精度）精度可達 1um/m，國外海德漢公司精準度為 2um/m。圖圖42.42.ASML 雙工件臺雙工件臺 圖圖43.43.國產雙工件國產雙工件臺臺 資料來源：ASML 官網，安信證券研究中心 資料來源：華卓精科官網，安信證券研究中心 4.4.相關標的相關標的 4.1.4.1.茂萊光學：國內工業級精密光學龍頭，半導體、茂萊光學：國內工業級精密光學龍頭，半導體、A AR/VRR/VR 成長空間廣闊成長空間廣闊

72、茂萊光學成立于 1999 年，2015 年 6 月 1 日，茂萊光學完成股改變更為股份制公司，并于 2023年 3 月 9 日在上交所上市。公司是國內領先的精密光學綜合解決方案提供商，專注于精密光學器件、光學鏡頭和光學系統的研發、設計、制造及銷售。目前公司產品主要為定制化工業級精密光學產品，主要覆蓋六大細分應用場景，包括半導體、生命科學、航空航天、無人駕駛、生物識別、AR/VR 檢測。從客戶結構來看，公司客戶遍布中東、美國、歐洲等地，各下游領域核心客戶包括 Align、華大智造、Camtek、KLA、上海微電子、Microsoft、Meta 等大型企業。圖圖44.44.茂萊光學茂萊光學公司發展

73、歷程公司發展歷程 資料來源：茂萊光學招股書，安信證券研究中心 從公司的財務數據來看，公司業務發展迅速，收入規模不斷擴大，市場份額持續提升。2020-2022 年，公司營業收入分別約為 2.46 億元、3.31 億元和 4.39 億元，歸母凈利潤分別為 0.42行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。26 億元、0.47 億元、0.59 億元。從公司營業總收入來看，2016 年至 2022 年公司營業總收入實現了七連增，歸母凈利潤也呈現上升趨勢。從業務類型來看光學器件、光學鏡頭和光學系統占據公司 98.23%的營收，其中光學器件營收占比在降低而技術

74、更先進的光學系統營收占比相對提升。從公司下游應用領域收入來看，生命科學、半導體及 AR/VR 檢測是公司前三大下游應用，公司半導體與生命科學領域產品銷售提升較快，而航空航天業務收入占比在不斷降低。2023Q3 公司實現營收 1.21 億元，同比-7.89%，環比+5.73%；實現歸母凈利潤 0.08 億元，同比-70.83%，環比-47.32%。公司 Q3 營收同比下降，歸母凈利潤大幅下降主要系公司對半導體領域保持高強度投入，導致管理/研發費用大幅提升。分下游應用來看，公司前三季度半導體、生命科學、AR/VR 檢測生物識別、航空航天、無人駕駛領域收入占比分別為 35.35%、29.32%、9.

75、63%、8.85%、5.68%、3.34%。其中半導體和航空航天領域需求旺盛，半導體收入同比增長46.71%，航空航天收入同比增長 62.96%。圖圖45.45.茂萊光學茂萊光學營收及同比增速（單位：萬元）營收及同比增速（單位：萬元）圖圖46.46.茂萊光學茂萊光學歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 從公司產品結構來看，公司主要為客戶提供定制化的精密光學器件、光學鏡頭和光學系統。光學鏡頭方面公司透鏡、平片、棱鏡應用于光刻機，客戶有康寧集團、上海微電子等，并為半導體檢測設備提供高精度鏡頭、

76、光學系統等，客戶有 Camtek、KLA 等，配套國內主流設備公司。在精密光學器件方面，茂萊光學憑借其精湛的研發和制造技術，能夠提供包括透鏡、棱鏡和平片（包括多光譜濾光片、熒光濾光片、太空反射鏡等）在內的精密光學器件。這些器件具有高面型、高光潔度、高性能鍍膜等優秀特性，被廣泛應用于光刻機、高分衛星、探月工程、民航飛機等國家重大戰略發展領域。公司研發的 DUV 光學透鏡已應用于 SMEE 國產光刻機中，公司半導體檢測設備光學模組供貨 KLA。表表3 3：茂萊光學主要產品茂萊光學主要產品 精密光精密光學器件學器件 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 半導體DUV 光學透鏡 產品選用高純度石英、Ca

77、F2 材料，經由高質量拋光、半導體紫外光譜段鍍膜后可實現高面型與表面光潔度，口徑在 100mm-300mm，達到深紫外波段要求。窄帶多光譜濾光片 該產品可將多個譜段濾光區域集成于同一片基底材料上，產品平均透過率達 92%，具有高陡度、帶外響應小、譜段之間的防干擾間隔小等特點，可滿足我國資源調查、天文氣象等方面的遙感需求。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。27 高精度干涉組合鏡 該產品主要功能為改善光學系統像質，減少光能損失，增加成像清晰度，保護刻度面。公司所使用的光膠技術可實現最多 10 個光學器件的膠合，光學平行差在 2以內，實現干涉，保

78、證檢測精度。精密光精密光學學鏡頭鏡頭 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 顯微物鏡系列 該產品主要功能為顯微成像，倍率涵蓋 2X-30X，齊焦距離 45、60、95mm，工作波長覆蓋 360nm1,100nm，在 20X物鏡系列中分辨率可達到 335nm，視場 1.25mm。3D 檢測鏡頭 該產品主要功能為實時在線檢測，滿足在線檢測緊湊化、小型化、易配置的要求。該系列鏡頭具備超小工作距離、大景深、大視場、大相對孔徑的特點，根據使用要求，還可以內置分光棱鏡、偏振器件等。紫外鏡頭 該產品為 I-line 譜段（365nm）使用的紫外高端鏡頭，具有分辨率高、數值孔徑值大的特點，可以對紫外光學系統的色

79、差進行校正，保證系統良好的性能。光學系光學系統統 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 基因測序光機引擎 產品包含物鏡、筒鏡及照明組件，同時配置相應的自動對焦系統以及移動平臺，通過生物熒光濾光片組對可檢測譜段進行篩選，精準定位堿基。該產品主要功能為探索目標對象基因序列，實現篩選特征片段、針對性治療/識別特征基因片段等生物學研究及應用。半導體檢測光學模組 該產品具備視場范圍廣、測試分辨率高的特點，通過模塊化的設計，幫助客戶降低整個測試系統的成本和維護頻率，且大幅減少了維護時間，同時使檢測儀器對微小缺陷的控制能夠達到較高的水平。AR/VR光學檢測設備 該產品包含成像質量測試模塊、視差測試模 塊、自動

80、對準模塊、被測物夾持六維調整模 塊、防碰撞傳感器模塊等，為 AR/VR 可穿戴設備的研發/生產各階段提供多功能/可自動化的一站式測試?？蛇M行亮度、色度、對比度、均勻度、像素和線條缺陷等標準測試，以及用于 AR/VR 顯示分析的測試，包括傾斜邊緣對比度、圖像失真以及圖像殘留等測試。資料來源：茂萊光學招股說明書，安信證券研究中心 4.2.4.2.福晶科技福晶科技：全球光學晶體龍頭，精密光學元件廣泛布局全球光學晶體龍頭，精密光學元件廣泛布局 V VR/ARR/AR、半導體設備、半導體設備等領域等領域 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。28 福晶科

81、技 1990 年由中國科學院福建物質結構研究所（簡稱：中國科學院物構所）出資設立，2008 年 3 月福晶科技股份有限公司在深圳中小板上市。公司主要從事晶體元器件、精密光學元件及激光器件等產品的研發、生產和銷售。公司深耕非線性光學晶體三十余年，是全球知名的 LBO 晶體、BBO 晶體、Nd:YVO4 晶體、磁光晶體、精密及超精密光學元件、高功率光隔離器、聲光及電光器件的龍頭廠商。公司是國內少數能夠提供“晶體+光學元件+激光器件”一站式綜合服務的供應商。公司產品不斷豐富，下游應用逐步拓寬，客戶覆蓋全球龍頭廠商，包括相干、通快、光譜物理和銳克激光等。圖圖47.47.福晶科技發展歷程福晶科技發展歷程

82、 資料來源：福晶科技官網，安信證券研究中心 從公司的財務數據來看，2022 年度，公司實現營業收入 7.68 億元，同比+11.57%，公司營業收入保持九年增長，主要原因為公司在激光行業上游，近年來受到國內激光行業迅速發展，客戶需求旺盛。公司 2022 年實現歸母凈利潤 2.26 億元，同比+18.30%，公司不斷拓展產品線，下游應用遍布激光行業、光通信、汽車電子、消費電子等領域。2023 年 Q3 公司實現營業收入 2.07 億元，同比略微下降；歸母凈利潤 0.53 億元，較去年同比-26.49%。公司 Q3 業績有所下降，主要系公司加大對于生物醫療、半導體、光通信等新應用領域布局力度，從而

