物理氣相沉積（PVD）-物理氣相沉積是指使用機械、機電或熱力學過程將材料從源釋放并沉積在基材上的應用技術。其中固體材料在真空環境中蒸發并作為純材料或合金成分涂層沉積在基材上。物理氣相沉積（PVD）最常見的兩種技術是蒸發和濺射。該工藝將涂層材料作為單個原子或在分子水平上轉移，它可以提供極其純凈和高性能的涂層，熱蒸鍍-加熱一種固體材料，該材料在高真空室內沉積到基材表面；磁控濺射-使用磁鐵將電子捕獲在帶負電的靶材上，具有更快的薄膜沉積速率。