真空鍍膜多層通用將提高其設備投資占比，為設備投資帶來增量。整體來看單臺設備價值量 RPD 設備>PVD 設備>涂布機>激光設備。以協鑫100MW 產線為例，其采用的是表 10 中方案 1 路線，總投資額約 1.2 億，對應蒸鍍設備（PVD+RPD）占比約 70%，涂布機占比約 10%，一般 RPD設備比 PVD 設備貴 30%，因此我們估計單層 RPD、PVD 和涂布機設備價值分別為 3400 萬元/百兆瓦、2500 萬元/百兆瓦、1200 萬元/百兆瓦。參考 HJT 中 PVD 和 CVD 設備價值量占比，我們粗略假設鈣鈦礦 CVD設備與 PVD 設備價值量相同，對應得到表 10 中方案 2 和方案 3 蒸鍍設備的占比分別為 41%和 75%（未考慮導電玻璃層的制備）；而現有晶硅電池中，PERC 和 TOPCon 鍍膜以化學氣相蒸鍍法為主，真空蒸鍍非主流，而 HJT 電池制備中蒸鍍設備占比約 25%，相比之下，鈣鈦礦電池設備投資中真空鍍膜設備占比顯著提升，帶來新的增量。