從前文可以看出，光刻機的每個子系統都是復雜的系統工程，把各個子系統組裝成可使用的整機是更為復雜的系統工程，盡管自上世紀90年代，我國科研團隊就開始了光刻機相關研究，但受限于國外設備、技術的封鎖，以及自身技術薄弱等原因，進展一直落后于國外。2008年，我國出臺了《國家中長期科學和技術發展規劃綱要（2006-2020）》，其中明確了16個科技重大專項，其中排名第二的就是“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”，因此也被業內稱為“02專項”。光刻機項目作為“02專項”的核心項目之一由此開啟，根據“02專項”的部署，上海微電子負責光刻機整體的系統設計和系統集成；中科院長春光學精密機械和物理研究所（簡稱長光所）牽頭負責物鏡系統的研發，中科院上海光學精密機械研究所（簡稱上光所）負責照明系統的研發，兩者一起組成光刻機的曝光光學系統；清華大學牽頭負責光刻機雙工件臺設計；浙江大學牽頭負責研發光刻機浸液系統。產業化的進程中，各高校和科研院所也孵化了一批公司，本篇報告根據公開信息整理如下表所示。