光刻膠是什么意思？發展歷程介紹

2021-06-09 15:35:07 作者：X-iao 2988

1、光刻膠是什么意思

光刻膠又叫光致抗蝕劑，主要是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。其由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。而在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料，半導體材料在表面加工時，若采用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。

光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。光刻膠生產技術較為復雜，品種規格較多，在電子工業集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。

光刻膠

2、光刻膠發展歷程

國外光刻膠發展歷程

(1)、1950年左右開發出的酚醛樹脂-重氮萘醒正型光刻肢用稀堿水顯影，顯影時不存在肢膜膨脹問題，因此分辨率較高，且抗干法蝕刻性較強，能滿足大規模集成電路及超大規模集成電路的制作。

(2)、1954年EasMan-Kodak公司臺成了人類第一種感光聚合物——聚乙烯醇肉桂酸酯，開創了聚乙烯醇肉桂釀酯及其衍生物類光刻膠體系，這是人類最先應用在電子工業上的光刻膠。

(3)、1958年Kodak公司又開發出了環境橡膠-雙疊氮系光刻膠。因為該膠在硅片上具有良好的粘附性，同時具有感光速度快、抗濕法刻蝕能力強等優點，在20世紀B0年代初成為電子工業的主要用膠。

(4)、1990年前后，248nm光刻膠開始研究;在20世紀90年代中后期進入成熟階段。

(5)、2002年，193nm光刻膠進入成熟階段。

(6)、2001年，開始研究157nm深紫外光刻膠。

(7)、2009年，極短紫外光刻膠開始研發。電子束光刻膠、X射線膠和離子束膠都得到了—定的發展。

國內光刻膠發展歷程

我國光刻膠的研究始于20世紀70年代，最初階段與國際水平相差無幾，幾乎和日本同時起步，但由于種種原因，差距愈來愈大。目前我國在這一領域基本上無技術優勢可言，與國際先進水平相比有較大的差距。在產品上大約相差3代以上。國外已推出157nm光刻肢，而我國G線光刻膠的生產尚在中試階段。此外由于光刻膠與電子工業有特殊的關系，而電子產品又與軍事有密切的關系，從而導致在先進領域很難和國外進行交流，進一步影響了光刻膠研究。

根據我國電子工業“十五”發展戰略，到21世紀電子工業將成為我國的支柱產業之一，并且近幾年隨著微流控行業的日益成熟，光刻膠及其配套試劑在中國市場上呈快速增長的態勢，是極其生命力的產品，具有良好的市場前景。

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