公司的產品與東京電子的先進設備還有一定差距，但是部分指標可以超過相同定位的產品。我們對比分析芯源微電子涂膠顯影機與東京電子最先進的 CLEAN TRACK LITHIUS系列涂布機/顯影機發現，公司產品的技術指標已經可以對標東京電子最先進的涂布機/顯影機設備，且在部分指標可以超過東京電子的相同定位產品。但是東京電子的設備覆蓋的工藝制程較廣，包括 EUV、ArFi、ArF、KrF、i-line、SOC、SOD 等，芯源微雖然也推出了相關設備，但還尚未掌握 28nm 以下先進制程的涂膠顯影設備技術。且公司在涂覆均勻度等方面還存在一些不足，例如超厚膠膜涂覆均勻性和薄膜平面噴涂均勻性欠佳；相較東京電子的涂膠機/顯影機設備生產效率較低；雖然可以聯機作業，但驗證較少。