美日荷對中國光刻機持續進行光刻機管制。2018 年美國就開始施壓對華高端光刻機的出口；2022 年 10 月，美國出臺“1007 新規”，限制對中國出口先進制程芯片設備，光刻機是關鍵設備之一；2023 年 1 月，美、荷、日三方達成協議，將光刻機限售范圍從 EUV 擴展到部分 DUV 系統；2024 年 4 月，美國新的出口管制條例生效，加入對 EUV 掩膜、刻蝕機等制造環節設備的管控。