光刻過程中一般用到的電子特氣為光刻混合氣（Ar/F/Ne 、Kr/Ne 、Ar/Ne 、Kr/F/Ne 混合氣等），這種混合氣體在高壓受激發后，就會形成等離子體(部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的電中性離子化氣體狀物質)，在這個過程中，由于電子躍遷，會產生固定波長的光線，激發出來的紫外光線經過聚合、濾波等過程就會產生光刻機的光源，再經過復雜的光路對硅晶圓進行光刻。