半導體材料行業深度：光刻膠國產替代正當時-220826（63頁）.pdf

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1、光刻膠國產替代正當時國海證券研究所李永磊(證券分析師)董伯駿(證券分析師)湯永俊(聯系人)S0350521080004S0350521080009S評級：推薦(首次覆蓋)證券研究報告2022年08月26日電子化學品1半導體材料行業深度之一：請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明2最近一年走勢相關報告黑貓股份（002068）2022年中報點評：二季度盈利環比回升，新材料領域加速布局（買入）*橡膠*董伯駿，李永磊2022-08-26三友化工（600409.SH）2022年中報點評：Q2業績環比改善，“三鏈一群”布局打開成長空間（買入）*化學原料*董伯駿，李

2、永磊2022-08-26新和成（002001）2022年中報點評：高成本下經營穩健，歐洲成本抬升將形成利好（買入）*化學制藥*董伯駿，李永磊2022-08-25利安隆2022年中報業績點評：利安隆(300596)2022年中報點評：H1業績同比+47%，看好公司多線業務發展（買入）*化學制品*董伯駿，李永磊2022-08-25桐昆股份（601233）2022年中報點評：滌綸長絲持續擴能，行業景氣逐步修復（買入）*煉化及貿易*董伯駿，李永磊2022-08-25-0.05750.00870.07480.14100.20720.2734電子化學品滬深300相對滬深300表現2022/08/25表現1

3、M3M12M電子化學品9.1%16.3%-13.3%滬深300-2.3%3.3%-7.7%8XpXcV8VtVkZrZeX6M8QbRsQoOmOoMkPqQwOeRnPxOaQoPmMMYpMtPMYnRrP請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明3重點關注公司及盈利預測重點關注公司及盈利預測重點公司代碼股票名稱2022/8/25EPSPE投資評級股價20212022E2023E20212022E2023E603650.SH彤程新材32.290.550.781.2058.941.327.0未評級300655.SZ晶瑞電材18.230.590.400.5

4、653.146.132.6未評級300398.SZ飛凱材料21.370.751.001.1629.321.418.4未評級300346.SZ南大光電35.320.340.400.53141.087.366.7未評級603306.SH華懋科技30.740.570.891.2553.634.424.6未評級300236.SZ上海新陽34.730.340.330.82104.5105.742.2未評級002409.SZ雅克科技67.470.721.291.7695.952.338.2未評級002643.SZ萬潤股份19.150.691.031.2628.418.615.2買入資料來源：Wind，國海

5、證券研究所注：除萬潤股份外，其余標的盈利取自Wind一致預期，容大感光暫無一致預期，暫未列出。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明4核心提要核心提要光刻是光電信息產業核心環節光刻是光電信息產業核心環節，光刻膠技術壁壘高光刻膠技術壁壘高光刻是利用光學、化學、物理方法，將設計好的電路圖轉移到晶圓等表面，是光電信息產業鏈中核心環節。光刻膠是對光敏感的混合液體，主要是由樹脂、光引發劑、溶劑、單體等組成，是光刻工藝中最核心耗材，其性能決定著光刻質量。目前，光刻膠生產在工藝技術、測試設備和下游認證均存較高壁壘。面板和半導體產業快速發展面板和半導體產業快速發展，國

6、內光刻膠市場前景廣闊國內光刻膠市場前景廣闊光刻膠主要應用于半導體、顯示面板和PCB等領域，其中顯示面板用占比27%，PCB和半導體用占比分別為25%和24%。近年，電子信息產業更新換代速度加快，疊加半導體、顯示面板產業東移，國內光刻膠需求快速提升，我國光刻膠市場規模從我國光刻膠市場規模從20152015年的年的100100億元增至億元增至20202020年的年的176176億億元元，年均復合增速達年均復合增速達1212%；據我們測算；據我們測算，20222022-20252025年市場規模將達年市場規模將達222222、250250、281281和和316316億元億元，成長空間廣闊成長空間廣

7、闊。全球光刻膠市場規模從2010年的56億美元增至2020年的87億美元，年均復合增速達5%；據我們測算，2022-2025年將達98、103、109和114億美元，穩步提升。據不完全統計，目前晶瑞電材等國內實現光刻膠量產的上市公司，2021年光刻膠相關業務營收合計達27.4億元，約占國內市場規模的14%，全球市場規模的5%，國內市場和全球市場均存在廣大的國產替代空間。全球光刻膠供給高度集中全球光刻膠供給高度集中，國內高端領域逐步突破國內高端領域逐步突破光刻膠屬于技術和資本密集型行業，全球供應市場高度集中，日本JSR等五家龍頭企業占據全球光刻膠市場87%的份額，同時海外龍頭也已實現EUV等高端

8、制程量產。目前，我國光刻膠生產主要集中在PCB光刻膠等中低端產品，其中PCB光刻膠占比達94%；而半導體用g/i線膠自給率約10%，KrF膠自給率不足5%，ArF膠基本依靠進口。在政策推動及半導體產業鏈配套需求提升背景下，國內優秀龍頭公司正積極突破國內優秀龍頭公司正積極突破，彤程新材彤程新材EUVEUV膠已通過膠已通過0202專項驗收；專項驗收；上海新陽上海新陽、徐州博康徐州博康ArFArF膠正處客戶測試階段膠正處客戶測試階段，南大光電南大光電ArFArF膠已獲部分客戶認證膠已獲部分客戶認證；晶瑞電材等；晶瑞電材等i i/g/g線膠已實現量產線膠已實現量產。隨著國內廠商在高端光刻膠領域的逐步突

9、破，國產替代進程有望加速。投資建議：投資建議：綜合考慮國內以光刻膠為代表的電子化學品行業的快速發展綜合考慮國內以光刻膠為代表的電子化學品行業的快速發展，首次覆蓋首次覆蓋，給予電子化學品行業給予電子化學品行業“推薦推薦”評級評級。建議關注彤程新材建議關注彤程新材、容大感光容大感光、晶瑞電材晶瑞電材、飛凱材料飛凱材料、南大光電南大光電、華懋科技華懋科技、上海新陽上海新陽、雅克科技雅克科技、萬潤股份萬潤股份。風險提示：風險提示：下游需求增長不達預期；經濟大幅下行；項目投產進度不及預期；安全環保風險；下游認證進程不及預期；重點關注公司業績不及預期等風險；國產替代實施進度的不確定性；技術進步對產業影響的

10、不確定性。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明5 目錄目錄一一光刻膠：半導體產業核心材料光刻膠：半導體產業核心材料二光刻膠市場前景廣闊三國產替代進行時四投資建議五風險提示 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明61.1 1.1 光刻是光電信息產業鏈中核心環節光刻是光電信息產業鏈中核心環節圖表：光刻圖表：光刻工藝在芯片制造中實現電路布圖工藝在芯片制造中實現電路布圖資料來源：中芯國際招股書，國海證券研究所光刻技術是指利用光學-化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將圖形傳遞到介質層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝

11、技術，是光電信息產業鏈中的核心環節之一。以芯片制造為例，在晶圓清洗、熱氧化后，需通過光刻和刻蝕工藝，將設計好的電路圖案轉移到晶圓表面上，實現電路布圖，之后再進行離子注入、退火、擴散、氣相沉積、化學機械研磨等流程，最終在晶圓上實現特定的集成電路結構。晶圓清洗、熱氧化光刻(涂膠、曝光、顯影）刻蝕（干法、濕法）離子注入、退火擴散化學氣相沉淀物理氣相沉淀化學機械研磨晶圓（加工后）檢測多次循環逐層堆積電路圖實現特定功能電路布圖光掩模制作功能實現 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明71.1 1.1 光刻膠是光電工藝核心材料光刻膠是光電工藝核心材料光刻膠，又稱光

12、致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體，是光刻工藝中最核心的耗材，其性能決定著光刻質量。作為圖像轉移“中介”，光刻膠是通過曝光顯影蝕刻工藝發揮轉移作用，首先將光刻膠涂覆于有功能層的基底上，然后紫外光通過掩膜版進行曝光，在曝光區促使光刻膠發生溶解度變化反應，選擇性改變其在顯影液中的溶解度，未溶解部分最后在蝕刻過程中起保護作用，從而將掩模版上的圖形轉移到基底上。圖表：光刻工藝核心流程圖表：光刻工藝核心流程資料來源：強力新材公司公告 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明81.1 1.1 光刻膠由樹脂、光引發劑等組分組成光刻膠由樹脂、光引發劑等組分組成光刻膠主要

