光刻機市場規模及銷量分析，發展歷程介紹

1、光刻機市場規模

2020年全球光刻機銷量413臺，估計銷售額130多億美元均創歷史新高。根據ASML、Canon、Nikon公告，全球光刻機銷量413臺，同比增長15%，按季度依次是95臺、95臺、97臺、126臺，分別同比增長19%、25%、8%、12%。參考ASMIL單價，我們估計全球光刻機市場規模達到130多億美元，同比增長20%以上，且2016-2020年全球光刻機市場規模年均復合增長23%。

2、光刻機銷量

從數據顯示中，我們可以看出，ASML在技術水平上遙追領先，目前是全球光刻機領城的絕對龍頭。ASML自2004年推出第一臺浸潤式光刻機樣機后，市場份額開始快速提升，2010年ASML推出第一臺EUV光刻機,成為全球光刻機領域的絕對龍頭,目前全球每年光刻機產出量300-400臺，基本被ASML、Canon和Nikon三家供應商包攬。2019年銷售的358臺光刻機設備中，ASML貢獻229臺，市場份額超過60%，其中EUV光刻機全部由ASML供應。半導體熱潮，讓光刻機成了香餑餑。不過，依照ASML(阿斯麥)、尼康、佳能三家公司的官方數據整理得知，全球光刻機總銷售量為413臺。其中ASML銷售258臺占比62%，佳能銷售122臺占比30%，尼康銷售33臺占比8%。不過按照銷售額來計算的話，因為最昂貴的EUV只有ASML制造銷售，所以總的份額占比依次是91%、3%、6%。從光刻機類型來看，尼康出貨的主要是ArF immersion、ArF dry，佳能主要是KrF、i-line(份額69%)。當然，ASML在各種類型的光刻機上都有涉獵，除了i-line，幾乎每種類型都是絕對龍頭。

2、光刻機發展歷程

第一代(接觸接近)

光源：436nm g-line

最小工藝：00-250nm

第二代(接觸接近)

光源：365nm i-line

最小工藝：800-250nm

第三代(掃描投影)

光源：248nm KrF激光

最小工藝：180-130nm

第四代(浸沒步進式投影)

光源：193nm ArF激光

最小工藝：45-20nm、130-65nm

第五代(極紫外/EUV)

光源：13.5nm極紫外光

最小工藝：20-7nm

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