展路線。目前，芯源微的第三代架構浸沒式高產能涂膠顯影機在復雜光刻工藝下已實現和全球主流光刻機聯機量產工作。隨著光刻機產能的不斷提升，芯源微已布局新一代更高產能的涂膠顯影機架構，新一代機臺將應用更高工藝精度的超薄成膜、超細線寬均一性、精細缺陷控制等技術。未來，芯源微將繼續錨定全球主流光刻技術發展進程，持續提升涂膠顯影設備各項核心指標，加速高端涂膠顯影設備國產化替代進程。