六氟化鎢：高性能沉積材料，需求與日俱增 六氟化鎢屬于鎢氟化物，在鎢氟化物中，六氟化鎢是目前唯一被工業化生產的品類。集成電路是六氟化鎢的重要下游市場，可以應用化學氣相沉積（CVD）工藝來制備鎢膜，也可以制備二硅化鎢（WSi2）用于制造大規模集成電路用配線材料，另外還可以作為集成電路電極的原材料、氟化劑、聚合催化劑及光學材料的原料等。在光伏領域，六氟化鎢可制造 X射線發射電極、太陽能吸收器、導電漿糊等產品。六氟化鎢作為高性能的沉積材料，其供需變化趨勢與三氟化氮相似，隨著集成電路工藝的不斷迭代，特別是 3D NAND 層數的不斷增加，對六氟化鎢產品的需求也有望與日俱增。