【研報】靶材行業研究系列之一：輔芯助屏濺射全球-20200512[32頁].pdf

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1、 最近一年行業指數走勢最近一年行業指數走勢 -15% -7% 0% 7% 15% 22% 29% 37% 2019-052019-092020-01 金屬非金屬新材料 上證指數 行 業 專 題 報 告 行 業 專 題 報 告 公 司 公 司 研 究 研 究 財 通 證 券 研 究 所 財 通 證 券 研 究 所 投資評級投資評級: :增持增持( (首次首次) ) 表表 1 1：重點公司投資評級：重點公司投資評級 代碼代碼 公司公司 總市值總市值 （億元）（億元） 收盤價收盤價 （05.1205.12） EPSEPS（元）（元） PE PE 投資評級投資評級 20202020 2021 2021

2、 2022 2022 20202020 2021 2021 2022 2022 300706300706 阿阿 石石 創創 44.6644.66 31.6531.65 0 0.28.28 0 0.52.52 0.600.60 1 11212 6 61 1 5 53 3 增持增持 300263300263 隆華科技隆華科技 71.3671.36 7.807.80 0 0.26.26 0 0.32.32 0 0.39.39 3 30 0 2 24 4 2 20 0 買入買入 300666300666 江豐電子江豐電子 124.80124.80 57.0557.05 0 0.37.37 0 0.47

3、.47 0 0.60.60 1 15050 1 12020 9 94 4 增持增持 600206600206 有研新材有研新材 110.31110.31 13.0313.03 0 0.18.18 0 0.24.24 0 0.42.42 7 74 4 5 54 4 3 31 1 增持增持 2020 年 05 月 12 日 靶材行業研究系列之一靶材行業研究系列之一 計 算 機 軟 件 與 服 務 計 算 機 軟 件 與 服 務 證 券 證 券 研 究 報 告 研 究 報 告 金 屬 非 金 屬 新 材 料 金 屬 非 金 屬 新 材 料 投資要點：投資要點： 濺射靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電

4、子元器件制造的物理氣濺射靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣 相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關 鍵材料。鍵材料。其中，半導體芯片對濺射靶材的材料純度、內部微觀結構 等方面都設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產過程中的關鍵技術 并經過長期實踐才能制成符合工藝要求的產品。因此，半導體芯片 對濺射靶材的要求是最高的，價格也最為昂貴； 國家集成電路大基金二期撬動萬億資金，投資將向材料端傾斜，與一國家集成電路大基金二期撬動萬億資金，投資將向材料端傾斜，與一 期形成互補。期形成互補。在半導體材料行業中，靶材

5、行業尤其是高端靶材仍被日 美等國把控，但是國產替代已經開始嶄露頭角，呈現出定點突破的局 面，正是需要社會資金大力投入奮力追趕之關鍵時刻。按照半導體材 料占比產業 9%，靶材占比材料 3%比例測算，靶材行業有望獲得超過 30 億元投資支持，直接利好行業龍頭公司； 關稅免除期結束，利好國產靶材成長。關稅免除期結束，利好國產靶材成長。2015 年財政部等五部委曾發布 通知，規定進口靶材的免稅期到 2018 年年底結束。這意味著自 2019 年起，日本、美國進口的靶材需要繳納關稅，從而提高國內靶材在價 格方面的優勢地位。當初對進口靶材免稅主要是為了保護中國面板產 業鏈的供應，京東方等龍頭面板廠跟國家申

6、請進口免稅政策，隨著 FPD 靶材國產化的發展以及加速國產化靶材的成長，免稅政策有必要取消。 我們查詢海關總署網站發現，帶背板的濺射靶材組件的進口普通稅率 為 17%，增值稅率為 13%。如果征收關稅，提高海外靶材供應成本，將 有利于國產化靶材的發展和滲透率提升； 看好靶材國產化，利好龍頭?？春冒胁膰a化，利好龍頭。國內集成電路產業一直受制于人，每年 大量從海外進口，進口金額居所有進口商品第一位。近年來，中興制 裁事件與華為事件都給我們敲響警鐘，芯片等核心技術產業亟需發展， 國產替代刻不容緩。作為半導體材料中的重要一環濺射靶材同樣如 此，國產化是必然之路也是唯一之路?？春脼R射靶材的國產化趨勢，