13、是由樹脂、光引發劑、溶劑、單體和其他助劑組成。光刻膠樹脂和光引發劑是影響光刻膠性能最重要的組分。樹脂主要是用于把光刻膠中不同材料聚在一起的粘合劑，給予光刻膠機械和化學性質。光引發劑，又稱光敏劑或光固化劑，系光刻膠材料中的光敏成分，在吸收一定波長的紫外光或可見光能量后，可分解為自由基或陽離子并可引發單體發生化學交聯反應。圖表：光刻膠由溶劑、樹脂、光引發劑、單體等組成圖表：光刻膠由溶劑、樹脂、光引發劑、單體等組成資料來源：強力新材公司公告，國海證券研究所圖表：樹脂和光引發劑是光刻膠重要組分圖表：樹脂和光引發劑是光刻膠重要組分資料來源：相關公司公告，國海證券研究所光刻膠成分光刻膠成分作用作用溶劑使光

14、刻膠具有流動性，易揮發，對于光刻膠的化學性質幾乎沒有影響。光引發劑又稱光敏劑或光固化劑，系光刻膠材料中的光敏成分，是一類吸收一定波長的紫外光或可見光能量后，可分解為自由基或陽離子并可引發單體發生化學交聯反應的化合物。樹脂惰性聚合物，用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑，給予光刻膠其機械和化學性質。單體又稱活性稀釋劑，含有可聚合官能團的小分子，能參與聚合反應形成高分子樹脂的低分子化合物。助劑用于控制光刻膠的特定化學性質。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明91.2 1.2 按反應機理可分為正性和負性光刻膠按反應機理可分為正性和負性光刻膠根據根據化學

15、反應機理化學反應機理不同不同，光刻膠可分正性光刻膠和負性光刻膠光刻膠可分正性光刻膠和負性光刻膠。正性光刻膠受光照射后，感光部分發生分解反應，可溶于顯影液，未感光部分顯影后仍留在基底表面，形成的圖形與掩膜版相同。負性光刻膠正好相反，曝光后的部分形成交聯網格結構，在顯影液中不可溶，未感光部分溶解，形成的圖形與掩膜版相反。圖表：光刻膠按反應機理可分為正性和負性圖表：光刻膠按反應機理可分為正性和負性資料來源：容大感光招股書 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明10根據應用領域不同根據應用領域不同，光刻膠可分為光刻膠可分為PCBPCB光刻膠光刻膠、LCDLCD

16、光刻膠和半導體光刻膠光刻膠和半導體光刻膠，技術門檻逐漸遞增技術門檻逐漸遞增。1.2 1.2 按應用領域可分為按應用領域可分為PCBPCB、LCDLCD、半導體光刻膠、半導體光刻膠圖表：按應用領域可分為圖表：按應用領域可分為PCBPCB、LCDLCD、半導體光刻膠、半導體光刻膠資料來源：相關公司公告，光刻材料的發展及應用，國海證券研究所整理按應用領按應用領域分類域分類PCBPCB光刻膠光刻膠LCDLCD光刻膠光刻膠半導體光刻膠半導體光刻膠干膜光刻膠濕膜光刻膠光成像阻焊油墨TFT正性光刻膠觸控用光刻膠彩色光刻膠和黑色光刻膠i線(365nm)g線(436nm)KrF(248nm)ArF(193nm)

17、EUV(13.5nm)微細圖形加工微細圖形加工在玻璃基板上沉積ITO制作制備彩色濾光片6寸晶圓6寸、8寸晶圓8寸晶圓12寸晶圓12寸晶圓應用領域應用領域酚醛樹脂+重氮萘醌化合物聚對羥基苯乙烯及其衍生物+光致產酸劑聚酯環族丙烯酸酯及共聚物+光致產酸劑聚酯衍生物分子玻璃單組分材料+光致產酸劑核心原材料核心原材料丙烯酸樹脂+六芳基二咪唑丙烯酸類樹脂等+肟酯系列高感度光引發劑 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明11PCB是指印制線路板，是電子產品基本組成部分之一，被譽為“電子產品之母”。PCB 的加工制造過程涉及圖形轉移，即把設計完成的電路圖像轉移到襯底板

18、上，因而在此過程中會使用到光刻膠。PCBPCB光刻膠主要包括干膜光刻膠光刻膠主要包括干膜光刻膠、濕膜光刻膠濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨等光成像阻焊油墨等。干膜光刻膠干膜光刻膠是由液態光刻膠在涂布機上和高清潔度的條件下均勻涂布在載體PET膜上，經烘干、冷卻后覆上PE膜，收卷而成的薄膜型光刻膠。濕膜光刻膠濕膜光刻膠的工作原理是將其涂布在敷銅板上，干燥后進行曝光顯影。不論是濕膜還是干膜，最終都是將底片上的電路圖形復制到光刻膠上，再利用其抗蝕刻性能，對覆銅板進行蝕刻加工，最形成印制電路板的精細銅線路。PCBPCB感光阻焊油墨感光阻焊油墨主要用途為防止金屬導線的氧化和老化、延長使用壽命，防止銅線條之間發生

19、短路、以及防止不必要的焊錫或其他金屬附著于PCB板上。1.2 1.2 光刻膠在光刻膠在PCBPCB印制中起關鍵作用印制中起關鍵作用圖表：光刻膠在圖表：光刻膠在PCBPCB印制中啟關鍵作用印制中啟關鍵作用資料來源：強力新材公司公告 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明12顯示面板光刻膠可分為顯示面板光刻膠可分為TFTTFT正性光刻膠正性光刻膠、觸控用光刻膠觸控用光刻膠、彩色光刻膠和黑色光刻膠等彩色光刻膠和黑色光刻膠等。TFT正性光刻膠主要用于制作薄膜晶體管陣列用。在LCD顯示器加工過程中，彩色濾光片是液晶顯示器實現彩色顯示的關鍵器件，而彩色濾光片的制造

20、是用彩色光刻膠和黑色光刻膠在基板上的附著加工制造而成，光刻膠質量的好壞直接影響彩色濾光片的顯色性能，是LCD制造業的關鍵上游材料。1.2 1.2 光刻膠是光刻膠是LCDLCD濾光片關鍵原料濾光片關鍵原料圖表：彩色光刻膠和黑色光刻膠是濾光片關鍵材料圖表：彩色光刻膠和黑色光刻膠是濾光片關鍵材料資料來源：強力新材公司公告 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明13在大規模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸，占芯片制造時間的40-50%，占制造成本的30%。在圖形轉移過程中，一般要對硅片進行十多次光刻

21、，光刻膠需經預烘、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影和蝕刻等環節，將掩膜版上的圖形轉移到硅片上，形成與掩膜版對應的幾何圖形。1.2 1.2 光刻是半導體加工的重要工藝光刻是半導體加工的重要工藝圖表：光刻是半導體加工中重要工藝圖表：光刻是半導體加工中重要工藝資料來源：晶瑞電材招股書 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明14隨著IC集成度的提高，集成電路的制程工藝水平已由微米級（1.0m）、亞微米級（1.0-0.35m）、深亞微米級（0.35m 以下）進入到納米級（90-22nm）。為適應集成電路線寬不斷縮小的要求,光刻膠的波長也由紫外寬譜向光刻膠的波長

22、也由紫外寬譜向g g線線(436436nm)nm)、i i線線(365365nmnm）、KrFKrF(248248nmnm）、ArFArF(193193nm)nm)、EUV(EUV(1313.5 5nmnm）的方向轉移，曝光波長越短，光刻膠技術水平越高，適用的集成電路制程也更加先進。根據美國半導體產業協會的統計，2018 年高端ArF干式和浸沒式光刻膠占據42%市場份額，KrF和g線/i線分別占據22%和24%市場份額。ArF光刻膠已是集成電路制造需求金額最大的光刻膠產品，隨著未來集成電路產業的進一步發展，ArF光刻膠面臨廣闊的市場機遇。此外，目前雖已有使用EUV來實現更高分辨率微細加工技術的

23、試探，但由于新型微細加工技術的導入需要巨額的設備投資，半導體芯片制造商導入EUV加工技術的步伐暫未完全邁開。1.2 1.2 半導體光刻膠技術水平不斷提升半導體光刻膠技術水平不斷提升產品類型產品類型曝光波長曝光波長 應用集成電路制程應用集成電路制程晶圓尺寸晶圓尺寸g線光刻膠436nm0.5um以上6寸i線光刻膠365nm0.5um-0.35um6寸KrF光刻膠248nm250nm-130nm8寸ArF光刻膠（干式）193nm130nm-65nm12寸ArF光刻膠（浸沒式）193nm65nm-14nm，配合雙重及多重顯影技術可達到7nm12寸EUV光刻膠13.5nm7nm以下12寸圖表：圖表：Ar

24、FArF光刻膠占據半導體光刻膠光刻膠占據半導體光刻膠42%42%市場份額（市場份額（20182018年）年）資料來源：南大光電公司公告，國海證券研究所圖表：半導體光刻膠技術水平不斷提升圖表：半導體光刻膠技術水平不斷提升資料來源：南大光電公司公告，國海證券研究所 線 線 其 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明15光刻膠領域里，光刻膠的制造環節處于中游，上游主要依托基礎化工原料，生產樹脂、光引發劑、溶劑、單體等電子化學品；中游包括PCB光刻膠、面板光刻膠和半導體光刻膠的制備；下游為印刷電路板、顯示面板和電子芯片，廣泛應用于消費電子、航空航天、軍工等領域