83、使費用端出現較大增長。從盈利能力來看，23Q3 公司銷售毛利率、凈利率分別為 55.98%，29.07%，相較去年同比均有下降。圖圖48.48.福晶科技福晶科技營收及同比增速（單位：營收及同比增速（單位：萬萬元）元）圖圖49.49.福晶科技福晶科技歸母凈歸母凈利潤及同比增速（單位：利潤及同比增速（單位：萬萬元）元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 福晶科技，作為激光行業上游的主要業務提供商，公司的產品涵蓋了晶體元器件、精密光學元件和激光器件三大類別。福晶科技的光學元件可以用于制造光刻機中的光學部分，包括投 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信

84、證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。29 影鏡頭和顯微鏡等關鍵部件。公司與中科晶創、物構所投資設立福建睿創光電科技有限公司，開展衍射光學及微光學等產品的開發、生產和銷售業務，衍射光學元件(Diffractive Optical Elements,DOE)是光刻機中一系列可動的鏡片，主要用于產生光刻所需要的光源。目前公司產品間接供貨給 ASML。表表4 4：福晶科技福晶科技主要產品主要產品 產品名稱產品名稱 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 非線性光學晶體、激光晶體、雙折射晶體、磁光晶體、聲光及電光晶體、閃爍晶體等 產品主要用途為作為固體激光器的工作物質、非線性頻率轉換、磁光材料、電光材

85、料等。產品主要細分應用市場為固體激光器、光纖激光器等 非球面透鏡、球面透鏡、柱面透鏡、反射鏡、窗口片、棱鏡、波片、偏振鏡、分光鏡、光柵等 產品主要用途為應用于激光器諧振腔、準直聚焦、光路傳輸、光束整形、偏振轉換、分光合束等。產品主要細分應用市場為固體激光器、光纖激光器、光通訊、AR/VR、激光雷達、半導體設備、光學檢測設備、分析儀器、生命科學等 磁光器件、聲光器件、電光器件、驅動器、光開關、光學鏡頭(掃描場鏡、擴束鏡）、光纖傳輸器件等 產品主要用途為光纖與固體激光器的聲光調制器、電光調制器、Q 開關、隔離器等。產品主要細分應用市場為固體激光器、光纖激光器、光通訊等 資料來源：福晶科技招股書，安

86、信證券研究中心 4.3.4.3.福光股份：航天級高端福光股份：航天級高端鏡頭領導者，引領鏡頭領導者，引領 A AI I、泛半導體超高精密光學國產替、泛半導體超高精密光學國產替代代 福光股份源于國營八四六一廠，成立于 2004 年，并于 2020 年 2 月 26 日在上交所科創板成功上市。是集研發、生產、銷售于一體的光學產品制造商。通過多年的技術積累和產品升級，福光股份已經具備了較強的研發實力，并成功開發了一系列高性能的光學產品。其中包括 1.5億像素超高清連續變焦鏡頭、共口徑雙光譜連續變焦鏡頭以及輕量化特種一體機變焦鏡頭、一系列輕量化特種一體機變焦（22x、30 x、36x）鏡頭，目前已完成

87、 30 x 特種一體機變焦鏡頭樣機的研制、20X、30 x 超長焦 K 級（130 萬像素）高清中波紅外變焦鏡頭及輕小型大視場 K級高清中波紅外變焦鏡頭樣機等。公司主要產品包括光學鏡頭、光學元組件、激光器及激光光學組件等，可廣泛應用于安防、科研、工業、醫療、航空航天、半導體等領域?？蛻舴矫?，公司為客戶提供“定制產品”與“非定制產品”兩大系列。其中“定制產品”系列主要包括特種光學鏡頭及光電系統，廣泛應用于“神舟系列”、“嫦娥探月”、“天問一號”等國家重大航天任務及高端裝備，核心客戶涵蓋中國科學院及各大集團下屬科研院所、企業，為國內最重要的特種光學鏡頭、光電系統提供商之一；“非定制產品”主要包含安

88、防鏡頭、車載鏡頭、行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。30 紅外鏡頭、機器視覺鏡頭、投影光機等，廣泛應用于平安城市、智慧城市、物聯網、車聯網、智能制造等領域。核心客戶包括?？低?、華為、博世、霍尼韋爾、大華股份等知名企業。圖圖50.50.福光股份公司發展歷程福光股份公司發展歷程 資料來源：福光股份招股書，安信證券研究中心 從公司的財務數據來看，公司業務發展迅速，營業收入呈現擴大態勢。2020-2022 年，公司營業收入分別約為 5.88 億元、6.75 億元和 7.81 億元，歸母凈利潤分別為 0.51 億元、0.45億元、0.29 億元。公

89、司 2022 年整體營業收入較上年同期+15.76%，歸母凈利潤較上年同期-35.05%，主要系公司對房屋建筑物及設備進行投入，導致本期固定資產折舊及長期資產攤銷較上年同期增加 2,965.06 萬元；公司人才激勵致本期新增股份支付費用 338.52 萬元及職工薪酬較上年同期增加 1,097.99 萬元。2023Q3 公司實現營業收入 1.38 億元，同比-34.74%；歸母凈利潤-0.33 億元，較去年同比-5.08%。公司 Q3 營業收入出現較大下滑原因主要系市場出現周期性波動、客戶生產計劃延期與國際國內非定制光學鏡頭需求的減少。圖圖51.51.福光股份福光股份營收及同比增速（單位：營收及

90、同比增速（單位：萬萬元）元）圖圖52.52.福光股份福光股份歸母凈利潤及同比增速（單位：歸母凈利潤及同比增速（單位：萬萬元）元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 從公司的整體營收數據來看，2022 年公司主營業務實現營業收入 7.76 億元，同比增長 16.37%，其中定制產品業務營收 1.45 億元，較上年同比增加 85.81%，占總營收 18.67%，產品毛利率為 43.76%。非定制光學鏡頭業務營收 5.65 億元，較上年同比增加 6.30%，占總營收 72.83%，產品毛利率為 16.01%。光學元件及其他業務營收 0.66 億元，較上年同比增

91、加 15.34%，占總營收 8.5%，產品毛利率為 29.30%。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。31 圖圖53.53.2 202022 2 年年福光股份福光股份營收占比營收占比 資料來源：Wind，安信證券研究中心 公司依托于在光學鏡頭行業的技術研發積累，公司加工的球面鏡片、非球面鏡片、二元曲面、離軸面、不規則透鏡和自由曲面形狀誤差可達 0.1um，表面粗糙度可達 1nm，處于國內先進水平。鍍膜技術方面，全介質高反膜99%；漂移量1nm,整爐均勻性5nm。據公司投資者關系活動記錄表，公司精密及超精密加工實驗中心建設項目于 2022 年

92、3 月結項，該項目可進行紅外鏡片加工、非球面玻璃鏡片加工、非球面塑料鏡片加工、球面鏡片高精度加工、紫外鏡片加工等超精密光學加工技術的突破，為高端裝備（如光刻機）、國防、航空、航天等領域提供高精密光學鏡頭和光學系統。公司為航天級高端鏡頭以及軍用光學核心供應商，公司研發光刻機等半導體設備鏡頭鏡片等產品，并配合國內行業客戶研發。表表5 5：福光股份核心技術福光股份核心技術 核心技術核心技術 技術先進性及具體表征技術先進性及具體表征 大口徑透射式天文觀測鏡頭的設計與制造技術 在大口徑、長焦距（更遠）的情況下，同時具備大視場角（更廣）與大相對孔徑（獲取光能的能力更強）的技術特點，填補我國天文觀測、空間目

93、標精確定位系統探測能力的空白。復雜變焦光學系統設計技術 可滿足短焦（近距離）情況下視場角更大（更廣），及長焦（遠距離）情況下圖像更清晰的需求，且具有在變焦過程中，可保持圖像全程清晰的技術特點。在國內率先替代日本進口產品，擁有二組元到多組元的設計技術，掌握校正特殊二級光譜（消除色差，使圖像更清晰）的設計技術，特別是在高變倍比（焦距變化范圍廣，可滿足更多使用場景需求）、長焦距（更遠）變焦鏡頭的設計等領域，具備完整的工藝加工流程。多光譜共口徑鏡頭的研制生產技術 實現多光譜共口徑清晰成像，光譜范圍覆蓋面廣，包括紫外光、可見光、多波段紅外光及激光等，同時具備多光譜鏡頭系統集成技術，提高無人機光電吊艙等武

94、器系統性能。小型化定變焦非球面鏡頭的設計及自動化生產技術 非球面鏡頭提高光學性能，突破球面鏡片成像局限性，具有清晰度高、體積小、重量輕的特點，解決了大光圈鏡頭象差補償（即解決圖像亮度和圖像模糊的矛盾）、超廣角鏡頭的影像扭曲補償（即解決圖像更廣和圖像扭曲的矛盾）、以及定變焦鏡頭的小型化技術，在軍民領域均有廣泛運用空間。資料來源：福光股份招股書，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。32 4.4.4.4.炬光科技：稀缺激光元器件廠商，激光雷達炬光科技：稀缺激光元器件廠商，激光雷達+泛半導體泛半導體+醫美醫美多產業布局多產業布局 西