7、 龍頭公司有望在政策、市場的東風下不斷擴張市場份額，推薦標的： 有研新材、江豐電子、隆華科技、阿石創。 風險提示：風險提示：產業政策無法順利落地；經濟超預期衰退 行 業 行 業 研 究 研 究 財 通 證 券 研 究 所 財 通 證 券 研 究 所 輔芯助屏，濺射全球輔芯助屏，濺射全球 以才聚財以才聚財，財通天下，財通天下 證 券 證 券 研 究 報 告 研 究 報 告 聯系聯系信息信息 李帥華李帥華 分析師分析師 SAC 證書編號：S0160518030001 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 2 證券研究報告證券研究報告 行業

8、專題報告行業專題報告 內容目錄內容目錄 1 1、 靶材概況靶材概況 .4 4 1.1 產業鏈條. 5 1.2 制造工藝. 7 1.3 產業格局. 8 1.4 產業政策. 9 2 2、 半導體用濺射靶材半導體用濺射靶材 .1111 2.1 更小制程，利好銅鉭靶材. 12 2.2 供應格局：國產靶材定點突破. 13 2.3 供應商認證：周期漫長，標準苛刻. 14 2.4 市場規模. 15 3 3、 平板顯示用靶材平板顯示用靶材 .1515 3.1 競爭格局：定點突破重點品種. 16 3.2 市場空間：LCD 和 OLED 雙輪驅動 . 18 4 4、 光伏電池用靶材光伏電池用靶材 .2222 5

9、5、 行業投資邏輯行業投資邏輯.2525 5.1 大基金二期加持，加速產業發展. 25 5.2 免稅政策取消，支撐國產靶材快速成長. 26 5.3 國產替代，大勢所趨. 27 6 6、 主要上市公司主要上市公司.2727 6.1 有研新材. 27 6.2 江豐電子. 28 6.3 隆華科技. 29 6.4 阿石創. 30 7 7、 風險提示風險提示 .3131 圖表目錄圖表目錄 圖圖 1 1：濺射示意圖：濺射示意圖 .4 4 圖圖 2 2：高純靶材產業鏈：高純靶材產業鏈.5 5 圖圖 3 3：濺射靶材應用結構：濺射靶材應用結構 .6 6 圖圖 4 4：靶材生產工藝流程：靶材生產工藝流程 .8

10、8 圖圖 5 5：靶材市場主要企業份額：靶材市場主要企業份額 .8 8 圖圖 6 6：國內靶材企業：國內靶材企業 .9 9 圖圖 7 7：半導體靶材濺射原理圖：半導體靶材濺射原理圖 .1212 圖圖 8 8：半導體用金屬靶材：半導體用金屬靶材 .1212 圖圖 9 9：半導體制造材料成本結構：半導體制造材料成本結構.1515 圖圖 1010：半導體用靶材市場規模預測（單位：億元）：半導體用靶材市場規模預測（單位：億元）.1515 圖圖 1111：銅靶、：銅靶、8.58.5 代線的鋁條靶、鉬條靶和代線的鋁條靶、鉬條靶和 5.55.5 代線用寬幅鉬靶代線用寬幅鉬靶 .1616 圖圖 1 12 2：

11、FPDFPD 技術路線技術路線 .1919 圖圖 1313：全球：全球 FPDFPD 市場結構市場結構 .1919 圖圖 1414：國內：國內 FPDFPD 市場結構市場結構 .1919 圖圖 1515：全球：全球 FPDFPD 需求規模（單位：百萬）需求規模（單位：百萬） .2020 圖圖 1616：FPDFPD 用靶材國內市場規模用靶材國內市場規模 . .2121 圖圖 1717：光伏電池分類：光伏電池分類 .2222 圖圖 1818：光伏電池用靶材形成背電極：光伏電池用靶材形成背電極 .2323 圖圖 1919：HITHIT 電池成本結構電池成本結構 .2323 圖圖 2020：HITH

