1 SiC(碳化硅)是什么
SiC 一般指碳化硅,它是 II-IV 族的二元化合物半導體,其在工藝氧化的過程中,生成的氧化物為 SiO2,和 硅(Si
)材料的氧化產物一致,形成了絕緣層,帶來了工藝上的便利。

2 半導體材料發展階段
第一階段:20世紀50年代,第一代半導體材料以硅(Si)、鍺(Ge)
為代表,用在分立器件和芯片制造等方面,并引發了以集成電路為核心的微電子產業的迅速發展,廣泛應用在信息技術、航空航天、國防軍工、光伏等領域。
第二階段:20世紀90年代,化合物半導體材料興起,主要以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)
等化合物為代表,半導體材料開始進入光電子領域,用途是制作高速、高頻、大功率以及發光電子器件和高性能微波、毫米波器件的優良材料,微波通信、光通信、衛星通信、光電器件、激光器和衛星導航等領域廣泛應用。
第三階段:本世紀初至現在,寬禁帶半導體材料盛行,主要以氮化鎵(GaN)碳化、硅(SiC)
等為代表,在禁帶寬度、擊穿電場強度等關鍵參數方面具有顯著優勢,特別是在現代工業對高功率、高電壓、高頻率具有強烈需求的環境下,主要用于制作高溫、高頻、大功率和抗輻射電子器件,半導體照明、航空航天、衛星通信、光通信、電力電子、5G通信等領域得到充分應用。

3 SiC的優勢:
雖然 SiC 材料晶格類型很多,而商業化的只有 4H-SiC和 6H-SiC 兩種。目前國內外已經有美國的科銳公司,日本的富士電機,東芝公司生產了直徑在 100mmSiC 晶片。由于 4H-SiC 有著比 6H-SiC高50%的載流子遷移率成為 SiC 功率器件的首選使用材料。
1)高溫環境:材料的本征載流子密度對溫度非常的敏感,對于Si的器件在溫度超過300K的時候材料里面的本征載流子會迅速增加,造成器件電學性能的不穩定。在600K以上的環境中Si器件將無法工作。由于Si器件對溫度要求較高所以需要一個復雜的封裝冷卻系統的支持,增加了器件的成本。SiC材料的導熱性(4.9w /cm·K)是Si材料(1.5
w/cm·K)的3倍,在封裝以及溫度方面的要求較低,可以降低成本。所以SiC器件適合于高溫環境下開關電路。
2)高壓環境:擊穿電壓是功率器件設計和使用時,必須考慮的重要指標,但是過分強調高擊穿電壓,就需要增加漂移區的厚度或者減小漂移區的摻雜濃度,以上兩種方式都會導致導通電阻過大,從而增加在穩態下的能量損耗。SiC材料的臨界擊穿電場是Si材料的十倍,所以SiC器件可以在相同的耐壓條件下可以降厚度,降為Si的材料的十分之一,或者可以增加摻雜的濃度減小導通電阻降低損耗。
3)
關斷速度快,損耗?。涸诟哳l電路中,電子電力器件工作中開關損耗也是很大一塊能量消耗。SiC寬禁帶材料本征載流子的數量較少,并且載流子的壽命很短,關斷速度很快,減小了能量損耗。

4 SiC器件在電動汽車中的應用

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