化學氣相沉積法為高溫低壓環境，產品凈度更高?；瘜W氣相沉積法（CVD, Chemical Vapor Deposition)是將微波能量導入反應室，產生等離子體。等離子體在氮氣等混合物輔助下，在超高溫和低于標準大氣壓的壓力下，激發高濃度甲烷（CH4）分子中的碳碳鍵，將期分解為自由碳離子和氫分子。在電磁場的作用下，諧振腔內的院子、分子及基團之間相互碰撞，在襯底表面發生氣象化學反應，自由碳離子在基板（即鉆石晶種）表面沉積，逐漸形成鉆石薄膜。氫氣在反應室中扮演還原劑，防止鉆石薄膜上的碳形成石墨。CVD 法制作培育鉆石凈度較高。