12、IT 工藝鏈條工藝鏈條 .2323 pOqPrQnOqNmNuNnPvNrNvNaQaO6MoMnNoMpPkPqQmRjMqRmP9PoOwOvPsOzRuOoPrR 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 3 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 圖圖 2121：HITHIT 電池結構電池結構 .2424 圖圖 2222：光伏電池用靶材市場規模預測：光伏電池用靶材市場規模預測 .2424 圖圖 2323：大基金一期投資領域：大基金一期投資領域 .2525 圖圖 2424：大基金二期股東結構：大基金二期股東結構 .252

13、5 圖圖 2525：靶材進口相關稅率：靶材進口相關稅率 .2626 圖圖 2626：中國進口貨物金額排名：中國進口貨物金額排名 .2 27 7 圖圖 2727：有研億金歷年凈利潤（單位：萬元）：有研億金歷年凈利潤（單位：萬元） .2828 圖圖 2828：江豐電子業績概況：江豐電子業績概況 .2828 圖圖 2929：四豐電子歷年業績（單位：萬元）：四豐電子歷年業績（單位：萬元）.2929 圖圖 3030：晶聯光電生產的：晶聯光電生產的 ITOITO 靶材靶材. .3030 圖圖 3131：阿石創業績概況：阿石創業績概況 .3131 表表 1 1：三種真空鍍膜方式對比：三種真空鍍膜方式對比 .

14、5 5 表表 2 2：靶材分類：靶材分類 .5 5 表表 3 3：靶材應用細分情況：靶材應用細分情況 .6 6 表表 4 4：靶材生產工藝對比：靶材生產工藝對比 .7 7 表表 5 5：歷年來靶材相關行業政策：歷年來靶材相關行業政策.9 9 表表 6 6：半導體用靶材簡介：半導體用靶材簡介 .1313 表表 7 7：國內外半導體用靶材供應商簡介：國內外半導體用靶材供應商簡介 .1414 表表 8 8：不同材質靶材在平板顯示的應用：不同材質靶材在平板顯示的應用 .1616 表表 9 9：平板顯示用靶材的國內外供應商：平板顯示用靶材的國內外供應商 .1717 表表 1010：國內靶材企業下游面板客

15、戶：國內靶材企業下游面板客戶 .1818 表表 1111：國內面板廠商產能規劃情況：國內面板廠商產能規劃情況 .2020 表表 1212：全球：全球 OLEDOLED 產線產能產線產能 .2020 表表 1313：靶材行業主要公司概況：靶材行業主要公司概況 .2626 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 4 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 1 1、 靶材概況靶材概況 靶材靶材：濺射濺射薄膜薄膜制備制備的源頭的源頭材料材料，又稱濺射靶材，又稱濺射靶材，特別是高純度濺射靶材應用于，特別是高純度濺射靶材應用于 電子元器

16、件制造的物理氣相沉積（電子元器件制造的物理氣相沉積（Physical Vapor DepositionPhysical Vapor Deposition，PVDPVD）工藝，是）工藝，是 制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。真空狀態下，用加速 的離子轟擊固體表面，離子和固體表面原子交換動量，使固體表面的原子離開固 體并沉積在基底表面形成所需要的薄膜，這一過程稱為濺射。被轟擊的固體是用 濺射法沉積薄膜的源材料，通常稱為靶材。 圖圖 1 1：濺射示意圖濺射示意圖 數據來源：數據來源： 濺射靶材發展概述 ，濺射靶材發展概述 ，財通證券

17、研究所財通證券研究所 濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標 材料，屬于濺射靶材的核心部分材料，屬于濺射靶材的核心部分。在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表 面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜； 由于高純度金屬強度較低， 而濺射靶材需要安裝在專用的機臺內完成濺射過程，機臺內部為高電壓、高真空 環境，因此，超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝（行業俗稱 綁定技術）進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好 的導電、導熱性能。 濺射鍍膜是制備薄膜的主要

