什么是光掩膜？分類有哪些？生產工藝流程介紹

2023-04-27 19:30:07 作者：2200 14636

1、光掩模

光掩模版(Photomask)又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是在含有鉻等金屬薄膜的玻璃基板(Blanks)上，形成復雜幾何圖形(Geometry)的圖形轉移母板即俗稱的Mask，是光刻工藝中復印光致抗蝕掩蔽層的“印相底片”。

光掩模是由基座(Blank)和薄膜(Pellicle)兩部分組成，其中，基座(Blank)的結構可分為substrate-玻璃;Metal file—鉻膜;薄膜( Pellicle Membrane)由硝化纖維素;外框(Frame);黏膠(adhesive tape)組成。

光掩模應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如 IC(Integrated Circuit，集成電路)、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統)等。

2、光掩模分類

光掩膜按用途分類可分為四種，分別為鉻版(chrome)、干版、液體凸版和菲林。

(1)鉻版(chrome)

具有精度高、耐用等特性，但價格相對較高。

(2)干版

精度適中、耐用性適中、價格適中。

(3)菲林

主要用來轉移PI液等。

(4)液體凸版

精度低、耐用性也不高但價格低。

掩膜版

3、光掩模生產工藝流程

圖形設計→圖形轉換→圖形光刻→顯影→刻蝕→脫?！逑础叽鐪y量→缺陷檢查→缺陷修補→清洗→貼膜→檢查→出貨。

掩膜版

在基板(Blanks)上涂上光阻(Resist)材料，利用鐳射電子束設備繪刻出所需的各種 Geometry，并繼續進行顯影的制程，去除掉基板(Blanks)上多余的光阻材料，再透過蝕刻的制程，去除掉不被光阻材料覆蓋的鉻膜，最后再清洗殘留下來的光阻材料，最后便會依照鉻膜的線路，讓Geometry 留在玻璃基板上。最后還必須進行檢查、測量并確認是否正確精準的形成了 Geometry，并在超高精細的光罩上貼附用來防止灰塵以及靜電的保護(Coating)之后出廠。

來源：《【研報】化工行業掩膜版：光刻工藝“底片”國產替代步伐加快-20200614[27頁].pdf 》

更多相關內容，敬請關注三個皮匠報告的行業知識欄目了解。

推薦閱讀：

什么是質子交換膜?種類及特性介紹

什么是聚氨酯保護膜?廠家有哪些?

2022年全球及中國薄膜電容器行業前景分析

什么是光學膜?主要種類有哪些?應用領域介紹

什么是鋰電池隔膜?分類有哪些?性能要求是怎樣的?

掩膜版上市企業有哪些?國內外掩膜版上市企業梳理

PI膜是什么材料?用途有哪些?國內外生產廠家一覽