IGBT工藝與設計難度高,產品生命周期長。IGBT芯片結構分為正面(Emitter side )和背面(Collectoer
side)。從80年代初到現在,IGBT正面技術從平面柵(Planar)迭代至溝槽柵(Trench),并演變為微溝槽(Micro Pattern Trench
);背面技術從穿通型(PT,Punch Through)迭代至非穿通型(NPT,Non Punch Through),再演變為場截止型(FS,Field
Stop )。
(1)早期設計:穿通型(PT,PunchThrough)
使用重摻雜的P+襯底作為起始層,在此之上依次生長N+buffer,N-base外延,最后在外延層表面形成元胞結構。它因為截止時電場貫穿整個N-base區而得名。工藝復雜,成本高,而且需要載流子壽命控制,飽和壓降呈負溫度系數,不利于并聯,于80年代后期被逐漸取代。
(2)IGBT2:平面柵(Planar)+非穿通型(NPT,NonPunchThrough)
相比PT,NPT使用低摻雜的N-襯底作為起始層,先在N-漂移區的正面做成MOS結構,然后用研磨減薄工藝從背面減薄到IGBT電壓規格需要的厚度,再從背面用離子注入工藝形成P+collector。在截止時電場沒有貫穿N漂移區,因名非穿通型。部分IGBT2產品在高頻開關應用領域仍有一定銷量。
(3)IGBT3:溝槽柵(Trench)+場截止(Field-Stop)
1)柵極結構變為溝槽型,電子溝道垂直于硅片表面,消除了JFET結構,增加了表面溝道密度,提高近表面載流子濃度,性能更加優化。2)縱向結構方面,場截止的起始材料和NPT相同,都是低摻雜的N-襯底;場截止在背面多注入了一個Nbuffer層,它的摻雜濃度略高于N襯底,因此可以迅速降低電場強度,使整體電場呈梯形,使所需的N-漂移區厚度大大減??;Nbuffer還可以降低Р發射極的發射效率,從而降低了關斷時的拖尾電流及損耗。在中低壓領域基本已經被IGBT4取代,但在高壓領域依然占主導地位,比如330ov,4500v,6500V的主流產品仍然在使用IGBT3。
(4)IGBT4:溝槽柵+場截止+薄晶圓
和IGBT3一樣,都是場截止+溝槽柵的結構,但IGBT4優化了縱向結構,漂移區厚度更薄,背面Р發射極及Nbuffer的摻雜濃度及發射效率都有優化。IGBT4是目前使用最廣泛的IGBT芯片技術,電壓包含600V,1200V,1700v,電流從10A到3600A具有涉及。
(5)IGBT5
溝槽柵+場截止+表面覆銅:使用厚銅代替了鋁,銅的通流能力及熱容都遠遠優于鋁,因此IGBT5允許更高的工作結溫及輸出電流。同時芯片結構經過優化,芯片厚度進一步減小。銅的成本高于鋁,IGBT5未得到廣泛應用,目前只封裝在PrimePACKTM里,電壓也只有1200V,1700v.
(6)IGBT6
溝槽柵+場截止:器件結構和IGBT4類似,但是優化了背面P+注入,從而得到了新的折衷曲線。IGBT6未得到廣泛應用,只有單管封裝的產品。
(7)IGBT7
微溝槽柵+場截止:IGBT7作為最新一代技術,其溝道密度更高,元胞間距也經過精心設計,并且優化了寄生電容參數,從而實現5kv/us下的最佳開關性能。目前,IGBT7尚未得到廣泛應用,但發展前景廣闊。英飛凌的相關產品中,T7用于電機驅動器,E7應用于電動商用車主驅,光伏逆變器等。隨著光伏產業、新能源汽車產業的發展,IGBT7有望進一步推廣[1]。
目前使用最廣泛的是IGBT4。IGBT芯片迭代的主要優化方向包括:溝道密度提高、電流密度提高、最大工作溫度提高、芯片厚度減薄、導通壓降降低、開關損耗降低、開關頻率提高(以及與短路能力取舍平衡)等。