18、技術之一，綜合優勢顯著。濺射鍍膜是制備薄膜的主要技術之一，綜合優勢顯著。PVD 鍍膜目前主要有三種 形式，分別是濺射鍍膜、蒸發鍍膜以及離子鍍膜。綜合而言，蒸鍍薄膜的密度最 差， 只能達到理論密度的 95%， 鍍膜的附著力也最差， 但是蒸鍍的鍍膜速率最快。 離子鍍不但密度最高、晶粒最小，而且鍍膜與基板的附著力也是三種鍍膜中最大 的，只是離子鍍膜最大的缺點是基板必需是導電材料，并且鍍膜時基板的溫度會 升高到攝氏幾百度，上述的缺點使離子鍍的應用受到很大的限制。目前，濺射是 制備薄膜材料的主要技術之一，用濺射靶材沉積的薄膜致密度高，與基材之間的 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券

19、股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 5 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 附著性好，所以從理論而言，濺射鍍膜的性質，牢固度都比熱蒸發和電子束蒸發 薄膜好。 表表 1 1：三種真空鍍膜方式對比三種真空鍍膜方式對比 蒸發鍍膜 濺射鍍膜 離子鍍膜 方式 通過在真空中加熱蒸發某種 物質使其產生金屬蒸氣沉積 （凝聚）在固體表面成為薄 膜 用高能粒子轟擊固體表 面時能使固體表面的粒 子獲得 能量 并逸 出表 面，沉積在基片上 蒸發物質的分子被電 子碰撞電離后以離子 沉積在固體表面 粒子能量 eV 0.1-1 1-10 10 鍍膜理論密度 95% 98% 98% 晶粒大小 大 小 非

20、常小、非晶質 膜附著力 小 中 大 鍍膜速率 nm/min 0.1-75 0.01-0.5 0.1-50 數據來源：數據來源：真空鍍膜概述，真空鍍膜概述，財通證券研究所財通證券研究所 表表 2 2：靶材靶材分類分類 序號序號 分類標準分類標準 產品類別產品類別 1 按形狀分類 長靶、方靶、圓靶 2 按化學成份分 類 金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等） 、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、 陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等） 3 按應用領域分 類 半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具 改性靶材、電子器件靶材、其他靶材 數據來源：數據來源：濺射靶材種類

21、、應用與發展趨勢，濺射靶材種類、應用與發展趨勢，財通證券研究所財通證券研究所 1.1 1.1 產業鏈條產業鏈條 靶材產業鏈：濺射靶材產業鏈基本呈金字塔型分布。產業鏈主要包括金屬提純、 靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節。其中，靶材制造和濺射鍍膜環節是整個其中，靶材制造和濺射鍍膜環節是整個 濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。 圖圖 2 2：高純靶材產業鏈高純靶材產業鏈 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 6 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 數據來源：數據來源：江豐電子，江豐電子，財通證券研究所

22、財通證券研究所 半導體領域對靶材要求最高半導體領域對靶材要求最高。WSTS（全球半導體貿易統計組織）數據顯示，濺射 靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領域。其中，在濺射 靶材應用領域中，半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀結構等方面 都設定了極其苛刻的標準， 需要掌握生產過程中的關鍵技術并經過長期實踐才能 制成符合工藝要求的產品。因此，半導體芯片對濺射靶材的要求是最高的，價格 也最為昂貴。 圖圖 3 3：濺射靶材應用結構濺射靶材應用結構 數據來源：數據來源：WSTSWSTS，財通證券研究所財通證券研究所 表表 3 3：靶材應用細分情況靶材應用細分情況 應用領域應用領域

23、 金屬材料金屬材料 主要用途主要用途 性能要求性能要求 半導體芯片 超高純度鋁、鈦、銅、鉭等 制備集成電路的關鍵 原材料 技術要求最高、超高純 度金屬、高精度尺寸、 高純濺射靶材產業鏈 金屬提純 靶材制造 濺射鍍膜 終端應用 半導體芯片 平板顯示器 太陽能電池 信息存儲 光學應用 半導體, 11.4% 光伏電池, 18.5% 記錄媒體, 28.6% 平板顯示, 33.8% 其他, 7.7% 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 7 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 高集成度 平面顯示器 高純度鋁、銅、鉬等，摻錫 氧化

