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華為鴻蒙投資光刻機公司是真的嗎?光刻機要國產化?

1、華為鴻蒙投資光刻機公司是真的嗎?

天眼查資料顯示,華為控股的哈勃投資,出資960萬元,入股中國科學院旗下的北京科益虹源光電技術,成為其C輪融資的兩位股東之一。哈勃投資新進占股4.76%,成為科益虹源第七大股東。光刻機,是中國芯片制造卡脖子的一個領域?,F在,國內擺得上桌面的光刻機制造商,只有上海微電子,具備90nm的芯片制造能力??梢詫Ρ鹊氖?,荷蘭阿斯麥(ASML)已規模量產5nm工藝?!凹词箛a光刻機以及相關產業鏈做得不錯,要量產始終有困難,因為工藝標準上我們還沒實現?!币晃?a href="http://www.ccyxbj.cn/baogaolist-0000100035.html" target="_blank">半導體行業資深從業者告訴《21CBR》記者。中國半導體產業的發展不能單獨搞一條標準,國產化道路一定要走,百分百的國產化不可能。

科益虹源成立于2016年7月,是國內專業準分子激光技術解決方案提供商,為光刻機提供DUV(深紫外)光刻光源產品等核心零部件,它依托于中科院光電院、微電子所的技術支持,微電子所持有其26.61%的股權,中科院通過旗下科科儀控股,持有11.3%的股份。

科益虹源承擔了“02重大專項浸沒光刻光源研發”、“02重大專項核心零部件國產化能力建設”等國家專項,且是國產光刻機廠商上海微電子的光源系統供應商。中科院最能代表中國基礎科學研究水平,也積攢了光刻機研發的技術和產業鏈資源。1981年,中科院半導體所年推出了2.5微米制程的接近式光刻機,上海光機所1985年開發了掃描式投影光刻機,光電所1990年驗收了中國第一臺全自動光刻機。中科院的這幾家單位,與電子工業部45所一起,成為那個時代中國光刻機研發的支柱。

上海微電子集成開發的商用光刻機,多個部件與中科院相關,如關鍵光源就由長春光機所負責。光電所旗下擁有奧普光電、華卓精科兩家上市公司,分別主營高精密光學儀器以及光刻機雙工件臺。一名早年就職于中科院微電子所的人士向《21CBR》透露,芯片禁令一出,半導體產業一下子有了危機感和緊迫感,國內科研院所集結精銳力量組織系統攻關。

光刻機

2、光刻機要國產化

ASML首席技術官Martin van Der Brink有次去上海參觀,直接告訴中芯國際聯席 CEO趙海軍,“差距大概是20年”。2020年中,圈子里一度盛傳,上海微電子向上海有關部門投訴華為的“挖人”行徑。華為為做光刻機,直接向他們員工打電話進行游說。在中國,上海微電子是唯一值得一說的光刻機制造商,干了19年,它的量產光刻機主要有 SSX600 和 SSX500 兩個系列,能達到的最先進芯片制程只能到90 nm,確實只相當于ASML15年前的水平。

上海微電子將在2021年第四季度交付一批28nm光刻機產品,后來時間又延后到2022年??埔婧缭匆矃⑴c了28nm 國產光刻機的集成工作。即使設備能夠生產,與真正用到生產線上是兩個概念,在大規模使用前要大量實驗?!卑雽w行業學者莫大康告訴《21CBR》,這涉及到精密制造、精密材料等產業鏈環節,一個都不能掉隊。嚴格地說,ASML公司也僅僅只是一個組裝廠而已。一臺高端EUV光刻機光零件多達10萬個,全球超過5000家供應商,其中32%在荷蘭和英國,27%供應商在美國,14%在德國,27%在日本。5月下旬,日本化工公司信越化學稱,產能不足,將限制向中國多家一線晶圓廠供貨KrF級別光刻膠,光刻膠是芯片生產制造必不可少的核心原料,缺了它,半導體的光刻流程陷入癱瘓。要補短板,也要找準突破口。大家關心光刻機,落腳點在于走尺寸縮小的道路,由于EUV光刻機進口受阻等原因,中芯國際再努力,短期內只能實現非全功能的7nm級水平,與臺積電等仍可能有三代差距。就眼前的困難,死磕10nm以內的小尺寸,未必是唯一選擇。

本土可控的55nm芯片制造,比完全進口的7nm更有意義。83%的芯片市場在10納米以上節點,如果先進制程研發不占優勢,不妨著力于已有制程芯片性能的提升。未來,發力先進封裝技術可能是個合理的選擇?!蹦罂蹈嬖V《21CBR》記者,隨著芯片制造摩爾定律減緩,最先進的工藝不再適用于許多模擬或射頻IC設計,而是通過把不同工藝芯片進行單列直插式封裝(SIP),實現高制程芯片的功能集成芯片Chiplet。原來要用14納米做的芯片,用封裝的辦法,把4個28、32納米制程的芯片連在一起,也能達到高端芯片應用水平,生產成本還更低。在封裝技術競賽中,最搶眼的企業有5家,分別是美國的英特爾、Amkor,中國臺灣的日月光(ASE)、臺積電,以及中國的江蘇長(JCET)。

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