什么是濺射靶材？分類有哪些？應用領域介紹

1、濺射靶材

濺射靶材是通過磁控濺射技術、多弧離子鍍膜或者其它種類的鍍膜技術再利用一定工藝條件，然后通過沉積，在基底材料上會形成具有特殊功能的薄膜，被離子轟擊的初始材料就被稱之為濺射靶材。其組成材料主要包括各種純金屬、合金以及無機非金屬材料(陶瓷)，常見的幾何形態為圓片狀和長方體板狀。

2、濺射靶材分類

(1)按形狀分類

濺射靶材按形狀可分為長靶、方靶、圓靶、管靶。

(2)按化學成份分類

濺射靶材按化學成分可分為金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶材(鉬鈮合金、鉬鈦合金、鉬鉭合金、鎳鉻合金、鎳鈷合金等)、陶瓷化合物靶材(ITO 等氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。

(3)按應用領域分類

濺射靶材按應用領域可分為半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。

3、濺射靶材應用領域

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(1)半導體芯片

主要材料涉及：超高純度鋁、鈦、銅、鉭等

主要用途：制備集成電路的關鍵原材料

性能要求：技術要求最高、超高純度金屬、高精度尺寸、高集成度

(2)平面顯示器

主要材料涉及：高純度鋁、銅、鉬等，摻錫氧化銦(ITO)

主要用途：高清晰電視、筆記本電腦等

性能要求：技術要求高、高純度材料、材料面積大、均勻性程度高

(3)太陽能電池

主要涉及材料：高純度鋁、銅、鉬、鉻等，ITO

主要用途：薄膜太陽能電池

性能要求：技術要求高、應用范圍大

(4)信息存儲

主要涉及材料：鉻基、鈷基合金等

主要用途：光驅、光盤等

性能要求：高儲存密度、高傳輸速度

(5)工具改性

主要涉及材料：純金屬鉻、鉻鋁合金等

主要用途：工具、模具等表面強化

性能要求：性能要求較高、使用壽命延長

(6)電子器件

主要涉及材料：鎳鉻合金、鉻硅合金等

主要用途：薄膜電阻、薄膜電容

性能要求：要求電子器件尺寸小、穩定性好、電阻溫度系數小

(7)其他領域

主要涉及材料：純金屬鉻、鈦、鎳等

主要用途：裝飾鍍膜、玻璃鍍膜等

性能要求：技術要求一般，主要用于裝飾、節能等

來源：《隆華科技-軍民融合成效顯現電子光伏材料打開成長空間-211217(32頁).pdf 》

《江豐電子-公司首次覆蓋報告：國產濺射靶材龍頭未來前景可期-20200721[22頁].pdf 》