半導體設備有哪些？產業鏈及核心零部件一覽

1半導體設備關鍵子系統

據半導體產業調查公司VLSI統計，半導體設備的關鍵子系統主要分為8大類。包含：氣液流量控制系統、真空系統、制程診斷系統、光學系統、電源及氣體反應系統、熱管理系統、晶圓傳送系統、其他集成系統及關鍵組件，每個子系統亦由數量龐大的零部件組合而成。

(1)氣液流量控制系統FluidManagementSubsystems：氣體流量控制器、液體流量控制器、排液泵等

(2)真空系統Vacuum Subsystems：控制閥、隔離閥、傳輸閥、低溫泵、干式泵、分子泵等

(3)制程診斷系統Integrated Process Diagnostics Subsystems：氣體分析儀、液體分析儀、粒子計數器、其他計量等

(4)光學系統Optical Subsystems：光刻光學系統

(5)電源及氣體反應 Power and Reactive Gas Subsystems：RF 射頻電源，RF 射頻電源匹配網絡、DC 制程電源、等離子體源等

(6)熱管理系統Thermal Management Subsystems：溫控裝臵、換熱系統、測溫系統等

(7)晶圓傳送系統Wafer Handling Subsystems：真空機械手臂、常壓機械手臂、

(8)集成系統Integrated Subsystems

(9)關鍵組件Critical Components：靜電卡盤裝臵、陶瓷組件、橡膠組件

2 半導體設備及其核心零部件

不同半導體設備的核心零部件有所不同。

(1)光刻機：工件臺、投影物鏡、光源、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設臵、掩膜臺、內部封閉框架、減振器等

(2)涂膠顯影機：機械傳動、陶瓷熱盤、中空軸電機、光刻膠泵、高精度溫濕度控制器

(3)清洗設備：氣路系統、物料傳送系統、反應腔、電氣類、加熱器、功能水、臭氧發生器、CO2混合發生器、冷卻器、氫氣發生器、兆聲波發生器等

(4)PVD：真空及排氣系統、MFC、冷卻水供給系統、加熱電源、陰極電源、檢測/監控系統

(5)PECVD：RF射頻電源、MFC、反應室系統、尾氣處理系統、真空系統

(6)刻蝕機：晶圓盒、ESC、射頻發生器、反應控制器、分子泵、等離子體反應器等

(7)離子注入機：離子源、引出電極、離子分析器、加速管、掃描系統、工藝室

(8)CMP設備：研磨襯墊、自旋晶圓載具、研磨漿輸配器裝臵等

3 半導體設備產業鏈

半導體設備的產業鏈由IC設計、IC制造以及IC封測組成

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