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半導體行業系列專題(二)之碳化硅:襯底產能持續擴充關注滲透加速下的國產化機會-240110(40頁).pdf

上傳人: 云*** 編號:151284 2024-01-12 40頁 2.61MB

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本文主要內容概括如下: 1. 碳化硅(SiC)作為第三代半導體材料,具有高擊穿電場、高導熱率以及高飽和電子漂移速度等特性,制備的器件相較于硅基產品能夠降低80%損耗的同時將器件尺寸縮小90%,在新能源汽車、光伏以及軌道交通等領域具備廣闊的替代空間。 2. 2026年全球SiC器件市場規模將達71億美元,其中新能源汽車作為SiC器件增長的主要驅動力,預計2027年全球車用SiC功率器件市場規模將達50億美元。 3. 碳化硅襯底技術壁壘高,為價值鏈條核心環節,成本占比高達47%。2026年全球導電型SiC襯底市場規模將達16億美元,2026年全球半絕緣型SiC襯底市場規模將達4億美元。 4. 國內市場,天科合達的導電型SiC襯底產能處于全面領先位置,預計2025年天科合達折合6英寸的導電型SiC襯底月產能將達到4.9萬片。 5. 投資建議:隨著SiC頭部廠商紛紛采取擴產,以及生產工藝、流程持續優化改善,當前SiC價格開始持續下探,在量增+價降的雙重驅動下,SiC上車速度明顯加快,國產SiC廠商有望迎來發展良機。
碳化硅材料性能如何突出? 碳化硅器件優勢有哪些? 碳化硅產業鏈國產化進展如何?
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