95、安炬光科技股份有限公司成立于 2007 年 9 月，深耕激光行業十余年，在上游半導體激光元器件細分領域已具有一定技術優勢和市場地位，公司正在向行業中游光子應用模塊和系統及汽車應用激光雷達拓展。汽車領域，公司已獲得國內兩家定點項目，并在積極推進與海外客戶的定點落地，同時已與 B 客戶達成解決協議；半導體應用領域，公司邏輯晶圓、功率半導體退火等實現了進口替代，疊加合肥募投項目有序推進，有望形成新增長點；醫美領域，海外 Cyden 客戶有望在 2024 年完成臨床試驗，公司產品批量出貨；2021 年 12 月公司 IPO成功，于科創板上市并募資 17.7 億元用于微光學應用、激光雷達發射模組產業化等

96、項目，炬光科技有望開啟高速發展新階段。炬光科技基于上游卡脖子的行業位置，積極布局中游光子應用解決方案。目前炬光科技擁有半導體激光、激光光學、光學系統、汽車應用（激光雷達）四大業務，為固體激光器、光纖激光器生產企業和科研院所，醫療美容設備、工業制造設備、光刻機核心部件生產商，激光雷達整機企業，半導體和平板顯示設備制造商等提供核心元器件及應用解決方案，產品逐步被應用于先進制造、醫療健康、科學研究、汽車應用、信息技術五大領域。公司的客戶包括德國大陸集團、Velodyne LiDAR、Luminar、上海微電子、臺積電、韓國 LG 電子等。圖圖54.54.炬光科技銷售網絡遍布全球炬光科技銷售網絡遍布全

97、球 資料來源：炬光科技公司官網，安信證券研究中心 從公司的財務數據來看，公司業務發展迅速，收入規模不斷擴大，市場份額持續提升。2020-2022 年，公司營業收入分別約為 3.60 億元、4.76 億元和 5.52 億元，歸母凈利潤分別為 0.35億元、0.68 億元、1.27 億元。公司 2022 年主營業務收入同比增長 16.31%，銷售凈利率同比增加 9.25pct；從公司的產品類別來看，報告期內，計算機、通信和其他電子設備制造業取得營業收入 5.49 億元，為公司的主要收入來源，毛利率較上年減少 0.08pct。分產品來看，半導體激光元器件和原材料營業收入為2.28億元，同比上年營收+

98、30.93%，毛利率為48.45%；激光光學元器件營業收入 2.29 億元，同比上年營收+2.96%，毛利率為 60.23%；泛半導體制成解決方案營業收入 0.61 億元，較上年同比+68.70%，毛利率為 63.01%；汽車應用解決方案營業收入與醫療健康解決方案營業收入分別為 0.29 億元和 0.02 億元。2023 年 Q3 公司實現營業收入 1.45 億元，同比+6.87%，環比+17.74%；歸母凈利潤 0.17 億元，較去年同比-56.13%，環比+48.78%。從盈利能力來看，2023Q3 盈利能力有所修復，銷售毛利率 47.48%，環比+4.75pct。行業專題行業專題/電子電

99、子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。33 圖圖55.55.炬光科技炬光科技營收及同比增速（單位：營收及同比增速（單位：萬萬元）元）圖圖56.56.炬光科技炬光科技歸母凈利潤及同比增速（單位：歸母凈利潤及同比增速（單位：萬萬元）元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 公司在投資者互動平臺表示，公司為荷蘭 ASML 核心供應商 A 公司提供光刻機用和半導體晶圓退火核心元器件，最終應用于全球高端光刻機生產商的核心設備；近年來光場勻化器產品也應用于國內主要光刻機研發項目和樣機中。公司根據客戶的不同型號需求，匹配不同波長的光場勻化器，目

100、前產品已經用于 KrF,ArF,ArF 浸沒式等 DUV 光刻機。表表6 6：炬光科技炬光科技半導體激光核心技術半導體激光核心技術 產品名稱產品名稱 應用設備應用設備 產品介紹產品介紹 光場勻化器 主要解決激光光場不均勻的問題。激光光場強度不均勻會造成在半導體晶圓表面曝光不均，影響晶圓加工的成品率。通過光 場勻化器對激光光斑進行勻化，可實現對半導體晶圓表面均勻曝光，提升良率 微光學 晶圓 微光學晶圓可按照客戶需求切割出多個微光學透鏡 AMM 預制金錫薄膜銅鎢熱沉 解決了激光二極管芯片鍵合工藝中導電導熱性能優化和熱應力控制問題，實現了高功率半導體激光器關鍵原材料的國產替代 光束轉換器 將激光陣列

101、芯片每個發光點發出的光進行光學整形，從而使光束更容易耦合進入光纖，形成光纖耦合高功率半導體激光模塊 耦合器 系統研究了高功率半導體激光器性能穩定性機制，提出了擴散阻礙層優化結構，開發了相應的制備工藝技術，大大提高了鍵合界面的可靠性與穩定性。資料來源：炬光科技公司官網，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。34 4.5.4.5.晶方科技：晶圓級封裝龍頭，汽車攝像頭、微型光學鏡頭、晶方科技：晶圓級封裝龍頭，汽車攝像頭、微型光學鏡頭、GaNGaN 器件打開成器件打開成長空間長空間 晶方科技成立于 2005 年，2006 年就成立了國

102、內首家晶圓級封裝廠，2014 年上市之初就是中國大陸首家、全球第二大能為影像傳感芯片提供 WLCSP 量產服務的專業封測服務商。公司作為晶圓級硅通孔（TSV）封裝技術的領先者，重點聚焦以影像傳感芯片為代表的智能傳感器市場，封裝的產品主要包括 CIS 芯片、TOF 芯片、生物身份識別芯片、MEMS 芯片等，廣泛應用在智能手機、安防監控數碼、汽車電子等市場領域。公司在車載攝像頭領域布局多年，公司子公司 Anteryon、晶方光電具備全球領先的微型光學設計、研發與制造等核心能力,在半導體.汽車、工業自動化等諸多市場領域具有廣闊應用前景。隨著公司技術的發展，一方面公司混合光學鏡頭領域的核心優勢持續提升

103、，并在歐美地區進一步拓展其在工業、汽車等優勢應用領域的市場規模:另一方面微型光學鏡頭順利獲得海外 TIE1 客戶認證，在汽車智能投射領域實現規模量產，并可在汽車大燈等車用智能交互系統提供客制化的微光學解決方案。公司為全球 CIS 芯片封測龍頭，汽車領域布局深厚，深度綁定豪威、索尼等龍頭廠商，未來有望持續受益汽車 CIS 市場高增長。圖圖57.57.集成電路封裝在產業鏈中的角色集成電路封裝在產業鏈中的角色 資料來源：晶方科技招股書，安信證券研究中心 從公司財務數據來看，2020-2022 年，公司營業收入分別約為 11.04 億元、14.11 億元和 11.06億元，歸母凈利潤分別為 3.82

104、億元、5.76 億元、2.28 億元。公司 2022 年營收下降主要系下游消費電子需求疲軟與行業產能過剩庫存高企導致影像傳感器細分市場景氣度疲軟。2023 年 Q3 公司實現營業收入 2.00 億元，同比-21.65%；歸母凈利潤 0.34 億元，較去年同比+14.22%。公司 Q3 業績下滑主要系下游手機等消費電子需求疲軟與行業產能過剩庫存高導致公司整體封裝業務營收出現下滑。展望長期，隨著下游消費市場逐漸復蘇，公司在車載攝像頭封裝、微型光學器件制造等新領域的開發拓展，相應業務規模與生產能力持續增強，有望打開新的業績成長點。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲

105、明請參見報告尾頁。35 圖圖58.58.晶方科技晶方科技營收及同比增速（單位：營收及同比增速（單位：萬萬元）元）圖圖59.59.晶方科技晶方科技歸母凈利潤及同比增速（單位：歸母凈利潤及同比增速（單位：萬萬元）元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 分產品來看，芯片封裝及測試 22 年營收 8.57 億元，同比下降 33.46%，主要系手機等消費類電子市場不景氣影響，封裝訂單與出貨量減少所致；光學器件 22 年營收 2.39 億元，同比上升 129.39%，主要是得益于半導體設備、智能制造、農業自動化市場需求的增加，混合鏡頭業務規模持續穩步增長，同時公司晶

106、圓級微型光學器件（WLO）業務在車用智能交互領域的商業化應用規模顯著提升所致。從 Q4 單季度來看，2022 年 Q4 實現營業收入 2.31 億元，環比下降 9.41%；實現歸母凈利潤 0.07 億元，環比下降 76.67%，Q4 業績環比仍有所下降。2023年公司積極調整產品結構，持續發力車載攝像頭封裝、微型光學器件制造等新領域的開發拓展，相應業務規模與生產能力持續增強，有望打開新的業績成長點。圖圖60.60.2 202022 2 年年晶方科技晶方科技營收占比營收占比 資料來源：晶方科技 2022 年報，安信證券研究中心 公司持續整合荷蘭 Anteryon、晶方光電微型光學器件的設計、研發

