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cmp化學機械拋光

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2、段的化學機械平坦化應用場景有兩類,一是用于形成光滑平整的界面,如應用于在層間介電層,Inter,Layer,Dielectric,拋光,二是用于形成內嵌的金屬結構或者溝槽樁隔離,如銅互連與淺溝槽隔離的拋光。

3、段的化學機械平坦化應用場景有兩類,一是用于形成光滑平整的界面,如應用于在層間介電層,Inter,Layer,Dielectric,拋光,二是用于形成內嵌的金屬結構或者溝槽樁隔離,如銅互連與淺溝槽隔離的拋光。

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