25、。1.3 1.3 光刻膠制造環節處于產業鏈中游光刻膠制造環節處于產業鏈中游圖表：光刻膠處于產業鏈中游圖表：光刻膠處于產業鏈中游資料來源：Trendbank，國海證券研究所樹脂基礎化工原料光引發劑溶劑上游上游LCD光刻膠半導體光刻膠中游中游PCB光刻膠下游及應用終端下游及應用終端電子終端印刷電路板電子芯片顯示面板消費電子軍工航空航天單體及其他助劑 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明16光刻膠生產工藝復雜光刻膠生產工藝復雜，技術壁壘高技術壁壘高，其研發和量產需要企業的長期技術積累其研發和量產需要企業的長期技術積累，對企業研發人員的素質對企業研發人員的素

26、質、行業經驗行業經驗、技術儲備等都具有極高要求技術儲備等都具有極高要求，新進入者需要極大的研發投入新進入者需要極大的研發投入。其中，光刻膠的研發是不斷進行配方調試不斷進行配方調試的過程，配方研發是通過幾百個、幾千個樹脂、光酸和添加劑的排列組合嘗試出來，且難以通過現有產品反向解構出其配方，這對技術及經驗積累有非常高的要求。原材料比重的微調會直接影響到光刻膠的各個性能指標，比如溶劑的多少會影響粘度；光引發劑的多少會影響光刻膠的靈敏度。同時，光刻膠的國產化替代實際是對標的過程，即產品所以的性能參數都必須和國外供應商的產品完全匹配，某個關鍵參數的不匹配都可能會使開發必須從頭推導重來。同時，產品純度產品

27、純度、金屬離子雜質控制等金屬離子雜質控制等也是光刻膠生產工藝中需面臨的技術難關，光刻膠純度不足會導致芯片良率下降。而從實驗室到穩定量產穩定量產也是光刻膠行業中的關鍵壁壘。在工業生產中，光刻膠和樹脂等原料所涉及的核心參數，如分子量、分子量分布、金屬離子控制等，都必須實現每批次間的穩定一致。1.4 1.4 光刻膠行業具有高工藝技術壁壘光刻膠行業具有高工藝技術壁壘 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明17此外，高端光刻膠生產的大量專利掌握在海外龍頭企業中，這在光刻膠技術上已構建了專利壁壘，阻礙后來者進入。以EUV光刻膠為例，全球專利申請量前十名中日本占據7

28、席，富士膠片以422件排在第一；美國羅門哈斯和陶氏化學占據兩席；韓國三星電子占據一席。1.4 1.4 光刻膠行業具有高工藝技術壁壘光刻膠行業具有高工藝技術壁壘圖表：日本企業圖表：日本企業EUVEUV光刻膠領域專利申請量領先光刻膠領域專利申請量領先資料來源：EUV光刻膠專利分析及技術熱點綜述，2019年7月，國海證券研究所排名排名申請人申請人申請量申請量/件件排名排名申請人申請人申請量申請量/件件1富士膠片4226陶氏192信越化學1377東京應化143住友化學1198JSR124羅門哈斯549出光興產115松下電器2310三星電子10 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注

29、中的風險提示和免責聲明18除項目研發需要持續資金投入外，光刻膠生產還需光刻機進行配套測試，而光刻機造價高昂，且價格持續上升。據ASML年報，其EUV光刻機銷售均價從2018年的1.04億歐元/臺增長至2021年的1.50億歐元/臺，這為光刻膠研發和生產帶來較大的成本開支。除成本高昂外，受瓦森納協定限制，中國大陸企業較難購買最先進的光刻機。晶瑞電材于2020年以1102.5萬美元價格從韓國SK海力士購買了一臺二手ArF浸入式光刻機，單臺設備占公司高端光刻膠研發項目投資額的比例高達16%，這臺設備最高分辨率為28nm。1.4 1.4 光刻膠行業具有高設備壁壘光刻膠行業具有高設備壁壘圖表：光刻機采購

30、占項目總投資比例較大圖表：光刻機采購占項目總投資比例較大資料來源：相關公司公告，國海證券研究所圖表：圖表：ASMLASML光刻機價格持續上漲光刻機價格持續上漲資料來源：ASML年報，國海證券研究所 光刻機單價（萬 ）光刻機單價（萬 ，）公司公司光刻膠類型光刻膠類型光刻機采購價光刻機采購價（萬）（萬）占項目投資占項目投資額比例額比例南大光電ASML浸沒式光刻機1438022%晶瑞電材ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機7607（1102.5萬美）16%請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明19光刻膠具有高客戶壁壘，由于芯片制造所需光刻過程復

31、雜多樣，不同光刻過程、同一光刻過程的不同廠家對光刻膠的需求也有差異，因此光光刻膠生產商需要調整光刻膠配方以滿足差異化需求刻膠生產商需要調整光刻膠配方以滿足差異化需求。而光刻膠達到下游客戶要求的技術指標后，還需要進行較長時間驗證測試還需要進行較長時間驗證測試（1 1-3 3年年）。因此，一旦達成合作，光刻膠廠商和下游集成電路制造商會形成長期合作關系。此外，光刻膠更新換代較快，光刻膠廠家出于技術保密考慮，一般會和上游原料供應商進行密切合作，共同開發新技術，增大了客戶的轉換成本。因此，光刻膠行業的上下游合作處于互相依賴互相依存的關系光刻膠行業的上下游合作處于互相依賴互相依存的關系，市場新進入者很難與

32、現有企業競爭，簽約新客戶的難度高。1.4 1.4 光刻膠行業具有高客戶壁壘光刻膠行業具有高客戶壁壘圖表：光刻膠認證流程周期長圖表：光刻膠認證流程周期長資料來源：TrendBank，國海證券研究所光刻膠配方與工藝研制基礎工藝與品質考核送樣檢驗小規模生產技術研討及問題反饋技術改進量產測試中試大批量供貨 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明20 目錄目錄一光刻膠：半導體產業核心材料二二光刻膠市場前景廣闊光刻膠市場前景廣闊三國產替代進行時四投資建議五風險提示 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明212.2.光刻膠市

33、場前景廣闊光刻膠市場前景廣闊光刻膠下游結構分布均衡光刻膠下游結構分布均衡，市場規模持續增長市場規模持續增長光刻膠下游應用分布較為較為均衡，其中LCD用光刻膠占光刻膠總消費量的比例達27%，半導體用光刻膠、PCB用光刻膠占比均為24%，其他類光刻膠占比達25%。近年，電子信息產業更新換代速度不斷加快，同時，隨著半導體、顯示面板、光刻膠產業的東移，國內光刻膠需求快速提升，我國光刻膠市場規模從2015年的100億元，快速增長至2020年的176億元，年均復合增速高達11.97%。國內面板光刻膠需求快速增長國內面板光刻膠需求快速增長，半導體光刻膠市場穩中有升半導體光刻膠市場穩中有升分領域看，近年PCB

34、光刻膠市場需求增長穩定，國內PCB光刻膠市場規模從2015年的70億元增至2020年的85億元，年均復合增速達4%。受益于LCD產業由日韓加速向國內轉移，同時大尺寸面板需求快速增長，國內面板光刻膠需求高速提升，市場規模從2015年的3.1億美元增長至2020年的10.2億美元，年均復合增速高達27%。而光刻膠作為關鍵半導體材料之一，近年市場規模也穩定增長，國內半導體光刻膠市場規模從2015年的17.8億元增至2020年的27.4億元，年均復合增速達9%。未來，隨著國內晶圓廠的高速建設，半導體光刻膠市場空間廣闊。多項政策支持光刻膠發展多項政策支持光刻膠發展，進口替代有望加速進口替代有望加速據我們

35、測算，2022-2025年我國光刻膠市場規模將達222、250、281和316億元，成長空間廣闊；全球光刻膠市場規模將達98、103、109和114億美元，穩步提升。目前日美廠商占據全球光刻膠市場絕大份額，國內半導體光刻膠進口比例高達九成。2021年信越限供KrF光刻膠以及當前國際大環境的變化，國產替代勢在必行。近年，我國也陸續出臺多項政策支持光刻膠行業發展，推動國產替代進程，國產光刻膠也有望加速驗證，獲得更多國內市場份額。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明22全球光刻膠下游應用分布較為均衡，其中LCD用光刻膠占光刻膠總消費量的比例達27%，PCB

36、用光刻膠、半導體用光刻膠占比分別為25%、24%，其他類光刻膠占比達24%。2.2.全球全球光刻膠市場結構較為均衡光刻膠市場結構較為均衡圖表：全球光刻膠市場結構較為均衡（圖表：全球光刻膠市場結構較為均衡（20192019年）年）資料來源：產業信息網，國海證券研究所 光刻膠 半導體光刻膠 光刻膠 其 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明23近年，電子信息產業更新換代速度不斷加快，對光刻膠的需求也持續增長。據Reportlinker，2020年全球光刻膠市場規模達87億美元，較2010年的55.5億美元，年均復合增速達4.60%。隨著半導體、顯示面板、光