107、與制造能力，擴大量產與商業化應用規模。Anteryon 前身是飛利浦光學電子事業部，目前最大客戶為荷蘭 ASML，其混合鏡頭、晶圓級微型光學鏡頭(WLO)主要應用于光刻機的光學鏡頭以及 MLA 方案下的汽車迎賓燈，和 ams OSRAM 并列是全球少數掌握 MLA 模組生產技術且量產的廠商。根據公司半年報，23H1 晶方光電實現凈利潤 180 萬元，Anteryon 實現凈利潤 1277 萬元。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。36 圖圖61.61.A Anteryonnteryon 光表面處理技術光表面處理技術 資料來源：Anteryon

108、 官網，安信證券研究中心 4.6.4.6.蘇大維格：納米壓印光刻龍頭，業務涉及半導體、無人駕駛、蘇大維格：納米壓印光刻龍頭，業務涉及半導體、無人駕駛、A AR/VRR/VR 檢測等檢測等多領域多領域 蘇大維格成立于 1999 年，起初從光學零件加工事業部發家。于 2003 年進入檢測市場，后于2006 年和 2009 年分別進入安防市場及生物醫療市場。作為精密光學綜合解決方案提供商，蘇大維格產品集中在精密光學器件、光學鏡頭和光學系統的研發、設計、制造及銷售，主要涉及半導體(包括光刻機及半導體檢測裝備)、生命科學(包括基因測序及口腔掃描等)、航空航天、無人駕駛、生物識別、AR/VR 檢測等應用領

109、域。公司客戶均為國內外知名企業，包括微軟、華為、京東方、三星電子、戴爾、冠捷科技、中強光電等。圖圖62.62.公司產業布局圖公司產業布局圖 資料來源：蘇大維格 2022 年年報，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。37 2022 年度，蘇大維格實現營業收入 17.2 億元，較上年同期下降 1.21%；營業利潤-3.2 億元，利潤總額-3.3 億元，歸屬于上市公司股東的凈利潤-2.8 億元，虧損幅度收窄。2022 年，虧損主要原因為旗下華日升利潤水平未及預期因此計提大額的減值準備 2.6 億元，其二面板行業出現周期性收縮，導致

110、新型印材及導光材料業務收入下降，南通工廠稼動率和產能利用率仍處于較低水平。在高端智能設備方面，已開展光刻機及核心部件材料、光伏銅電鍍圖形化設備、AR-HUD 投影屏等領域測試與驗證工作。伴隨下游需求回暖，該領域盈利能力有望增強。在公共安全和新型印材領域，蘇大維格不僅作為公安部駕駛證、行駛證防偽膜唯一指定供應商，也為身份證視讀防偽提供技術支持。新型光學印材主要應用于煙酒及化妝品、日化用品等消費品包裝。隨著綠色包裝的興起，其環保 3D 轉移材料正逐步替換傳統煙酒、化妝品、日化用品包裝材料。在消費電子新材料領域，主要包括導光材料和導電材料。導光材料主要應用于筆記本電腦、液晶電視等液晶顯示背光模組。子

111、公司維旺科技客戶包括下游京東方、三星電子、LG Display、友達光電、佳世達、冠捷科技等廠商。在導電材料領域子公司維業達主要量產透明導電膜及相關產品，應用于大屏/柔性顯示觸控、MiniLED 電極膜、5G 天線和車載天線、光伏電池轉印電極膜、彩色電子微杯型透明導電膜等領域。圖圖65.65.新材料應用場景新材料應用場景 圖圖63.63.蘇大維格營收及同比增速（單位：萬元）蘇大維格營收及同比增速（單位：萬元）圖圖64.64.蘇大維格歸母凈利潤及同比增速蘇大維格歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）（單位：萬元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 表表7 7：

112、蘇大維格公司主要產品及應用蘇大維格公司主要產品及應用 產品類別產品類別 產品類型產品類型 用途用途 主要客戶群體主要客戶群體 公共安全 防偽材料 公共安全防偽膜 光學可視防偽 其他特殊用途 國家票證發行機構 鐳射包裝材料 鐳射膜、鐳射紙 高檔包裝，達到美觀防偽的目的 包裝印刷廠商 新型顯示 光學材料 新型顯示光學膜 通訊、IT 產品的局部照明、平板顯示專業光學用途 IT、消費電子產品制造商 微納光學設備 光刻設備 用于微納光學制造的制版工藝 自用、科研院所 資料來源：蘇大維格招股說明書，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。3

113、8 資料來源：蘇大維格 2022 年報，安信證券研究中心 蘇大維格是一家在高端智能裝備領域表現突出的企業，產品線包括直寫光刻、3D 光刻、投影/掃描光刻、納米壓印光刻等。該公司的直寫光刻設備已經出口至日本、韓國和以色列等國家，并在國內科研光刻設備領域占有一定市場份額。除此之外，蘇大維格在光伏銅電鍍圖形化設備、芯片掩模板以及 IC 載板等領域也有所涉獵，且運用直寫光刻技術進行積極開發。作為國內領先的微納結構產品制造和技術服務商，蘇大維格通過自主研發微納光學關鍵制造設備光刻機，建立了微納光學研發與生產制造的基礎技術平臺體系。該公司致力于為客戶提供不同用途的微納光學產品的設計、開發與制造服務，并相繼

114、開發了多個覆蓋納米級和微米級的光刻機和壓印設備。通過自制微納結構模具，蘇大維格采用納米壓印方式在經過特殊處理的 PETPC 薄膜等基材表面形成微納結構。這種微納結構具有不同量級和形貌，可以使材料產生各種特殊效果，如光變色圖案、增亮擴散特性、透明導電特性、全息圖像等。圖圖66.66.光刻機應用場景圖光刻機應用場景圖 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。39 資料來源：蘇大維格 2022 年報，安信證券研究中心 4.7.4.7.奧普光電奧普光電：光刻機核心部件供應商，業務涵蓋半導體、航空航天、醫療等多光刻機核心部件供應商，業務涵蓋半導體、航空航天

115、、醫療等多個領域個領域 奧普光電成立于 2001 年 6 月，是由中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和廣東風華高新科技股份有限公司等出資設立的高新技術企業。前身是中國科學院長春光機所試驗工廠，并于 2010 年 1 月在深交所掛牌上市。公司隸屬中科院長春光機所，是國內光電測控儀器制造行業的重要企業。公司從事的主要業務為光電測控儀器設備、新型醫療儀器、光學材料、光柵編碼器、高性能碳纖維復合材料制品等產品的研發、生產與銷售，產品廣泛應用于軍工、醫療設備行業等領域。公司擁有強大的研發團隊和先進的制造設備，致力于為客戶提供高質量、個性化的產品和服務。此外，奧普光電在光電檢測領域擁有多項核心專利和技

116、術，產品不斷創新和升級，為全球客戶提供優質的產品和服務?？蛻舭ü鈾C所、航天科工集團下屬單位、華中數控、中國科學院微小衛星創新研究院等知名企事業單位。圖圖67.67.奧普光電發展歷程奧普光電發展歷程 資料來源：奧普光電官網，安信證券研究中心 2022 年度，奧普光電實現營業收入 6.27 億元，較上年同期+14.67%；營業利潤+1.02 億元，較上年同比增長 90.79%；利潤總額 1.01 億元，較上年同比增長 91.40%；歸屬于上市公司股東的凈利潤 0.82 億元，比上年同期增長 75.31%。2022 年營收與歸母凈利潤增速差距較大原因系公司 2022 年 9 月收購長光宇航，長光宇

117、航主營業務為航空復合材料，產品結構變化導致公司毛利率大幅提高，從而凈利潤實現較大增速。2023 年 Q3 公司實現營業收入 1.60 億元，同比+15.35%；凈利潤 0.45 億元，較去年同比+19.79%。歸母凈利潤 0.26 億元，同比-21.75%。主要原因是去年三季度有筆較大的投資收益3120 萬,扣除投資收益的影響，公司三季度仍實現了明顯的歸母凈利潤增長。圖圖68.68.奧普光電奧普光電營收及同比增速（單位：萬元）營收及同比增速（單位：萬元）圖圖69.69.奧普光電奧普光電歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于

118、安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。40 奧普光電是從事制造光機電一體化產品的高新技術企業，其大股東為中科院長春光機所，主要負責我國國產光刻機光源、光學部分的研發工作，據工人日報，奧普光電研制的兩大設備:非球面超精密銑磨設備和多自由度快速研拋設備，可加工 2.5 米口徑光學元件。鏡壞銑磨、研拋的數控示范基地生產線可服務于整個民用領域。此外，控股公司禹衡光學生產的高精度絕對式光柵尺和編碼器，是保證光刻機工件臺定位精度的先決條件。而工件臺系統作為光刻機的核心分系統直接影響光刻機三大性能指標中的產率和套刻精度。表表8 8：奧普光電非球面超精密鐵磨設備和多自由度快速研拋設備奧普光電非球面超精

