全球半導體設備市場被美日荷壟斷。半導體設備行業是高壁壘行業，AMAT（應用材料）、ASML、LAM（泛林半導體）、TEL（東京電子）、KLA（科磊半導體）等公司起步較早，在技術和工藝上積累深厚，占據了全球主要市場份額。近年來北方華創、中微公司和盛美上海等國產廠商在熱處理、薄膜沉積、刻蝕和清洗等領域已取得較大突破，客戶端進展順利。而涂膠顯影和過程控制設備屬于國產設備薄弱環節，在目前國際形勢下“補短板”需求迫切。根據芯源微公告，公司已在 2022 年底發布可用于 28nm 節點的第三代浸沒式機型，有望迎來“0-1 突破”后的放量階段。目前光刻機國產化率幾乎為零，上海微電子是目前最有望打破光刻機進口壟斷的國產公司，目前公司官網已推出光刻精度在 90nm 的 ArF 光刻機，并正在開展 28nm 浸沒式光刻機的研發工作。