高純氧化亞氮是一種活性較低的氧化劑，具有較高的選擇性。在集成電路領域，主要通過CVD 工藝沉積生長氧化硅、氮化硅及氮氧化硅介質層；在新型顯示領域，主要用于生成氮化硅和氮氧化硅半導體膜，以此作為開關控制屏幕的電流導通；在光伏領域，主要通過PECVD 工藝沉積生長氮化硅或氮氧化硅，在 PN 結硅表面形成減反射膜以提高太陽光吸收率。