119、密鐵磨設備和多自由度快速研拋設備 產品名稱產品名稱 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 非球面超精密銑磨設備 非球面超精密銑磨設備是一種高精度、高效率的機械設備，主要用于加工非球面光學元件，如透鏡、反射鏡等。該設備采用了先進的數控技術，可以實現對光學元件的高精度加工和研磨。多自由度研拋設備 多自由度研拋設備采用了多種先進的研拋技術，如超聲研磨、化學研磨、磁場研磨等，可以實現對光學元件的高效研拋。此外，該設備還具有高精度的控制系統，可以實現對光學元件的精確控制和加工。資料來源：奧普光電公司官網，安信證券研究中心 4.4.8 8.波長光電：波長光電：精密光學元件、組件主要生產商精密光學元件、組件主

120、要生產商，主營業務營收穩步增長主營業務營收穩步增長 波長光電成立于 2008 年，2023 年 08 月 23 日在深圳證券交易所掛牌上市。公司專注于工業激光加工和紅外熱成像領域，致力于提供各類光學設備、光學設計以及光學檢測的整體解決方案，是中國精密光學元件、組件的主要生產商，多項自研核心技術指標達行業領先水平。波長光電主要生產激光光學和紅外光學的一系列元件和組件，以及提供光學設計與檢測服務。產品種類包括激光光學中的擴束鏡頭、掃描鏡頭、聚焦鏡和準直鏡，以及紅外熱成像中的紅外熱成像鏡片、近紅外鏡頭、短波紅外鏡頭、中波紅外鏡頭及長波紅外鏡頭。此外，波長光電還提供主流的光學設計軟件 ZEMAX 以及

121、光學檢測設備。公司產品可廣泛應用于消費電子行資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。41 業、標記行業、新能源動力電池等行業。公司的主要客戶包括華工科技、高德紅外、久之洋、美國 IPG 阿帕奇等知名大型企業 圖圖70.70.公司產品應用場景公司產品應用場景 資料來源：公司招股書，安信證券研究中心 2020 年至 2022 年，波長光電業務收入分別為 26,650.16 萬元、30,941.71 萬元及 34,191.50萬元，歸母凈利潤分別為 4,405.34 萬元、5,

122、443.17 萬元及 6,150.73 萬元，均呈現增長趨勢。2023 年 1-9 月，公司營業收入為 26155.18 萬元，同比+4.41%；歸屬于母公司股東的凈利潤為 4264.21 萬元，同比-9.69%；扣除非經常性損益后歸屬于母公司股東的凈利潤為 4090.39萬元，同比-8.03%。公司所處光學元器件行業為技術密集型行業，技術升級迭代較快，為提升研發投入收入轉化率，行業內主要企業多以市場需求為導向進行研發。2022 年公司推出光刻機平行光源系統及 AR 近眼檢鏡頭等產品，成功進入半導體及 AR/VR 領域。隨著研發-生產-銷售的良性循環，公司將繼續增強科研成果轉化能力，積極調配研

123、發資源，持續的研發投入將進一步提升企業的創新實力和持續經營能力。在半導體應用領域，公司已具備提供光刻機配套的大孔徑光學鏡頭的能力。公司成功開發的光刻機平行光源系統可用于國產光刻機領域配套，并已交付多套系統用于接近式掩膜芯片光刻工序。圖圖71.71.波長波長光電光電營收及同比增速（單位：萬元）營收及同比增速（單位：萬元）圖圖72.72.波長波長光電光電歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）歸母凈利潤及同比增速（單位：萬元）資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。42 表表9 9

124、：公司產品介紹公司產品介紹 產品名稱產品名稱 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 聚焦鏡 聚焦光斑圓度98%，公司聚焦鏡的有效入射標準直徑涵蓋 10 至 50mm；應用于激光切割、焊接、晶圓劃片、美容醫療等領域 ZEMAX 軟件&PhotonDesign 軟件 應用于成像、激光系統、半導體硅光電子器件和系統設計，準確的優化分析光柵衍射效率、自由曲面、雜散光、激光腔、光纖和光波導器件等?？s短了產品推向市場時間，降低開發成本 資料來源：公司招股書，安信證券研究中心 4.4.9 9.旭光電子：電真空旭光電子：電真空+軍工軍工+電子陶瓷共同發力，發射管、氮化鋁結構件打入電子陶瓷共同發力，發射管、氮化鋁

125、結構件打入半導體設備供應鏈半導體設備供應鏈 旭光電子成立于 1965 年，前身為國營旭光電子管廠，1994 年公司實行股份制改造，2002 年在上交所上市。公司是國內唯一一家擁有從金屬零件加工、精密陶瓷制造到成套電氣裝備的全產業鏈技術創新型高新技術企業，目前已形成了電真空器件、軍工軍品、電子陶瓷三位一體的產品布局。電真空業務板塊，公司的電子管廣泛用于激光加工設備等眾多細分領域，開關管公司現已擁有完整的真空開關管及固封極柱產業鏈、關鍵工藝技術、設備及檢測裝備，已成為國內品種最全、生產量最大的陶瓷真空滅弧室制造基地，廣泛用于中高壓電網配電領域；軍工板塊，子公司易格機械、西安?？貏摵头謩e聚焦于高端精

126、密機械零部件、自主可控嵌入式計算機系統；電子陶瓷板塊，公司具備陶瓷金屬化的核心技術，收購成都旭瓷實現電子陶瓷行業的橫向拓展，產品主要包括氮化鋁粉體、基板、結構件和 HTCC 等電子陶瓷材料。圖圖73.73.旭光電子發展歷程旭光電子發展歷程 資料來源：旭光電子公告，安信證券研究中心 公司業務發展穩中向好，近三年收入及凈利潤持續增長。2020-2022 年，公司營業收入分別為 9.02 億元、10.07 億元、11.41 億元，歸母凈利潤分別為 0.54 億元、0.58 億元、1.00 億元。2022 年，公司毛利率同比增長 4.63pct，銷售凈利率同比增長 2.67pct。按產品劃分，行業專題

127、行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。43 公司開關管、精密結構件、嵌入式計算機、電子管、開關柜、智能電氣、氮化鋁產品營收占比分別為 46.19%、13.67%、7.79%、5.96%、4.82%、2.55%、1.87%，毛利率分別為 11.70%、40.23%、49.67%、61.07%、30.41%、23.27%、37.85%。電真空業務板塊，公司把握國家大力發展新型電力系統和電網建設加速機遇，通過產品結構的持續優化帶動高附加值產品銷售占比提升，較好實現銷售穩步增長及盈利能力的進一步提高；軍工板塊，公司通過持續加大產品研發投入、優化生產工藝并緊抓項

128、目落地，實現了“產能+效益”雙提升；電子陶瓷板塊，氮化鋁產業作為公司的“頭號工程”，取得了突破性進展，呈現出強勁的發展態勢。公司作為國際先進的大功率發射管生產企業，研發能力強、產品系列齊全，產品種類達百余種，其產品工作頻率范圍在 0.1MHZ-1000MHz 之間、輸出功率范圍在 1KW-1MW 之間。產品可應用于雷達、醫療、CO2 激光設備、廣播電視、半導體設備、可控核聚變等領域。目前，公司用于光刻機、等離子清洗/拋光等半導體設備領域的發射管產品已經客戶驗證通過，并實現批量銷售。公司在已有氧化鋁陶瓷技術基礎上，通過控股成都旭瓷成功拓展至氮化鋁領域。截至 2023 年上半年，公司已實現國產首臺

129、套氮化鋁粉體連續爐的順利投產與規?；€定量產，氮化鋁粉體年化產能已達 240 噸、產品良率 85%以上；氮化鋁基板已實現年化產能 300 萬片、產品良率達 80%以上，目前已在下游應用端的 20 多家企業進行了驗證及實現供貨，已成為國內氮化鋁基板主要供應商；氮化鋁 HTCC 方面，公司完成了自主原材料配方及漿料體系的開發，小試產品通過了部分國內外客戶認證，十余家客戶已納入合格供應商名單，預計年底前可實現批量出貨，目前年化產能已達 5 萬片；氮化鋁結構件方面，公司的大尺寸結構件已應用于半導體產業及泛半導體產業（含光伏產業）的光刻工藝、刻蝕工藝、薄膜工藝、離子注入等工藝圖圖74.74.旭光電子營收

130、及同比增速旭光電子營收及同比增速 圖圖75.75.旭光電子歸母凈利潤及同比增速旭光電子歸母凈利潤及同比增速 資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 圖圖76.76.2022 旭光電子營收占比旭光電子營收占比 圖圖77.77.2022，2021 年旭光電子產品營收及毛利率年旭光電子產品營收及毛利率 資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。44 中，目前已通過國內多家半導體（含光伏）設備企業的認證及實現供貨銷售，進入半導體設備的核心產業鏈。

