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T3 - Fundamentals of Circuit Designs for 2.5D_3D Integration.pdf

上傳人: 2*** 編號:155007 2024-02-04 66頁 4.17MB

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本文主要介紹了2.5D/3D集成電路設計的基礎知識,包括背景、芯片間互連設計、芯片架構復雜性推動高級解決方案、未來趨勢和結論。文中詳細討論了2.5D/3D集成電路的背景,包括設備演變、持續技術創新和TSMC 3DFabricTM集成。在芯片間互連設計部分,作者詳細介紹了關鍵性能指標、串行與并行接口、高級物理層架構、2.5D水平D2D互連和3D垂直D2D互連。在芯片架構復雜性推動高級解決方案部分,作者討論了設計復雜性的上升和3DIC設計表示的當前狀態。在結論部分,作者指出,雖然單片工藝的改進將繼續,但這些改進本身無法滿足AI時代每個封裝中的晶體管數量的需求。因此,2.5D或3D芯片集成成為必須。設計者需要熟悉高級封裝選項、并行接口作為芯片物理層、最小化功率和面積、處理可測試性、冗余和熱問題以及新的CAD工具和流程。此外,新興的芯片連接標準,如UCIe等,將很快無處不在。
2.5D/3D集成技術如何推動芯片設計創新? 芯片堆疊技術如何解決高性能計算的挑戰? 未來3D IC設計將面臨哪些主要挑戰和機遇?
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