投影物鏡結構類型主要包括全折射型、折反射型、全反射型。由于單片鏡片存在像差、球差等問題，投影物鏡多采用組合鏡片進行糾正，DUV光刻機物鏡多采用折射式設計（（即鏡片均為透鏡），隨著技術演進向浸沒式，鏡片組中也會加入反射鏡，鏡片組中同時包含透鏡與反射鏡，以實現相同條件下更大數值孔徑，進入 EUV領域，由于 EUV使用的波長為 13.5nm，該波段的光幾乎沒有光學材料可以透過，只能采用全反射式進行設計。