131、此外，公司與中科院某研究所聯合開展“半導體用高精密陶瓷部件”研制攻關，致力于加速半導體用靜電卡盤與加熱盤的國產化進程。表表1010：旭光電子產品旭光電子產品一覽一覽 所屬行業所屬行業 產品類型產品類型 用途用途 主要客戶群體主要客戶群體 電真空器件 開關管 切斷電源后迅速熄弧并抑制電流，從而實現對電網和用電設備的保護和控制 中高壓電網配電領域、風電、光伏等新型綠色能源領域 電子管 利用電子在真空中運動來完成能量轉換 雷達、點火、引爆、電子對抗、導航、通訊、醫用、激光加工設備、烘干、焊接、廣播電視、輻照、高能加速器、可控核聚變等領域 斷路器 檢測到故障時中斷電流，保護電路，避免出現過電流和短路

132、低壓電網配電領域、風電、光伏等新型綠色能源領域 開關柜 電力系統進行發電、輸電、配電和電能轉換的過程中，進行開合、控制和保護用電設備 電網配電等諸多領域 智能電器 開合平行架空線路 電網配電等諸多領域 軍工軍品 精密結構件 飛行器、航空發動機、制導系統等軍工裝備 我國各大軍工集團下屬的科研院所和企業。嵌入式計算機 嵌入式計算機硬件產品設計、開發和咨詢服務 兵器、航天、航空、中電科等十多家大型國有軍工研究所及軍工廠，以及軌道交通領域國有企業和上市公司 電子陶瓷 氧化鋁產品 先進導熱封裝材料 消費電子、半導體、醫療、航空航天等眾多領域 資料來源：旭光電子公告，安信證券研究中心整理 4.4.1010

133、.騰景科技騰景科技：精密光學元件主要提供商之一，：精密光學元件主要提供商之一，半導體半導體+ARAR 有望打開成長空間有望打開成長空間 騰景科技成立于 2013 年 10 月，并于 2021 年 3 月在上海證券交易所科創板成功上市。公司主營產品為光學元件和光纖器件，是光模塊和各類光纖器件的基礎，因此公司業務涵蓋領域有非常強的拓展性，公司產品主要應用于光通信、光纖激光等領域，其他少量產品應用于量子信息科研、生物醫療、消費類光學等領域。在主營業務之外，公司積極拓展布局生物醫療、AR、車載、半導體等新型應用場景。在半導體領域，公司的多波段合分束器可應用于光刻機光學系統；在車載領域，公司的激光雷達業

134、務正處于送樣或小批量驗證階段；在 AR 領域，公司的非球面透鏡與棱鏡組合等精密光學組件已應用于 AR 等新興消費電子產品。公司客戶包含量子信息科研機構，光模塊知名廠商 Lumentum、Finisar，光纖激光廠商 R 客戶、nLIGHT等。圖圖78.78.騰景科技主營產品應用領域騰景科技主營產品應用領域 資料來源：騰景科技公告，安信證券研究中心 公司營業收入持續增加，目前已達到七連增。2017-2022 年，公司營業收入從 0.83 億元增長至 3.44 億元，年化增長率達到 32.89%；歸母凈利潤實現由負轉正，基本保持增長態勢。根據公司 2022 年報，按產品劃分，公司主營業務精密光學元

135、組件業務實現收入 27,947.54 萬元，同比增長 19.76%，實現銷量 4,778.91 萬片（件），同比下降 2.57%，光纖器件業務實現行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。45 收入 6,457.70 萬元，同比下降 6.49%，實現銷量 188.49 萬件，同比增長 4.41%，精密光學元組件產品收入增長受益于光通信產業景氣度較高，應用于接入網光模塊的非球管帽產品以及 WSS 元組件產品實現了較大幅度的增長。其他應用領域實現收入 1,662.60 萬元，同比增長100.68%.公司 2023Q3 實現營業收入 0.80 億元，同比

136、下降 15.25%，實現歸母凈利潤 1080 萬元，同比下降 40.00%，主要原因系主營業務中，光通信領域的電信市場較為疲軟，個別產品需求放緩，光纖激光下游穩步復蘇并伴隨部分成熟產品主動降價提升份額策略，生產設施投入增加了折舊、攤銷等固定成本支出等。公司開發的合分束器項目成功進入半導體微電子設備廠供應鏈。，主要用于光刻機的光學系統。未來投產后，將有效滿足客戶的需求，填補該領域的市場空白，實現國產設備的替代。分束器作為一種衍射光學元件，能夠將單個激光束分成多個光束，并保持每個光束的原始特性，即激光通過分束器后，光束直徑和相位保持不變，而傳播方向和能量會發生特定改變。這一獨特的光學特性使得分束器

137、在許多高精度光學應用中具有不可替代的作用。表表1111：騰景科技騰景科技分束器分束器 產品名稱產品名稱 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 偏振分束器（PBS）公司的偏振分束器主要應用于光通信、光纖激光、量子信息科研領域，是光通信器件、光纖激光器、量子信息科研項目的關鍵元件，用于按照總體強度百分比、波長或偏振狀態分割光線 消偏振分束器（NPBS）消偏振分束器是光通信器件、量子信息科研項目的干涉關鍵元件，用于按照總體強度百分比分割光線而不受入射光偏振態影響 資料來源：公司年報，安信證券研究中心 4.4.1 11 1.同飛股份同飛股份：數控溫控裝備龍頭，：數控溫控裝備龍頭，半導體器件制造設備專用溫

138、控設備供應商半導體器件制造設備專用溫控設備供應商 同飛股份成立于 2001 年，并于 2021 年 5 月在深圳證券交易所上市。公司主導產品分為液體恒溫設備、電氣箱恒溫裝臵、純水冷卻單元、特種換熱器 4 個系列，主要包含：MCO 油冷卻機、MCW 水冷卻機、MCWL/TFLW 激光器專用水冷卻機、MCS 切削液冷卻機、MCA 電氣箱溫濕度調節機、MEA 電氣箱熱交換器、MWA 空氣/水熱交換器、MEO 液壓油熱交換器、工業洗滌換熱器和水冷柜等產品。涉及機床、電子、軍工、航空航天、汽車、船舶、軌道交通、通訊、電圖圖79.79.騰景科技騰景科技營收及同比增速營收及同比增速 圖圖80.80.騰景科技

139、騰景科技歸母凈利潤及同比增速歸母凈利潤及同比增速 資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。46 力、新能源、工業洗滌等各行各業，產品銷往德國、瑞士、捷克、日本等國家和中國臺灣地區。公司已成為國內工業溫控領域具備業務規模和產品覆蓋面的主要廠商之一，在各領域拓展了優秀、穩定的客戶群體，公司客戶包括德國埃馬克、日本馬扎克、德國通快、北京精雕、銳科激光等內外資巨頭。圖圖81.81.公司發展歷史公司發展歷史 資料來源：公司招股說明書，安信證券研究中心 公司發展速度較快，近六年營業收

140、入持續增長，歸母凈利潤也呈增長態勢。2020-2022 年，公司營業收入分別為 6.12 億元、8.29 億元、10.08 億元，歸母凈利潤分別為 1.25 億元、1.20億元、1.28 億元。2022 年，公司銷售毛利率為 27.35%，同比增長 0.38pct，銷售凈利率為12.69%。按產品劃分，公司液體恒溫設備、電氣箱恒溫裝置、純水冷卻單元營收占比分別為53.52%、21.68%、17.97%，毛利率分別為 25.16%、25.73%、36.46%。公司產品與工業裝備制造智能化發展方向、節能減排的國家戰略緊密契合，實現了與下游戰略性新興產業融合發展，行業迎來廣闊的市場空間。特別是儲能行

141、業及電力電子行業的快速增長，公司迎來前所未有的發展機遇。公司客戶包括北方華創、芯碁微裝、華海清科、上海微電子、特變電工等知名企業。圖圖82.82.同飛股份同飛股份營收營收及同比增速及同比增速 圖圖83.83.同飛股份同飛股份歸母凈利潤及同比增速歸母凈利潤及同比增速 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。47 根據投資者調研報告，國產替代和市場份額提升是我國半導體制造領域企業的主要成長路徑。公司憑借良好的行業聲譽和多項自主知識產權，已經逐漸拓展了與北方華創、芯碁微裝等知名客戶的合作。半導體制造設備在晶體生切片、光刻、刻蝕、物理氣相沉積(PVD)/

142、化學氣相沉積(CVD)等芯片制作環節設備運行的電子元件能耗及發熱量越來越大，必須引入溫控設備以防止能量轉化為熱量引起器件的開溫、發熱，從而保證設備性能的充分發揮。而公司主要提供專業溫控產品，有望為半導體制造提供設備。表表1212：公司產品及應用場景公司產品及應用場景 產品名稱產品名稱 應用場景應用場景 產品介紹產品介紹 液體恒溫設備 公司水（油）冷卻機、切削液冷卻機主要應用于數控機床等數控裝備領域，可以用于冷卻主軸、電機、液壓站、減速箱等部件。純水冷卻單元 純水冷卻單元是通過高純水作為介質為電力電子設備提供冷卻功能的裝臵，主要應用于新能源發電變流器、柔性輸變電設備、電氣傳動設備等領域，服務于新

