C4F8 一種化學性質穩定且用途十分廣泛的氟碳類特種氣體。在集成電路制造的刻蝕工藝和清洗工藝中有著廣泛的應用。隨著電子產業的快速發展，電子工業中，高純八氟環丁烷的需求日益增加，尤其在深硅刻蝕、低介電薄膜刻蝕和原子尺度刻蝕工藝等領域有著巨大的潛在應用前景。例如，在具有高深寬比的深硅刻蝕工藝中，它具有控制精度高、大區域 好、刻蝕垂直特性好、材料損耗低等優點，能夠滿足未來集成電路元器件尺寸小型化、功能性增強、存儲能力增大的發展要求。