37、刻膠產業的東移，國內光刻膠需求也快速提升，我國光刻膠市場規模從2015年的100億元，快速增長至2020年的176億元，年均復合增速高達11.97%。2.2.光刻膠市場規模持續增長光刻膠市場規模持續增長圖表：國內光刻膠市場規?？焖僭鲩L圖表：國內光刻膠市場規?？焖僭鲩L資料來源：南大光電公司公告，國海證券研究所圖表：全球光刻膠市場規模持續增長圖表：全球光刻膠市場規模持續增長資料來源：Reportlinker，國海證券研究所 全球光刻膠市場規模（美）國內光刻膠市場規模（）同比增速（）請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明24分領域看，光刻膠是PCB產業重要的

38、上游材料，在PCB制造成本中，光刻膠和油墨的占比約為3-5%。近年PCB光刻膠市場需求增長穩定，國內PCB光刻膠市場規模從2015年的70億元，增長至2020年的85億元，年均復合增速達4.0%。2.1 PCB2.1 PCB光刻膠市場需求穩定增長光刻膠市場需求穩定增長圖表：國內圖表：國內PCBPCB光刻膠市場規模穩定增長光刻膠市場規模穩定增長資料來源：產業信息網，國海證券研究所圖表：圖表：PCBPCB成本結構（成本結構（20202020年）年）資料來源：前瞻產業研究，國海證券研究所 人工 球 光刻膠與 專用化學品等 光刻膠市場規模（）同比增速（）請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱

39、讀報告附注中的風險提示和免責聲明25PCB是電子產品中不可或缺的元件，近年需求也穩步增長，據Wind統計，全球PCB市場產值從2014年的574億美元增長至2019年的613億美元，年均復合增速達1.32%。隨著全球電子信息產業從發達國家向新興經濟體和新興國家轉移，中國已成為全球最為重要的電子信息產品生產基地，PCB產值增速明顯高于全球平均水平，中國大陸PCB產值從2014年的262億美元增長至2019年的329億美元，年均復合增速達4.66%，全球份額占比也從45.6%提升至53.7%。隨著科技水平的不斷提升，物聯網、汽車電子、工業4.0、云端服務器、存儲設備等將成為驅動PCB需求增長的新方

40、向；而PCB向高密度化、薄型高多層化等高技術含量方向發展，將帶動PCB光刻膠用量持續增長。2.1 2.1 我國我國PCBPCB產值穩步提升產值穩步提升圖表：中國大陸圖表：中國大陸PCBPCB產值穩步增長產值穩步增長資料來源：Wind，國海證券研究所圖表：全球圖表：全球PCBPCB產值整體呈增長趨勢產值整體呈增長趨勢資料來源：Wind，國海證券研究所 全球 產值（美）同比增速（中國大陸 產值（美）同比增速（請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明26面板顯示中，彩色濾光片是液晶顯示器實現彩色顯示的關鍵器件，占面板成本的14-16%，而彩色光刻膠和黑色光刻膠

41、是制備彩色濾光片的核心材料，占彩色濾光片成本的27%左右。2020年，全球面板光刻膠市場規模達23.7億美元，同比增長3.95%。國內面板光刻膠市場規模近年增長較快，從2015年的3.07億美元增長至2020年的10.2億美元，年均復合增速高達27.14%。2.2 2.2 面板光刻膠市場規模持續增長面板光刻膠市場規模持續增長圖表：國內面 光刻膠市場規?？焖僭鲩L圖表：國內面 光刻膠市場規?？焖僭鲩L資料來源：產業信息網，國海證券研究所圖表：全球面 光刻膠市場規模穩步增長圖表：全球面 光刻膠市場規模穩步增長資料來源：產業信息網，國海證券研究所 全球面 光刻膠市場規模（美）同比增速（）國內面 光刻膠市

42、場規模（美）同比增速（）請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明272.2 LCD2.2 LCD產業向國內轉移，大尺寸面板出貨面積持續增長產業向國內轉移，大尺寸面板出貨面積持續增長圖表：國內大尺寸面 出貨面積持續增長圖表：國內大尺寸面 出貨面積持續增長資料來源：Wind，國海證券研究所圖表：國內大尺寸面 出貨量呈增長趨勢圖表：國內大尺寸面 出貨量呈增長趨勢資料來源：Wind，國海證券研究所 出貨量 大尺寸面 合 月值（萬片）貨面積 大 寸面板 合 萬 方 國內面板光刻膠市場規?？焖僭鲩L，一方面受益于日本、韓國等新建LCD產線速度減慢甚至關?，F有產線，國內

43、廠商的異軍突起，LCD產業正快速向國內轉移，因此也帶動國內面板光刻膠需求的快速提升。另一方面，近年高清大尺寸面板需求快速增長，我國大尺寸面板出貨面積從2015年的1.63億平方米增長至2021年的2.32億平方米，年均復合增速達6.0%。大尺寸面板出貨面積的增長，將進一步促進作為關鍵原材料光刻膠的需求增長。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明28光刻膠作為關鍵半導體材料之一光刻膠作為關鍵半導體材料之一，近年市場規模穩定增長近年市場規模穩定增長。全球半導體光刻膠市場規模從2016年的15.0億美元增長至2021年的24.7億美元，年均復合增速達10.5

44、%；國內半導體光刻膠市場規模從2015年的17.8億元增長至2020年的27.4億元，年均復合增速達9.0%。2.3 2.3 國內外半導體光刻膠市場穩中有升國內外半導體光刻膠市場穩中有升圖表：國內半導體光刻膠市場規?？焖僭鲩L圖表：國內半導體光刻膠市場規?？焖僭鲩L資料來源：華經情報網，國海證券研究所圖表：全球半導體光刻膠市場規模持續增長圖表：全球半導體光刻膠市場規模持續增長資料來源：前瞻產業，彤程新材公司公告，國海證券研究所 全球半導體光刻膠市場規模（美）同比增速（）中國半導體光刻膠市場規模（）同比增速（）請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明29隨著新

45、能源汽車、5G 通訊、物聯網等行業的發展，下游應用功率半導體、傳感器、存儲器等需求的擴大，半導體行業快速發展，也帶動上游半導體材料需求的增長。據Wind，全球半導體材料銷售額從2013年的430.5億美元增長至2019年的521.4億美元，年均復合增速達3.2%；國內半導體材料銷售額從2013年的56.6億美元增至2019年的86.9億美元，年均復合增速達7.4%。光刻膠在半導體材料中也扮演重要角色光刻膠在半導體材料中也扮演重要角色。2019年，全球光刻膠及附屬產品銷售額占全球集成電路制造材料銷售總額的10.3%。2.3 2.3 半導體材料需求提升，光刻膠扮演重要角色半導體材料需求提升，光刻膠

46、扮演重要角色圖表：光刻膠是半導體制造中關鍵材料（圖表：光刻膠是半導體制造中關鍵材料（20192019年）年）資料來源：全球集成電路關鍵材料產業發展態勢與風險分析，國海證券研究所圖表：國內半導體材料銷售額持續增長圖表：國內半導體材料銷售額持續增長資料來源：Wind，國海證券研究所 全球半導體材料銷售額（美）國半導體材料銷售額（美）國占全球比例（）晶圓 光掩 光刻膠及其 產品 材 研磨 電子特 氣體 其 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明30半導體光刻膠主要用于晶圓制造環節，我國晶圓廠建設將迎來高速增長期，這將為光刻膠帶來廣闊成長空間。據IDC及芯思想

47、研究院（Chipinsights）統計，截至2019年，我國6、8、12英寸晶圓制造廠裝機產能分別為229.1、98.5、89.7萬片/月，預計到2024年將達292、187、273萬片/月，年均復合增速分別高達5%、14%和25%。2.3 2.3 國內晶圓廠高速建設，為半導體光刻膠帶來廣闊成長空間國內晶圓廠高速建設，為半導體光刻膠帶來廣闊成長空間圖表：圖表：國內晶圓廠建設迎來高速增長期國內晶圓廠建設迎來高速增長期資料來源：南大光電公司公告 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明31資料來源：南大光電公司公告，華經情報網，產業信息網，國海證券研究所測算

48、注：國內光刻膠下游應用占比與全球存一定差異，主要由于產業結構相關原因，國 PCB產業和面 產業在全球占比較高，半導體和其 產業占比相對較低。圖表：國內光刻膠市場規?？焖偬嵘龍D表：國內光刻膠市場規?？焖偬嵘?.4 2.4 光刻膠市場空間廣闊光刻膠市場空間廣闊需求預測指標需求預測指標202020202021E2021E2022E2022E2023E2023E2024E2024E2025E2025E光刻膠市場規模（）176.0197.7222.4250.2281.4316.2增速（%）12.3%12.5%12.5%12.5%12.4%面 領域（）63.6 76.6 91.5 108.3 127.2