24、銦（ITO） 高清晰電視、筆記本電 腦等 技術要求高、高純度材 料、材料面積大、均勻 性程度高 太陽能電池 高純度鋁、銅、鉬、鉻等， ITO 薄膜太陽能電池 技術要求高、應用范圍 大 信息存儲 鉻基、鈷基合金等 光驅、光盤等 高儲存密度、高傳輸速 度 工具改性 純金屬鉻、鉻鋁合金等 工具、模具等表面強化 性能要求較高、使用壽 命延長 電子器件 鎳鉻合金、鉻硅合金等 薄膜電阻、薄膜電容 要求電子器件尺寸小、 穩定性好、電阻溫度系 數小 其他領域 純金屬鉻、鈦、鎳等 裝飾鍍膜、玻璃鍍膜等 技術要求一般，主要用 于裝飾、節能等 數據來源：數據來源：濺射靶材的應用及細分場景，濺射靶材的應用及細分場景，

25、財通證券研究所財通證券研究所 1.2 1.2 制造制造工藝工藝 濺射靶材的制備工藝主要包括熔煉鑄造法和粉末燒結法。濺射靶材的制備工藝主要包括熔煉鑄造法和粉末燒結法。 常用的熔煉方法有真空 感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。與粉末法制備的合金相比，熔 煉合金靶材的雜質含量(特別是氣體雜質含量)低， 且能高密度化、 大型化。 但是， 對于熔點和密度相差都很大的 2 種或 2 種以上金屬，采用普通的熔煉法一般難 以獲得成分均勻的合金靶材；粉末冶金工藝具有容易獲得均勻細晶結構、節約原 材料、生產效率高等優點，粉末冶金法制備靶材時，其關鍵在于選擇高純、超細 粉末作為原料。 選擇能實現快速致密化

26、的成形燒結技術， 以保證靶材的低孔隙率， 并控制晶粒度，制備過程嚴格控制雜質元素的引入。常用的粉末冶金工藝包括熱 壓、真空熱壓和熱等靜壓（HIP）等。 表表 4 4：靶材生產靶材生產工藝工藝對比對比 工藝工藝 流程流程 常用方法常用方法 優點優點 缺點缺點 熔煉鑄造法 將一定成分配比的合金原 料熔煉,再將合金熔液澆 注于模具中,形成鑄錠,最 后經機械加工制成靶材 真空感應熔煉、真空 電弧熔煉和真空電 子轟擊熔煉 靶材雜質含量 (特別是氣體 雜質含量)低, 密度高,可大 型化 對熔點和密度相差較 大的兩種或兩種以上 金屬,普通熔煉法難以 獲得成分均勻的合金 靶材 粉末冶金法 將一定成分配比的合金

27、原 料熔煉,澆注成鑄錠后再 粉碎,將粉碎形成的粉末 經等靜壓成形,再高溫燒 結,最終形成靶材 冷壓、真空熱壓和熱 等靜壓等 靶材成分均勻 密度低,雜質含量高等 數據來源：濺射靶材的應用及發展前景，財通證券研究所數據來源：濺射靶材的應用及發展前景，財通證券研究所 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 8 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 圖圖 4 4：靶材生產工藝流程靶材生產工藝流程 數據來源：數據來源： 濺射靶材的應用及發展前景濺射靶材的應用及發展前景 ， ，財通證券研究所財通證券研究所 1.3 1.3 產業格局產業

