中國的半導體設備相關企業起步較晚,但是在國家資金以及相關政策的大力扶持之下,當前,部分環節已經成長起來了一些較為優秀的龍頭企業。
在國內賽道,目前已經上市的公司有:北方華創、中微公司、芯源微、至純科技、萬業企業。除此之外,還有盛美上海、屹唐股份、華海清科、拓荊科技等企業正在IPO當中。下面是這些企業的簡單介紹。
北方華創,半導體設備相關產品:刻蝕機、PVD、CVD、ALD、氧化/擴散爐、退火爐、清洗機等。主要客戶及公司技術節點:多種28nm技術代集成電路關鍵裝備在大生產線實現量產應用,多種14nm技術代裝備已經進入到驗證階段,7nm技術代裝備關鍵技術研發進展順利。
中微公司,半導體設備相關產品:離子刻蝕設備,公司早期開發了CCP刻蝕機,近年來又開發了ICP刻蝕機。主要客戶及公司技術節點:已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線;開發新一代刻蝕設備和包括更先進大馬士革在內的刻蝕工藝,能夠涵蓋5納米以下更多刻蝕需求和更多不同關鍵應用的設備。
至純科技,半導體設備相關產品:濕法設備,包含槽式設備(槽數量按需 配置)及單片機設備(8~12
反應腔)。主要客戶及公司技術節點:客戶包括中芯國際、華虹集團、長鑫存儲、華為、華潤、燕東、臺灣力晶等;公司產品在基于28nm的基礎上,向14nm及14nm以下制程突破。
盛美上海,半導體設備相關產品:半導體清洗設備、半導體電鍍設備和先進封裝濕法設備。主要客戶及公司技術節點:晶圓制造領域客戶主要包括海力士、華虹集團、長江存儲、中芯國際、合肥長鑫等;產品可應用于45nm及以下技術節點的晶圓清洗領域。
芯源微,半導體設備相關產品:光刻工序涂膠顯影設備(涂膠/顯影機、噴膠機)和單片式濕法設備(清洗機、去膠機、濕法刻蝕機)。主要客戶及公司技術節點:主要客戶有上海華力、長江存儲、武漢新芯、中芯紹興、廈門士蘭集科、上海積塔、株洲中車、青島芯恩、中芯寧波、昆明京東方等;8/12英寸單晶圓處理(如集成電路制造前道晶圓加工及后道先進封裝環節)及6英寸及以下單晶圓處理(如化合物、MEMS、LED芯片制造等環節)。
萬業企業,半導體設備相關產品:高端離子注入機為主,包括低能大束流重金屬離子注入機及高能離子注入機等,并間接為Compart
Systems(全球領先的集成電路氣體輸送系統領域精密零組件及流量控制解決方案供應商)第一大股東。主要客戶及公司技術節點:目標直接定位在適用于16nm及以下規格的FinFET集成電路生產用離子注入設備方面。
屹唐股份,半導體設備相關產品:干法去膠設備、快速熱處理設備、干法刻蝕設備。主要客戶及公司技術節點:干法去膠設備、快速熱處理設備主要可用于90納米到5納米邏輯芯片、1y到2x納米系列DRAM芯片以及32層到128層3D閃存芯片制造中若干關鍵步驟的大規模量產;干法刻蝕設備主要可用于65納米到5納米邏輯芯片、1y到2x納米系列DRAM芯片以及32層到128層3D閃存芯片制造中若干關鍵步驟的大規模量產。
拓荊科技,半導體設備相關產品:等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備。主要客戶及公司技術節點:已廣泛用于中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲、廈門聯芯、燕東微電子等國內主流晶圓廠產線;廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線,并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。
華海清科
,半導體設備相關產品:化學機械拋光(CMP)設備。主要客戶及公司技術節點:廣泛應用于中芯國際、長江存儲、華虹集團、英特爾、長鑫存儲、廈門聯芯、廣州粵芯、上海積塔等集成電路制造商產線中;廣泛應用于12英寸和8英寸的集成電路大生產線,產品總體技術性能已達到國內領先水平。
相關上市公司及擬上市公司半導體設備業務布局情況


文章數據來源:《半導體設備行業系列報告之一:高景氣賽道國內企業嶄露頭角-211111(29頁).pdf》