49、148.1 半導體領域（）27.4 32.2 37.9 44.6 52.4 61.7 PCB領域（）85.0 88.9 93.0 97.3 101.7 106.4 圖表：全球光刻膠市場規模將穩步增長圖表：全球光刻膠市場規模將穩步增長資料來源：Reportlinker，產業信息網，前瞻產業，彤程新材公司公告，國海證券研究所測算需求預測指標需求預測指標202020202021E2021E2022E2022E2023E2023E2024E2024E2025E2025E光刻膠市場規模（美）87.093.898.4103.4108.5114.0增速（%）7.8%5.0%5.0%5.0%5.0%面 領域（

50、美）23.7 24.7 25.7 26.7 27.8 29.0 半導體領域（美）20.7 24.7 26.5 28.5 30.5 32.8 PCB領域（美）21.8 22.5 23.2 24.0 24.8 25.6 其 領域（美）20.9 21.9 23.0 24.2 25.4 26.6 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明322019年7月1日，日本政府突然宣布對韓國出口的“光刻膠”、“高純度氟化氫”、“氟聚酰亞胺”三種半導體原材料實施限制，這三種材料韓國對日本的依賴度分別為91.9%、44%和93.7%。日本的精準打擊，引發了韓國半導體產業鏈震蕩

51、。2021年2月，日本福島東部海域發生7.3級地震，導致信越化學在當地的產線遭受破壞，在之后3-6個月內未恢復供給，因此信越化學向中國大陸多家晶圓廠限制供應KrF光刻膠，并向小規模晶圓廠通知停止供應，之后，KrF光刻膠供需也一致處于進展狀態。2022年3月，日本福島外海再次發生規模7.3級地震，信越化學工廠再次受到影響。當前，日美廠商占據了全球光刻膠市場絕大份額，半導體光刻膠的進口比例高達九成。同時，高端光刻膠保質期僅有6-9個月，且保存較為困難，芯片制造商通常不會大量囤貨。一旦日美廠商限供，中國芯片制造廠商難免陷入“無膠可用”的困境。因此，信越斷供以及當前國際大環境的變化，有望推動國產替代進

52、程，國產光刻膠也有望加速驗證，獲得更多國內市場份額。目前，國內多家晶圓廠也在加速驗證導入本土KrF光刻膠。彤程新材第一款國產化KrF負性光刻膠2021年在中芯國際、合肥長鑫等用戶形成銷售；晶瑞電材、上海新陽的KrF光刻膠也已通過部分客戶認證。2.4 2.4 信越斷信越斷供，有望推動國產替代進程供，有望推動國產替代進程 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明33近年來，我國政府大力扶持半導體與原料產業發展，陸續出臺了多項政策支持光刻膠行業發展，推動產業大力研發，突破“卡脖子”技術，早日實現產業鏈核心技術國產化替代。2.4 2.4 政策扶持，進口替代加速政

53、策扶持，進口替代加速圖表：圖表：截至截至20212021年國家層面有關光刻膠行業的重要政策年國家層面有關光刻膠行業的重要政策資料來源：前瞻產業研究院，國海證券研究所發布時間發布時間發布部門發布部門政策名稱政策名稱重點內容解讀重點內容解讀政策性質政策性質2014.6國務院國家集成電路產業發展推選綱要加強集成電路裝備、材料與工藝結合，研發光刻機、刻蝕機、離子注入機等關鍵設備，開發光刻膠、大尺寸 片等關鍵材料，加強集成電路制造企業和裝備、材料企業的協作，加快產業化進程增強產業配套能力；戰略部署類2015.10/國家重點支持的高新技術領域(2015)將高分辨率光刻膠及配套化學品列入“精細化學品”大類的

54、電子化學品”項：戰略部署類2015.10國家制造強國建設戰路咨詢婁員會中國制造2025重點技術領域綠皮書技術路線圖（2017）將光刻技術中兩次驟光、安次豚光、EUV（極紫外光刻）、電子束服光、193am光刻膠、EUV光刻膠列入“新一代信息技術產業”大光的“集成電路與專用設備”項；研發支持類2016.09工信部石化和化學工業發展規劃（2016-2020年）發展策成電路用電子化學品，重點發展248nm和193nm級光刻膠、PPT級高純試劑和聚酰亞胺和 體環氧封裝材料；戰略部署類2017.02發改委戰略性新興產業重點產品和服務指導目錄(2016版)將光刻膠列入“電子核心產業”的“集成電路”項：戰略部

55、署類2017.05科技部“十三五”先進制造技術領域科技創新專項規劃將深紫外光刻發列為極大規模集成電路制造裝備及成交工藝的關鍵材料；研發支持類 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明342.4 2.4 政策扶持，進口替代加速政策扶持，進口替代加速續圖表：截至續圖表：截至20212021年國家層面有關光刻膠行業的重要政策年國家層面有關光刻膠行業的重要政策資料來源：前瞻產業研究院，國海證券研究所發布時間發布時間發布部門發布部門政策名稱政策名稱重點內容解讀重點內容解讀政策性質政策性質2017.12發改委新材料關鍵技術產業化實施方案發展高端專用化學品包括KrF（

56、248nm）光刻膠和ArF光刻膠（193nm），為大型和超大型集成電路提供配套，單套裝置規模達到10噸/年：研發支持類2019.12工信部重點新材料首批應用示范指導目錄（2019版）推薦材料：集成電路用光刻膠及其關鍵原材料及配套試劑、ArF光刻膠用脂環族環氨樹脂、LCD用正性光刻膠和g/i線正性光刻膠用酚醛樹脂：研發支持類2020.07國務院新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干建議國家鼓勵的集成電路設、裝備、材料、封裝、測試企業和軟件企業，自獲利年度起，第一年至第二年免征企業所得稅，第三年至第五年技照25%的法定稅率或減半征收企業所得稅；稅收優惠類2020.09發改委、科技部、工信

57、部關于擴大戰略性新興產業投資培育壯大新增長點新增長極的指導意見聚焦重點產業設資領域，加快新材料產業強弱項：加快在光刻膠、高純 材、高溫合金、高性能纖維材料、高強高導耐熱材料、耐腐蝕材料、大尺寸 片、電子封裝材料等領域實現突破；投資支持類2020.12財政部、發改委等關于促進集成電路產業和軟件產業高質量發展企業所得稅政策的公告國家效勵的集成電路線寬小于28納米（含）.且經營期在15年以上的集成電路生產企業或項目，第一年至第十年免征企業所得稅；國家鼓勵的集成電路線寬小于65納米（含）且經營期在15年以上的集成電路生產企業或項目，第一年至第五年免征企業所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅率減半征

58、收企業所得稅：國家鼓勵的集成電路線寬小于130納米（含）且經營期在10年以上的集成電路生產企業或項目，第一年至第二年免征企業所得稅第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業所得稅；稅收優惠類 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明35 目錄目錄一光刻膠：半導體產業核心材料二光刻膠市場前景廣闊三三國產替代進行時國產替代進行時四投資建議五風險提示 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明363.3.國產替代進行時國產替代進行時全球光刻膠供給高度集中全球光刻膠供給高度集中，海外龍頭已實現高端制程量產海外龍頭已實現高

59、端制程量產光刻膠屬于技術和資本密集型行業，目前核心技術主要掌握在日、美等國際大公司手中，全球供應市場高度集中，日本JSR等五家龍頭企業占據全球光刻膠市場87%的份額。同時，海外龍頭已實現高端制程量產，其中日本主要廠商已實現領域內最先進的EUV光刻膠的量產，以陶氏、德國默克、錦湖石化為代表的其他光刻膠廠商也已實現ArF光刻膠的量產。國內光刻膠以中低端產品為主國內光刻膠以中低端產品為主，高端領域逐步突破高端領域逐步突破我國光刻膠行業起步較晚，生產能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品，其中PCB光刻膠占比達94%。先進制程半導體光刻膠方面，g/i線膠自給率約10%，Kr

60、F膠自給率不足5%，ArF膠基本依靠進口，而EUV膠還仍處研發階段。而隨著半導體產業鏈配套需求的提升，國內一批優秀的龍頭公司正積極突破，EUV膠方面，北京科華已通過02專項驗收；ArF膠方面，上海新陽、徐州博康正處于客戶測試階段，南大光電已獲部分客戶認證。光刻膠上游組分隨光刻技術發展變化光刻膠上游組分隨光刻技術發展變化，國內企業產能持續擴張國內企業產能持續擴張光刻膠上游原料主要包括光刻膠樹脂、光引發劑、溶劑、單體及其他助劑等，其中樹脂和光引發劑是最關鍵的組分。目前，光刻膠專用電子化學品主要被日本、歐美企業占據較大市場份額。但經過多年技術積累，國內已形成一定光刻膠用電子化學品產能，強力新材、久日