143、能源發電、電力、石化、工程船、新能源汽車、盾構機、軌道交通等行業。電氣箱恒溫裝置 公司電氣箱恒溫裝臵主要應用于數控裝備電氣控制柜、激光器柜體、電力電子裝臵的電氣控制箱制冷，憑借過硬的產品質量，已在上述細分行業優質客戶群積累了良好口碑。資料來源：公司招股書，安信證券研究中心 4.4.1 12 2.中中瓷電子瓷電子：電子陶瓷產品龍頭，資源整合切入化合物半導體領域電子陶瓷產品龍頭，資源整合切入化合物半導體領域 資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。48 中瓷電子成立于 200

144、9 年，并于 2021 年在深圳證券交易所成功上市。公司控股股東為中國電子科技集團有限公司，主要產品包括光通信器件外殼、無線功率器件外殼、紅外探測器外殼、大功率激光器外殼、聲表晶振類外殼、3D 光傳感器模塊外殼、5G 通信終端模塊外殼、氮化鋁陶瓷基板、陶瓷元件、集成式加熱器等，廣泛應用于光通信、無線通信、工業激光、消費電子、汽車電子等領域。光通信器件外殼方面，目前公司已完成 800G 光通信器件外殼設計開發,與海外技術水平相當。消費電子方面，公司氮化鋁薄膜基板和薄厚膜復合基板可配套公司光通信器件外殼，已實現批量供貨；濾波器產品覆蓋 SAW、BAW 等器件。公司精密陶瓷零部件是采用氧化鋁、氮化鋁

145、等先進陶瓷經精密加工后制備的半導體設備用核心零部件，具有高強度、耐腐蝕、高精度等優異性能，應用于刻蝕機、涂膠顯影機、光刻機、離子注入機等半導體關鍵設備中。公司消費電子客戶涵蓋國內一線品牌。公司消費電子陶瓷外殼及基板系列產品主要包括聲表晶振類外殼、3D 光傳感器模塊外殼、氮化鋁陶瓷基板等，其中聲表晶振類外殼主要用于晶體振蕩器和聲表濾波器封裝，結構形式主要是 SMD，在智能手機、AR/VR、智能手表、TWS 等移動智能終端，以及無線通訊、汽車電子、醫療設備等消費電子領域應用廣泛。圖圖84.84.中瓷電子中瓷電子發展歷程發展歷程 資料來源：中瓷電子官網，中瓷電子招股說明書，公司財報，安信證券研究中心

146、 公司始終專注于電子陶瓷領域，具備電子陶瓷和金屬化體系關鍵核心材料、半導體外殼設計仿真技術、多層陶瓷高溫共燒關鍵技術三大核心技術領域的自主知識產權，開創了我國光通信器件陶瓷外殼產品領域打破了國外行業巨頭的技術封鎖和產品壟斷，實現了光通信器件陶瓷外殼產品的進口替代。2022 年報披露，公司主打產品通信器件用外殼產品業務保持穩定增長,2022 年實現收入 94,577.06 萬元，同比增長 30.49%:隨著消費電子智能終端應用場景多元化，公司高端消費類外殼和基板市占率逐步提升，2022 年消費電子陶瓷外殼及基板實現收入 20,029.13 萬元，同比增長 64.67%。公司發布 2023 年三季

147、度報告,2023 年前三季度，公司實現營業收入 19.07 億元，同比+1.69%；歸母凈利潤 3.43 億元，同比-3.43%。2023 年第三季度，公司實現營業收入 6.45 億元，同比+5.02%；歸母凈利潤 1.22 億元，同比-3.40%。2023 年初至 Q3 扣非凈利潤增長率大幅增長的原因系按照企業會計準則：（1）2023 年合并口徑扣非凈利潤包含 2023 年 8-9 月重組標的扣非凈利潤；（2）公司根據企業會計準則第 20 號企業合并和企業會計準則第 33 號合并財務報表，同一控制下企業合并抵銷了包含上市公司本身在內的 4 個單位的未實現內部銷售的利潤；（3）根據公開發行證券

148、的公司信息披露解釋性公告第 1 號非經常性損益，同一控制下企業合并產生的 3 個標的期初至合并日的當期凈損益進行了扣除。2009 中電科批準河北中瓷電子科技有限公司成立2013 獲得國家火炬計劃重點高新技術企業稱號2018 兩次增資完成，中電十三所成為主要股東之一2021上市成功，進軍消費電子領域2022公司擬收購十三所資產，進軍三代半導體領域圖圖85.85.中瓷電子中瓷電子營收及同比增速營收及同比增速 圖圖86.86.中瓷電子中瓷電子歸母凈利潤及同比增速歸母凈利潤及同比增速 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。49 公司精密陶瓷零部件是采用

149、先進陶瓷材料經精密加工后制備的半導體設備核心零部件，如氧化鋁、氮化鋁等。這些零部件具有高強度、耐腐蝕、高精度等優異性能，廣泛應用于刻蝕機、涂膠顯影機、光刻機、離子注入機等半導體關鍵設備中。其中，陶瓷加熱盤具有溫度均勻性好、控制精度高、尺寸精度高、耐腐蝕等優點，作為設備的關鍵零部件直接與晶圓接觸，可實現晶圓表面溫度高精度控制和快速升降溫。靜電卡盤利用靜電吸附原理夾持晶圓并保持其平坦度且不損傷，是一種適用于真空環境或等離子體環境的超潔凈晶圓承載體。這些陶瓷零部件對于半導體設備的正常運行和生產過程的順利進行至關重要。表表1313：中瓷電子消費電子陶瓷外殼及基板主要產品特點及應用領域中瓷電子消費電子陶

150、瓷外殼及基板主要產品特點及應用領域 產品名稱產品名稱 產品圖示產品圖示 產品介紹產品介紹 聲表晶振類外殼 具有尺寸精度高、可靠性好、性能穩定、可表面貼裝的特點，保證產品低噪聲、高頻化的性能實現。3D 光傳感器模塊外殼 采用高導熱材料制作，具有尺寸精度高、導熱性好、安裝方便的特點，適用于高功率密度的應用條件。氮化鋁陶瓷基板 具有熱導率高、熱膨脹系數低、介電常數低、介質損耗低、機械強度高、無毒等特點。資料來源：公司招股書，安信證券研究中心 4.4.1 13 3.芯碁微裝：國產直寫光刻設備龍頭，業務布局包括芯碁微裝：國產直寫光刻設備龍頭，業務布局包括 PCBPCB、泛半導體與光伏、泛半導體與光伏域域

151、 芯碁微裝成立于 2015 年，2021 年 4 月成功在上海證券交易所上市，是國內直寫光刻設備龍頭企業。公司以微納直寫光刻技術為核心，研發、制造、銷售及提供相應的維保服務。主要產品包括 PCB 直接成像設備及自動線系統、泛半導體直寫光刻設備及自動線系統等，覆蓋微米到納米的多領域光刻環節。公司的 PCB 直接成像設備包括 MAS、RTR、NEX、FAST、DILINE 資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。50 等系列，PCB 曝光設備也從低階向高階拓展，其中用于 HD

152、I/柔性板的 MAS35T 產能達 480 面/小時，性能大幅提升。芯碁微裝的泛半導體直寫光刻設備包括 LDW、WLP、MLF、MLC、RTR、MAS、NEX 等系列，產品應用在 IC、MEMS、生物芯片、分立功率器件等制造、IC 掩膜版制造、先進封裝、顯示光刻等環節。在 IC 載板領域，MAS6 系列最小線寬達 6m；在新型顯示領域，公司實施以點帶面策略，以 NEX-W（白油）機型為重點，切入客戶供應鏈，推動該領域內的市場銷售放量；在引線框架領域，公司實行大客戶戰略，利用在 WLP 等半導體封裝領域內的產品開發及客戶資源積累，推動蝕刻工藝對傳統沖壓工藝的替代，從而拉動泛半導體領域收入上升。公

153、司客戶包括生益電子、勝宏科技、定穎電子、滬電股份、鵬鼎控股等頭部廠商。圖圖87.87.公司直寫光刻技術下游應用包括公司直寫光刻技術下游應用包括 PCB、泛半導體、光伏等、泛半導體、光伏等 資料來源：公司招股說明書，安信證券研究中心 公司營收從 2017 年的 0.22 億元增至 2022 年 6.52 億元，年復合增速為 197%；歸母凈利潤從2017 年的-685 萬元增至 2022 年 1.37 億元；2023 年前三季度實現營收 5.24 億元，同比增長27.30%，歸母凈利潤為 1.18 億元，同比增長 34.91%。近年來業績快速增長主要系公司收入基數較小，PCB 直接成像設備銷量快

