中，遇到尺寸與波長大小相近的障礙物時，光會傳到障礙物的陰影區并形成明暗變化的光強分布情況。這種情況在投影式光刻中尤為明顯，激光通過掩膜版的透光區和投影物鏡后會出現顯著的夫瑯禾費衍射現象，導致曝光圖形邊緣的分辨率降低，圖案邊緣失真嚴重，CD 精度大幅下降。因此，為了提高光刻環節曝光圖形的CD 精度，必須要對掩膜圖案進行光學鄰近效應修正（OPC）。