61、新材、萬潤股份等相關公司市場份額逐步提升，國產替代正持續進行。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明3737光刻膠生產工藝復雜，技術壁壘高，屬于技術密集型和資本密集型行業，目前核心技術主要掌握在日、美等國際大公司手中，因此全球供應市場高度集中。日本JSR等五家龍頭企業占據全球光刻膠市場87%的份額，呈寡頭壟斷格局，其中JSR占據全球光刻膠市場28%的份額，東京應化占比21%，杜邦占比15%，信越化學占比13%，富士電子材料占比10%。而作為光刻膠的高端應用，全球半導體光刻膠也集中于日美企業，日本JSR、東京應化等五家日本企業占據72%的市場份額，美國杜

62、邦占據15%的市場份額。從細分市場來看，日本廠商幾乎壟斷先進制程市場，占據全球64%以上的g/i線光刻膠市場、83%以上的ArF光刻膠市場、74%以上的KrF光刻膠市場。3.1 3.1 全球光刻膠供給高度集中全球光刻膠供給高度集中圖表：日美企業占據半導體光刻膠主要市場（圖表：日美企業占據半導體光刻膠主要市場（20192019年）年）資料來源：TECHCET，國海證券研究所圖表：全球光刻膠供應高度集中（圖表：全球光刻膠供應高度集中（20192019年）年）資料來源：全球集成電路關鍵材料產業發展態勢與風險分析，國海證券研究所日本合成 膠（）東京應化 羅門哈斯 信越化學 住友化學 富士電子材料 其

63、日本合成 膠（）東京應化 羅門哈斯 信越化學 富士電子材料 其 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明38圖表：圖表：KrFKrF光刻膠市場占比（光刻膠市場占比（20192019年）年）資料來源：前瞻產業研究院，國海證券研究所東京應化 信越化學 日本合成 膠（）其 圖表：圖表：g/ig/i線光刻膠市場占比（線光刻膠市場占比（20192019年）年）資料來源：前瞻產業研究院，國海證券研究所東京應化 日本合成 膠（）住友化學 東進半導體 富士膠片 其 圖表：圖表：ArFArF光刻膠市場占比（光刻膠市場占比（20192019年）年）資料來源：前瞻產業研究院，

64、國海證券研究所日本合成 膠（）信越化學 東京應化 住友化學 其 3.1 3.1 日本企業占據先進制程主要市場日本企業占據先進制程主要市場 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明393.1 3.1 國外龍頭企業已實現高端制程光刻膠的量產國外龍頭企業已實現高端制程光刻膠的量產目前，日本主要光刻膠廠商已經實現領域內最先進的EUV光刻膠的量產，以陶氏、德國默克、錦湖石化為代表的其他發達國家光刻膠廠商也已實現 ArF 光刻膠的量產。圖表：日韓、美主要產商已實現高端制程光刻膠的量產圖表：日韓、美主要產商已實現高端制程光刻膠的量產資料來源：南大光電公司公告，國海證券

65、研究所公司公司國家國家/地區地區g g線線/i i線線KrFKrFArFArFEUVEUV東京應化日本量產量產量產量產合成 膠（JSR）日本量產量產量產量產住友化學日本量產量產量產量產信越化學日本量產量產量產量產富士膠片日本量產量產量產量產陶氏 美國量產量產量產默克德國量產量產量產錦湖石化韓國量產量產量產東進世美肯韓國量產量產三星SDI韓國量產 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明403.2 3.2 國內光刻膠生產主要以中低端產品為主國內光刻膠生產主要以中低端產品為主我國光刻膠行業發展起步較晚，生產能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻

66、膠等中低端產品，其中PCB光刻膠占比達94%，而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產品仍需大量進口。先進制程半導體光刻膠方面，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠國內自給率約為10%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠國內自給率不足5%，適用于12寸硅片的ArF光刻膠國內基本依靠進口，而EUV光刻膠還仍處研發階段。資料來源：晶瑞電材公司公告，國海證券研究所圖表：日美企業占據半導體光刻膠主要市場圖表：日美企業占據半導體光刻膠主要市場圖表：國本土光刻膠企業以圖表：國本土光刻膠企業以 PCBPCB光刻膠生產為主（光刻膠生產為主（20202020）資料來源：華懋科技公司公告，國海證券研究所 光刻膠 面

67、光刻膠 半導體光刻膠 其 光刻膠 應用領域應用領域主要品 主要品 國產化率國產化率PCB光刻膠干 光刻膠幾乎全進口濕 及阻焊 50%LCD光刻膠彩色光刻膠5%黑色光刻膠5%TFT-LCD正性光刻膠大部分進口半導體光刻膠g線10%i線10%KrF5%ArF1%EUV研發階段 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明413.2 3.2 國內企業正逐步突破高端光刻膠國內企業正逐步突破高端光刻膠而隨著電子信息產業向中國轉移、美國對中國科技的打壓、以及半導體產業鏈配套需求的提升，未來高端光刻膠實現進口替代是大勢所趨。盡管我國光刻膠領域與國外巨頭仍存不小差距，但國內

68、一批優秀的龍頭公司正積極投入研發，旨在突破高端光刻膠受制于人的局面，使光刻膠國產化由低端走向高端。EUV膠方面，北京科華已通過02專項驗收。ArF膠方面，上海新陽、徐州博康正處于客戶測試階段，南大光電已獲部分客戶認證；KrF膠方面，北京科華、上海新陽、徐州博康、晶瑞電材均具備量產能力。圖表：國內企業正逐步突破高端光刻膠圖表：國內企業正逐步突破高端光刻膠資料來源：相關公司公告，相關公司官網，集微網，新華網，Trendbank，地政府微信公眾號，國海證券研究所企業名稱企業名稱半導體用光刻膠半導體用光刻膠平 顯示用光刻膠平 顯示用光刻膠印制電路 用光刻膠印制電路 用光刻膠I/GI/G線膠線膠KrFK

69、rF膠膠ArFArF膠膠EUVEUV膠膠TFTTFT膠膠觸屏用膠觸屏用膠彩色彩色黑色黑色干 干 濕 濕 阻焊 阻焊 晶瑞電材I線100噸/G線20噸通過部分客戶測試，預 2022年量產研發中量產北京科華500噸 噸級研發中02專項通過驗收少量少量少量南大光電25噸，獲部分客戶認證上海新陽驗證通過客戶認證，取得訂單客戶測試徐州博康量產部分量產客戶測試容大感光量產客戶測試量產18000噸飛凱材料通過驗證，取得小批量訂單5000噸3500噸雅克科技3000噸3000噸北旭電子6000噸博硯電子1000噸1800噸欣奕華評測階段評測階段評測階段4000噸廣信材料LCD光刻膠實現小批量銷售8000噸鼎材

70、科技量產量產 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明423.2 3.2 國內光刻膠新增產能持續建設中國內光刻膠新增產能持續建設中國內光刻膠新建項目也持續建設中，彤程新材彤程新材6000噸/年顯示面板光刻膠已于2022年1月投產，11000噸/年半導體、平板顯示用光刻膠預計2022下半年完成建設并投產；雅克科技雅克科技國內產能也處于規劃建設階段，預計2023年投產，屆時公司國內光刻膠產能將達1.97萬噸/年；華懋科技參股子公司徐州博康徐州博康1100噸/年光刻膠材料也于2022年中投產；同時，華懋科技還與徐州博康、東陽金投于2021年共同成立東陽華芯東陽

71、華芯，擬建設年產8000噸中高端半導體光刻材料，預計2023年達產。隨著國內產能的持續投放，國產替代率將逐步提升。圖表：國內光刻膠新增產能持續建設中圖表：國內光刻膠新增產能持續建設中資料來源：相關公司公告，相關公司官網，國海證券研究所公司公司在建產能在建產能預 時間預 時間彤程新材1.1萬噸半導體、平 顯示用光刻膠及 2萬噸相關配套試劑生產線2022下半年完成建設并投產顯示面 光刻膠 6000噸2022年1月已投產ArF高端光刻膠研發平臺建設項目2023年底建設完成雅克科技國內光刻膠及光刻膠配套試劑項目（9840噸/年彩色光刻膠、9840噸/年正膠）2023年徐州博康年產1100噸光刻材料20

72、22年中東陽華芯年產8000噸中高端半導體光刻膠材料2023年 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明433.3 3.3 光刻膠組分隨光刻技術發展而變化光刻膠組分隨光刻技術發展而變化生產光刻膠的原料主要包括光刻膠樹脂、光引發劑、溶劑、單體及其他助劑等，其中樹脂和光引發劑是最關鍵的組分。隨著光刻技術的發展，對應于各曝光波長的光刻膠組分，也隨著光刻技術的發展而變化。長期以來，光刻膠專用電子化學品主要被日本、歐美的專業公司所壟斷。圖表：光刻膠組分隨光刻技術的發展而變化圖表：光刻膠組分隨光刻技術的發展而變化資料來源：光刻材料的發展及應用，國海證券研究所光刻膠體

