cmp拋光液的用途

1、 請務必閱讀正文之后的信息披露和重要聲明請務必閱讀正文之后的信息披露和重要聲明 公公 司司 研研 究究 深深 度度 研研 究究 報報 告告 證券研究報告證券研究報告 半導體材料半導體材料 審慎增持審慎增持 首次首次 市場數據市場數據 市場數。

2、 tablemain 行業深度模板 證券證券研究報告研究報告行業行業深度深度研究研究 半導體材料系列報告半導體材料系列報告3 3 拋光拋光液液 墊墊:C CMPMP 工藝關鍵耗材工藝關鍵耗材 拋光液拋光液墊是墊是 CMP 關鍵耗材關鍵耗材。

3、萬華化學深度報告之十: 稟賦優秀,進軍CMP拋光墊和拋光液領域 證 券 研 究 報 告 化工行業 2020年09月12日 首席分析師:李永磊執業證書編號:S1220517110004 分析師: 董伯駿執業證書編號: S12205200600。

4、 請務必閱讀正文之后的信息披露和法律聲明 TableMainInfo 公司研究信息設備半導體產品與半導體設備 證券研究報告 安集科技安集科技688019公司研究報告公司研究報告 2020 年 10 月 29 日 TableInvestInf。

5、證券研究報告 請務必閱讀正文后免責條款部分 2021 年 01 月 04 日 公司研究公司研究 評級:評級:買入買入首次覆蓋首次覆蓋 研究所 國內國內 CMP 拋光液龍頭拋光液龍頭,深度受益國產替代深度受益國產替代 安集科技安集科技6880。

6、CMP 拋光液貢獻主要營收,光刻膠去除劑逐步起量.從收入結構看,CMP 拋光液貢獻主要營收,20172019 年分別實現營收 2.32 億2.48 億2.85 億元,各年營收占比穩定在八成以上,同時隨著公司在光刻膠去除劑不斷突破,該領域逐。

7、CMP拋光工藝具備H高的技術壁壘,拋光液工藝難專用性高種類逐浙增加.在納米級的器件線路上,對不同材料的去除速率選擇比以及表面粗糙度和缺陷要求精準至納米乃至分子級,高難工藝對拋光材料的性能提出更高的技術要求.同技術節點,不同下游客戶工藝技術。

8、12020年拋光液平均單價為3.9萬噸,由于拋光液市場競爭格局相對穩定,而且行業內各公司與下游客戶合作關系緊密,預計拋光液產品在未來五年處于3.54.0萬噸的價格區間波動.pp2產能增加:招股書數據顯示,公司2018年銅及銅阻擋層CMP拋。

9、但是中國大陸作為全球范圍內晶圓擴產規劃最大之一的國家,我們認為隨著中國晶圓產能逐步的投建,將會為中國大陸對于CMP 耗材的需求有著巨大的提升.在下文章節我們將展開闡述了中國全球晶圓廠的擴產,以及制程及晶圓尺寸帶來的價值量變化,因此我們判斷隨。