1、濕電子化學品
濕電子化學品也叫超凈高純試劑,是指主體成分純度大于99.99%,雜質離子和微粒數符合嚴格要求的化學試劑,是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種電子化工材料,濕電子化學品的質量好壞直接影響電子產品的成品率、電性能和可靠性,對微電子制造技術的產業化也有著重要作用。
按照SEMI登記的分類,濕電子化學品可劃分為G1-G5五個等級:

2、濕電子化學品分類
(1)按用途分類
濕電子化學品按用途可分為通用化學品和功能性化學品。
通用化學品
硫酸:強酸性清洗、腐蝕劑,在集成電路制程應用最多
過氧化氫:清洗、腐蝕劑,可與濃硫酸、硝酸、氫氟酸、氫氧化銨等配制使用,在集成電路制程應用較多
氫氟酸:強酸性清洗、腐蝕劑,可與硝酸、冰醋酸、過氧化氫及氫氧化銨等配制使用
鹽酸:酸性清洗、腐蝕劑,可與過氧化氫配制使用,可有效降低金屬雜質
硝酸:酸性清洗、腐蝕劑,可與冰乙酸、過氬化氫配制使用
磷酸:超純磷酸為酸性腐蝕劑,主要用于超大規模集成電路工藝技術的生產
氨水:堿性清洗、腐蝕劑,可與過氧化氫、水、氫氟酸配制使用
功能性化學品
蝕刻液:用于硅、金屬層蝕刻
顯影液:光刻膠曝光后顯影劑
剝離液:用于剝離光刻膠
(2)按應用領域濕化學品分類
按應用領域劃分,濕化學品主要應用于半導體、平板顯示、太陽能以及LED等領域。
半導體
主要應用于半導體制造的晶圓清洗、光刻、刻蝕等過程中;要求的純度等級最高,技術難度最大,盈利能力最強。
平板顯示
主要應用于薄膜制備中的清洗、光刻、刻蝕等環節;技術水平要求較高,盈利能力較強。
太陽能
主要應用于清洗制堿、清洗、刻蝕等;技術水平要求相對較低,盈利能力一般。


來源:《2020中國光刻膠掩模版電子氣體半導體材料產業市場行業研究報告(67頁).docx》
《江化微-公司首次覆蓋報告:國產濕電子化學品龍頭積極擴產前景可期-20211112(21頁).pdf》