73、系光刻膠體系樹脂樹脂光引發劑光引發劑光刻波長光刻波長聚乙烯醇肉桂酸酯系負性光刻膠聚乙烯醇肉桂酸酯成 樹脂自身紫外全譜（300-450nm)環化 膠-雙疊氮負膠環化 膠芳香族雙疊氮化合物紫外全譜（300-450nm）酚醛樹脂-重氮萘醌正膠酚醛樹脂重氮萘醌化合物G線（436nm）/i線（365nm）248nm 光刻膠聚對羥基苯乙烯及其衍生物光致產酸劑KrF（248nm）193nm 光刻膠聚酯環族丙烯酸酯及其共聚物光致產酸劑ArF(193nm 干法/浸沒法）EUV 光刻膠聚酯衍生物分子玻璃單組份材料光致產酸劑極紫外（EUV，13.5nm）電子束光刻膠體系甲基丙烯酸酯及其共聚物光致產酸劑電子束 請務必

74、閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明443.3 3.3 圣泉、彤程新材、強力新材量產光刻膠樹脂圣泉、彤程新材、強力新材量產光刻膠樹脂光刻膠樹脂方面，日本、美國企業目前占據主要市場。國內方面，圣泉、彤程新材、強力新材等目前開始逐步布局。圖表：圣泉、彤程新材、強力新材量產光刻膠樹脂圖表：圣泉、彤程新材、強力新材量產光刻膠樹脂資料來源：中商產業研究，國海證券研究所企業企業國家國家/地區地區類別類別企業企業國家國家/地區地區類別類別圣泉中國大陸半導體光刻膠樹脂陶氏化學美國半導體光刻膠樹脂臺灣安智電子材料中國臺灣半導體光刻膠樹脂美源商事韓國半導體光刻膠樹脂丸善石化日

75、本半導體光刻膠樹脂Eletra Polymers英國半導體光刻膠樹脂住友電木日本半導體光刻膠樹脂彤程新材中國大陸LCD光刻膠樹脂瑞翁日本半導體光刻膠樹脂圣泉中國大陸LCD光刻膠樹脂旭有機材日本半導體光刻膠樹脂大版瓦斯化學日本LCD光刻膠樹脂三菱化學日本半導體光刻膠樹脂JFE化學日本LCD光刻膠樹脂群萊化學日本半導體光刻膠樹脂旭有機材日本LCD光刻膠樹脂日本曹達日本半導體光刻膠樹脂美源商事韓國LCD光刻膠樹脂三井化學日本半導體光刻膠樹脂強力新材中國大陸PCB光刻膠樹脂瀚森美國半導體光刻膠樹脂長興材料工業中國臺灣PCB光刻膠樹脂 美國半導體光刻膠樹脂綜研化學日本PCB光刻膠樹脂RD Chemica

76、l美國半導體光刻膠樹脂 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明453.3 3.3 強力新材、久日新材量產光刻膠引發劑強力新材、久日新材量產光刻膠引發劑光引發劑方面，目前市場主要被日本、韓國、德國等國家的企業占據，目前國內強力新材、久日新材具備光刻膠引發劑量產能力。圖表：強力新材、久日新材量產光刻膠引發劑圖表：強力新材、久日新材量產光刻膠引發劑資料來源：中商產業研究，國海證券研究所企業企業國家國家/地區地區類別類別企業企業國家國家/地區地區類別類別強力新材中國大陸半導體光刻膠引發劑強力新材中國大陸LCD光刻膠引發劑日本丸紅日本半導體光刻膠引發劑ADEKA

77、日本LCD光刻膠引發劑富士日本半導體光刻膠引發劑巴斯夫德國LCD光刻膠引發劑和光純藥日本半導體光刻膠引發劑美源商事韓國LCD光刻膠引發劑東洋合成日本半導體光刻膠引發劑強力新材中國大陸PCB光刻膠引發劑黑金化成日本半導體光刻膠引發劑久日新材中國大陸PCB光刻膠引發劑San-Apro日本半導體光刻膠引發劑臺灣優椅中國臺灣PCB光刻膠引發劑美源商事韓國半導體光刻膠引發劑黑金化成日本PCB光刻膠引發劑巴斯夫德國半導體光刻膠引發劑IGM荷蘭PCB光刻膠引發劑IGM荷蘭半導體光刻膠引發劑巴斯夫德國PCB光刻膠引發劑 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明463.3

78、 3.3 國內涉足光刻膠溶劑企業較多國內涉足光刻膠溶劑企業較多單體方面，微芯新材、徐州博康、萬潤股份、瑞聯新材具備量產能力。溶劑方面，光刻膠溶劑制備技術壁壘相對較低，常用材料為丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA或PMA），國內企業涉足較多。目前國內有5家主要生產廠商，分別為江蘇華倫、江蘇天音化學、百川股份、怡達股份、江蘇三木。圖表：國內涉足光刻膠溶劑企業較多圖表：國內涉足光刻膠溶劑企業較多資料來源：中商產業研究，國海證券研究所企業企業國家國家/地區地區類別類別企業企業國家國家/地區地區類別類別微芯新材中國大陸光刻膠單體江蘇華倫中國大陸光刻膠溶劑徐州博康中國大陸光刻膠單體江蘇天音化學中國大陸光刻膠溶劑

79、萬潤股份中國大陸光刻膠單體 川股份中國大陸光刻膠溶劑瑞聯新材中國大陸光刻膠單體怡達股份中國大陸光刻膠溶劑丸善石化日本光刻膠單體江蘇三木中國大陸光刻膠溶劑旭有機材日本光刻膠單體神港有機日本光刻膠溶劑三菱化學日本光刻膠單體三菱化學日本光刻膠溶劑日本丸紅日本光刻膠單體 美國光刻膠溶劑出光興產日本光刻膠單體陶氏化學美國光刻膠溶劑日本曹達日本光刻膠單體利安德巴塞爾荷蘭光刻膠溶劑沙多瑪美國光刻膠單體陶氏化學美國光刻膠單體美源商事韓國光刻膠單體 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明473.3 3.3 光刻膠用電子化學品進口替代進行時光刻膠用電子化學品進口替代進行時

80、目前雖然在總體研發和生產能力上，國內公司還不能完全與BASF等國際競爭對手全面抗衡，但經過多年技術積累，國內已形成一定光刻膠用電子化學品產能，相關公司市場份額逐步提升，國產替代正持續進行。圖表：光刻膠用電子化學品進口替代進行時圖表：光刻膠用電子化學品進口替代進行時資料來源：相關公司公告，川資訊，國海證券研究所產品分類產品分類公司名稱公司名稱主要產品主要產品設 產能設 產能在建產能在建產能光引發劑強力新材PCB光刻膠光引發劑2100噸/年1000噸/年LCD光刻膠光引發劑180噸/年23噸/年半導體光刻膠光引發劑80噸/年其 用途光引發劑8000噸/年7000噸/年環保型光引發劑12000噸/年

81、12000噸/年久日新材PCB 17783噸/年微電子光刻膠專用光敏劑600噸/年光刻膠樹脂強力新材PCB光刻膠樹脂6600噸/年UV-LED 高性能樹脂50000噸/年50000噸/年圣泉半導體光刻膠樹脂酚醛樹脂：48.35萬噸/年彤程新材面 光刻膠樹脂5000噸/年單體微芯新材徐州博康193nm/248nm光刻膠單體800-1000噸/年萬潤股份溶劑江蘇天音丙二醇醚醋酸酯（PMA）13萬噸/年怡達股份15.5萬噸/年江蘇三木13萬噸/年江蘇華倫7萬噸/年 川股份5萬噸/年 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明48 目錄目錄一光刻膠：半導體產業核心

82、材料二光刻膠市場前景廣闊三國產替代進行時四四投資建議投資建議五風險提示 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明494.4.投資評級和建議投資評級和建議關注標的關注標的圖表：建議關注標的圖表：建議關注標的資料來源：Wind，相關公司公告，國海證券研究所股票代碼股票代碼光刻膠材料光刻膠材料半導體光刻膠半導體光刻膠LCDLCD光刻膠光刻膠PCBPCB光刻膠光刻膠603650.SH彤程新材300576.SZ容大感光300655.SZ晶瑞電材300398.SZ飛凱材料300346.SZ南大光電603306.SH華懋科技300236.SZ上海新陽002409.SZ

