具體而言，經過業界之后反復比較和實踐，一般認為7納米或更先進的制程工藝需要通過EUV光刻機實現更好經濟效益（EUV光刻機技術路線較DUV多次曝光技術優勝）。英特爾雖然在早期投資了EUV設備制造商ASML，但管理層在一段時間內一直堅持用財務上短期更加保守的DUV加多次曝光技術，導致在14納米之后產品性能遠遠落后于臺積電。原本在2016年應該上線的10納米技術一再推遲，后因為產線經濟效益過差而在2020-21年前后開始大量向晶圓代工的競爭對手臺積電下單制造其CPU產品。