28、格局 呈現呈現寡頭壟斷格局。寡頭壟斷格局。目前，全球的靶材制造行業，特別是高純度的靶材市場，呈 現寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業把持，如日本的三井礦業、日礦金屬、 日本東曹、住友化學、日本愛發科，以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。相關數據 顯示，日礦金屬是全球最大的靶材供應商，靶材銷售額約占全球市場的 30%，霍 尼韋爾在并購 Johnson Mattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產廠后，占到全球 市約 20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占 20%和 10%。這些企業在掌握濺 射靶材生產的核心技術以后，實施極其嚴格的保密措施，限制技術擴散，同時不 斷進行橫向擴張和垂直整合，將業務觸角積極擴

29、展到濺射鍍膜的各個應用領域， 牢牢把握著全球濺射靶材市場的主動權， 并引領著全球濺射靶材行業的技術進步。 圖圖 5 5：靶材市場主要企業份額靶材市場主要企業份額 數據來源：數據來源：半導體觀察，半導體觀察，財通證券研究所財通證券研究所 國內企業嶄露頭角國內企業嶄露頭角，前途無量前途無量。目前，國內靶材廠商主要聚焦在低端產品領域， 在半導體、平板顯示器和太陽能電池等市場還無法與國際巨頭全面競爭，但是， 依靠國內的巨大市場潛力和利好的產業政策，以及產品價格優勢，它們已經在國 內市場占有一定的市場份額， 并逐步在個別細分領域搶占了部分國際大廠的市場 JX nippon, 30% Honeywell

30、, 20% TOSOH, 20% Praxair, 10% 其他, 20% 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 9 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 空間。近年來，我國政府制定了一系列產業政策，如 863 計劃、02 專項基金等 來加速濺射靶材供應的本土化進程， 推動國產靶材在多個應用領域實現從無到有 的跨越。這些都從國家戰略高度扶植并推動著濺射靶材產業的發展壯大。 圖圖 6 6：國內靶材企業國內靶材企業 數據來源：數據來源：新材料在線，新材料在線，財通證券研究所財通證券研究所 1.4 1.4 產業政策產業政策 行

31、業政策：行業政策：為推動濺射靶材產業發展，增強產業創新能力和國際競爭力，帶動傳 統產業改造和產品升級換代，進一步促進國民經濟持續、快速、健康發展，我國 推出了一系列支持濺射靶材產業發展的政策。 表表 5 5：歷年來歷年來靶材靶材相關行業政策相關行業政策 序號序號 政策名稱政策名稱 政策導向政策導向 1 國家中長期科學和技術發展規劃綱 要 （2006-2020 年） （2006 年 2 月） （1） 確定核心電子器件、高端通用芯片及基礎軟件， 極大規模集成電路制造技術及成套工藝等重大專項 是我國科技發展的重中之重； （2）重點研究開發滿足國民經濟基礎產業發展需求 的高性能復合材料及大型、 超大型

32、復合結構部件的制 備技術，輕質高強金屬和無極非金屬結構材料， 高純 材料及應用技術。 2 國務院關于加快培育和發展戰略 性新興產業的決定（2010 年 10 月） 大力發展稀土功能材料、高性能膜材料、特種玻璃、 功能陶瓷、半導體照明材料等新型功能材料。 3 產業結構調整指導目錄（2011 年 本）（2011 年 3 月） 將直徑 200mm 以上的硅單晶及拋光片、直徑 125mm 以上直拉或直徑 50mm 以上水平生長化合物半導體 材料、 鋁銅硅鎢鉬等大規格高純靶材、 超大規模集成 電路銅鎳硅和銅鉻鋯引線框架材料、電子焊料等信 息、新能源有色金屬新材料生產列為鼓勵類項目。 4 當前優先發展的高技術產業化重 點領域指南 （2011 年度） （2011 將“高速集成電路技術及芯片”、 “線寬 65 納米以 下的納米級集成電路芯片制造、封裝和測試”、 “半 謹請參閱尾頁重要聲明及謹請參閱尾頁重要聲明及財通財通證券股票和行業評級標準證券股票和行業評級標準 10 證券研究報告證券研究報告 行業專題報告行業專題報告 年 6 月） 導體納米結構材料與器件”、 “TFT-LCD 用靶材”等 列為當前優先發展的高技術產業化重點領域。 5 工業轉型升級規劃（2011-201