154、速增長，2022 年公司 PCB 系列設備和泛半導體系列設備銷量分別為 174/26 臺，同比增長 20.83%、52.94%，實現營收分別為 5.27/0.96 億元，毛利率分別為 37.9%與 65.08%。公司自 2018 年起毛利率始終保持在 40%以上，凈利率基本保持在20%以上，費用管控能力良好，規模效應下公司期間費用率也在逐年下降。2016 年 4 月，芯碁微裝開發了半導體直寫光刻設備 MLL-C900 產品，成功實現了直寫光刻技術的產業化應用，并在隨后幾年逐步開發了應用于 IC 掩膜版制版的 LDW-X6 產品、國產應用于 OLED 顯示面板的直寫光刻自動線系統 LDW-D1

155、產品以及晶元級封裝 WLP 產品，成功與維信諾、佛智芯、沃格光電、矽邁微電子等業內知名企業達成合作，實現了泛半導體領域的國產圖圖88.88.芯碁微裝芯碁微裝營收及同比增速營收及同比增速 圖圖89.89.芯碁微裝芯碁微裝歸母凈利潤及同比增速歸母凈利潤及同比增速 資料來源：Wind，安信證券研究中心 資料來源：Wind，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。51 替代。2022 年 9 月公司就已交付 WLP2000 晶圓級封裝直寫光刻機，WLP2000 采用最先進的數字光刻技術，無需掩模板，可直接將版圖信息轉移到涂有光刻膠的襯底

156、上，主要應用于8inch/12inch 集成電路先進封裝領域，包括 Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP 和 2.5D/3D等先進封裝形式，WLP2000 是其在晶圓級封裝領域自主研發的具有自動再布線（RDL）功能的光刻設備，各項性能指標已達國際先進水平。表表1414：推薦推薦標的盈利預測及估值標的盈利預測及估值 公司名稱公司名稱 股票代碼股票代碼 2023/2023/1111/3030股價（元）股價（元）市值（億市值（億元）元）EPSEPS（元）（元）PEPE（倍）（倍）2023/2023/1111/3 30 0 2022A2022A 2023E2023E 202

157、4E2024E 2025E2025E 2022A2022A 2023E2023E 2024E2024E 2025E2025E 炬光科技炬光科技 688167.SH 119.69 108.16 1.33 1.99 2.86 2.54 78.40 52.60 36.50 48.30 晶方科技晶方科技 603005.SH 23.35 152.39 0.35 0.34 0.64 0.86 51.80 53.30 28.10 21.10 同飛股份同飛股份 300990.SZ 45.19 75.75 0.76 1.38 1.94 2.72 54.30 29.90 21.30 15.20 中瓷電子中瓷電子

158、003031.SZ 96.62 309.29 0.71 1.17 1.64 2.42 176.30 106.90 76.50 51.70 資料來源：Wind，安信預測值，安信證券研究中心 5.5.風險提示風險提示 5 5.1.1.研發技術風險研發技術風險 光刻機技術要求高，研發和制造過程中需要解決許多技術難題，如光學系統設計、精密機械制造、控制系統開發等。技術不足可能導致設備性能不穩定、制造精度低等問題，影響芯片制造的質量和效率。5.5.2 2.運營資金風險運營資金風險 光刻機研發和制造需要大量資金投入，包括研發費用、制造成本、設備安裝調試費用等。資金不足可能導致項目中斷、資金鏈斷裂等問題，影

159、響企業的經營和發展。5.5.3 3.市場價格變動風險市場價格變動風險 光刻機市場受到半導體市場的影響，市場需求和競爭狀況不斷變化。市場變化可能導致設備銷售不暢、價格波動等問題，影響企業的盈利能力和市場地位。5.5.4 4.供應鏈存在的風險供應鏈存在的風險 光刻機制造需要大量的原材料和零部件，如光學元件、機械部件、電子元件等。供應鏈出現問題，如供應商破產、物流中斷等，可能導致企業無法正常生產或按時交付設備。5.5.5 5.政策風險政策風險 光刻機行業受到政府政策的影響，如稅收政策、產業政策、科技政策等。政策變化可能導致企業面臨不利影響，如稅收增加、產業限制等。圖圖90.90.直寫光刻的優勢直寫光

160、刻的優勢 圖圖91.91.WLP2000 資料來源：愛集微，安信證券研究中心 資料來源：芯碁微裝官網，安信證券研究中心 行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。52 行業行業評級體系評級體系 收益評級：領先大市 未來 6 個月的投資收益率領先滬深 300 指數 10%及以上；同步大市 未來 6 個月的投資收益率與滬深 300 指數的變動幅度相差-10%至 10%；落后大市 未來 6 個月的投資收益率落后滬深 300 指數 10%及以上；風險評級：A 正常風險，未來 6 個月的投資收益率的波動小于等于滬深 300 指數波動；B 較高風險，未來 6

161、個月的投資收益率的波動大于滬深 300 指數波動；分析師聲明分析師聲明 本報告署名分析師聲明，本人具有中國證券業協會授予的證券投資咨詢執業資格，勤勉盡責、誠實守信。本人對本報告的內容和觀點負責，保證信息來源合法合規、研究方法專業審慎、研究觀點獨立公正、分析結論具有合理依據，特此聲明。本公司具備證券投資咨詢業務資格的說明本公司具備證券投資咨詢業務資格的說明 安信證券股份有限公司（以下簡稱“本公司”）經中國證券監督管理委員會核準，取得證券投資咨詢業務許可。本公司及其投資咨詢人員可以為證券投資人或客戶提供證券投資分析、預測或者建議等直接或間接的有償咨詢服務。發布證券研究報告，是證券投資咨詢業務的一種

162、基本形式，本公司可以對證券及證券相關產品的價值、市場走勢或者相關影響因素進行分析，形成證券估值、投資評級等投資分析意見，制作證券研究報告，并向本公司的客戶發布。行業專題行業專題/電子電子 本報告版權屬于安信證券股份有限公司，各項聲明請參見報告尾頁。53 免責聲明免責聲明 。本公司不會因為任何機構或個人接收到本報告而視其為本公司的當然客戶。本報告基于已公開的資料或信息撰寫，但本公司不保證該等信息及資料的完整性、準確性。本報告所載的信息、資料、建議及推測僅反映本公司于本報告發布當日的判斷，本報告中的證券或投資標的價格、價值及投資帶來的收入可能會波動。在不同時期，本公司可能撰寫并發布與本報告所載資料

163、、建議及推測不一致的報告。本公司不保證本報告所含信息及資料保持在最新狀態，本公司將隨時補充、更新和修訂有關信息及資料，但不保證及時公開發布。同時，本公司有權對本報告所含信息在不發出通知的情形下做出修改，投資者應當自行關注相應的更新或修改。任何有關本報告的摘要或節選都不代表本報告正式完整的觀點，一切須以本公司向客戶發布的本報告完整版本為準，如有需要，客戶可以向本公司投資顧問進一步咨詢。在法律許可的情況下，本公司及所屬關聯機構可能會持有報告中提到的公司所發行的證券或期權并進行證券或期權交易，也可能為這些公司提供或者爭取提供投資銀行、財務顧問或者金融產品等相關服務，提請客戶充分注意?？蛻舨粦獙⒈緢蟾?/p>

164、為作出其投資決策的惟一參考因素，亦不應認為本報告可以取代客戶自身的投資判斷與決策。在任何情況下，本報告中的信息或所表述的意見均不構成對任何人的投資建議，無論是否已經明示或暗示，本報告不能作為道義的、責任的和法律的依據或者憑證。在任何情況下，本公司亦不對任何人因使用本報告中的任何內容所引致的任何損失負任何責任。本報告版權僅為本公司所有，未經事先書面許可，任何機構和個人不得以任何形式翻版、復制、發表、轉發或引用本報告的任何部分。如征得本公司同意進行引用、刊發的，需在允許的范圍內使用，并注明出處為“安信證券股份有限公司研究中心”，且不得對本報告進行任何有悖原意的引用、刪節和修改。本報告的估值結果和分

165、析結論是基于所預定的假設，并采用適當的估值方法和模型得出的，由于假設、估值方法和模型均存在一定的局限性，估值結果和分析結論也存在局限性，請謹慎使用。安信證券股份有限公司對本聲明條款具有惟一修改權和最終解釋權。安信證券研究中心安信證券研究中心 深圳市深圳市 地地 址：址：深圳市福田區福田街道福華一路深圳市福田區福田街道福華一路 1919 號安信金融大廈號安信金融大廈 3333 樓樓 郵郵 編：編：518026518026 上海市上海市 地地 址：址：上海市虹口區東大名路上海市虹口區東大名路 638638 號國投大廈號國投大廈 3 3 層層 郵郵 編：編：200080200080 北京市北京市 地地 址：址：北京市西城區阜成門北大街北京市西城區阜成門北大街 2 2 號樓國投金融大廈號樓國投金融大廈 1515 層層 郵郵 編：編：100034100034