83、雅克科技002643.SZ萬潤股份綜合考慮國內以光刻膠為代表的電子化學品行業的快速發展，首次覆蓋，給予電子化學品行業“推薦”評級。建議關注彤程新材、容大感光、晶瑞電材、飛凱材料、南大光電、華懋科技、上海新陽、雅克科技、萬潤股份。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明50彤程新材在中國擁有多家精益制造工廠和兩家研發中心，業務涵蓋電子材料、可降解材料、以及汽車/輪胎用特種材料，業務范圍覆蓋全球40多個國家和地區，以“材料創新引領高端制造”為己任，推動“可持續的未來發展”。公司電子材料業務主要涵蓋半導體光刻膠及配套試劑半導體光刻膠及配套試劑、顯示面板光刻膠和

84、電子酚醛樹脂等產品顯示面板光刻膠和電子酚醛樹脂等產品。公司旗下半導體光刻膠生產企業北京科華，是國內領先的半導體光刻膠龍頭生產商，其I線光刻膠和KrF光刻膠批量供應于中芯國際、華虹宏力、長江存儲、華力微電子、武漢新芯、華潤上華等13家12寸客戶和17家8寸客戶；EUV膠方面，北京科華也已通過02專項驗收。在顯示面板光刻膠方面，子公司北旭電子是中國大陸第一家TFT-LCDArray光刻膠本土生產商，也是國內最大的液晶正性光刻膠本土供應商，2021年北旭電子面板光刻膠實現銷售收入2.56億元，同比增長22.70%；光刻膠產品銷量同比增長21%，國內市占率約為19%，位列國內第二大供應商。同時，公司致

85、力于推行先進的環保理念，通過引進巴斯夫授權的PBAT聚合技術，在上?；@區落地10萬噸/年可生物降解材料項目（一期），未來滿足高端生物可降解制品在購物袋、快遞袋、農業地膜方面的應用，目前該項目處于建設階段。4.1 4.1 彤程新材彤程新材 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明51容大感光自設立以來，一直致力于PCBPCB光刻膠光刻膠、顯示用光刻膠顯示用光刻膠、半導體用光刻膠半導體用光刻膠、特種油墨等特種油墨等電子化學品的研發、生產和銷售，是深圳市首批獲得國家級高新技術企業證書的自主創新型企業。PCB光刻膠領域，經過十余年的發展，公司產品種類日益豐富

86、，已具備了包括PCB感光線路油墨、PCB感光阻焊油墨等產品的完整系列，是行業內生產PCB感光油墨產品品種最為齊全的企業之一，在同行業中品牌效應突出，與多家中大型下游PCB制造企業建立了長期、穩定合作關系。同時，公司在穩固PCB感光油墨市場的基礎上，加大對顯示用和半導體光刻膠、特種油墨市場的開拓力度。目前，已具備TFT陣列用光刻膠、i/g線光刻膠的量產能力。未來，公司將在新產品配合下，加大市場開拓力度，努力成為一家國際一流的感光化學材料制造企業。4.2 4.2 容大感光容大感光 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明52晶瑞電材是一家集研發、生產和銷售于

87、一體的科技型新材料公司，為國內外新興科技領域提供關鍵材料和技術服務，主要產品包括超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等，廣泛應用于半導體、面板顯示、LED等泛半導體領域及鋰電池、太陽能光伏等新能源行業。在光刻膠領域光刻膠領域，子公司蘇州瑞紅1993年開始光刻膠生產，是國內少有的既有規模又有利潤的成熟光刻膠企業，擁有成系列的光刻膠5臺，承擔并完成了國家02專項“i線光刻膠產品開發及產業化”項目。公司光刻膠品類齊全，擁有負型光刻膠系列、寬譜正膠系列、g線系列、i線光刻膠系列、KrF光刻膠系列等數十個型號產品，ArF光刻膠的研發工作有序開展中。目前，i線光刻膠已向國內中芯國際、合肥長鑫等知名

88、大尺寸半導體廠商供貨；KrF光刻膠產品分辨率達到了0.25-0.13m的技術要求，已通過部分重要客戶測試，KrF光刻膠量產化生產線正在積極建設中，計劃2022年形成批量供貨。在高純電子化學品方面，公司已躋身國際先進水平，高純系列主流產品全線達到了最高純度SEMI G5等級，成為全球范圍內同時掌握半導體級高純雙氧水、高純硫酸、高純氨水三項技術的少數領導者之一，同時建成了高純硫酸、高純雙氧水兩大高純電子化學品國內最大產能，部分產品打破國外技術壟斷全面實現國產替代，成為幾個頭部芯片制造企業的主供應商。4.3 4.3 晶瑞電材晶瑞電材 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險

89、提示和免責聲明53飛凱材料致力于打造高科技制造配套材料綜合平臺，從光通信領域紫外固化材料的自主研發和生產開始，不斷尋求行業間技術協同，將核心業務范圍逐步拓展至集成電路制造、屏幕顯示和醫藥中間體領域，為客戶提供定制化、差異化的材料研究、生產和銷售服務。屏幕顯示光刻膠領域，公司正性光刻膠產品銷售量快速增長的同時正性光刻膠產品銷售量快速增長的同時，新產品負性光刻膠在新產品負性光刻膠在20212021年四季度也開始規模銷售年四季度也開始規模銷售。同時，公司半導體光刻膠研發項目也積極推動，目前i i線光刻膠已進入中試階段線光刻膠已進入中試階段，待項目達產，將進一步豐富公司光刻膠產品線，增強客戶對公司材料

90、的使用粘性。除光刻膠外，公司屏幕顯示材料還包括TN/STN型混合液晶、TFT型混合液晶、液晶單體及液晶中間體、用于OLED屏幕制造領域的配套材料等新材料。隨著國內高世代面板產線逐步投產，顯示面板國產化率提升及國內面板產能增加，公司混晶銷量仍保持快速增長。目前我國液晶顯示行業的材料進口替代正處于快速成長期，隨著我國液晶面板快速成長為全球最大的生產和消費國，公司該系列產品將會受益于行業的快速成長以及較大的材料進口替代空間，從而有助于提高該系列產品的盈利能力。4.4 4.4 飛凱材料飛凱材料 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明54南大光電是從事先進前驅體

91、材料、電子特氣、光刻膠及配套材料等三大關鍵半導體材料的研發、生產和銷售的高新技術企業，產品廣泛應用于集成電路、平板顯示、LED、第三代半導體、光伏和半導體激光器的生產制造。公司光刻膠技術研發始終堅持完全自主化路線，公司光刻膠研發中心具備了研制功能單體、功能樹脂、光敏劑等光刻膠材料的能力，能夠實現從光刻膠原材料到光刻膠產品及配套材料的全部自主化。公司正在自主研發和產業化的自主研發和產業化的ArFArF光刻膠光刻膠（包含干式及浸沒式包含干式及浸沒式）可以達到可以達到9090nmnm-1414nmnm的集成電路工藝節點的集成電路工藝節點，將實現高端光刻膠的進口替代，提升國家關鍵材料領域自主可控水平，

92、解決“卡脖子”技術難題。目前多款產品正在同時進行客戶認證，市場拓展工作抓緊推進。電子特氣領域，公司研發的高純磷烷、砷烷打破了國外技術封鎖和壟斷，為我國極大規模集成電路制造、民族工業振興提供了核心電子原材料。產品由控股子公司全椒南大光電生產，純度已達到6N級別，市場份額持續增長。同時，控股子公司飛源氣體是國內主要的含氟電子特氣生產企業，產品主要包括三氟化氮、六氟化硫及其副產品，憑借優質的產品質量及領先的技術水平，已成為國內集成電路及平板顯示領域多家領軍企業的重要供應商。4.5 4.5 南大光電南大光電 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明55華懋科技作

93、為一家新材料科技企業，目前已經發展成為汽車被動安全領域的龍頭企業，產品線覆蓋汽車安全氣囊布、安全氣囊袋以及安全帶等被動安全系統部件。同時，2020年公司制定了在新材料領域“完善夯實現有業務、積極拓展新領域”的發展戰略，逐步布局更具成長性以及技術壁壘的新材料細分行業。2021年，公司完成了對徐州博康的投資，持有徐州博康26.21%股權，成為第二大股東。目前，徐州博康ArF光刻膠有6款產品，其中有4款正在客戶端進行導入測試；KrF光刻膠有13款，其中有8款正在客戶端進行導入測試；I線光刻膠有11款，其中有10款正在客戶端進行導入測試。為了推進在光刻材料領域的產業布局，2021年10月公司通過東陽凱

94、陽與徐州博康、東陽金投共同發起設立合資公司東陽華芯電子材料有限公司，東陽凱陽持股比例為40%。東陽華芯擬建設“年產8000噸中高端半導體光刻材料項目”，產品為中高端半導體光刻膠及其配套材料，主要包括ArF光刻膠系列、KrF光刻膠系列、半導體厚膜封裝膠，半導體用光敏性聚酰亞胺（PSPI）等。目前，公司已取得相關土地使用權，2022年進入建設期，預計2023年投產。4.6 4.6 華懋科技華懋科技 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明56上海新陽經過二十多年發展，主要形成兩大類業務，一類為集成電路制造及先進封裝用關鍵工藝材料及配套設備的研發、生產、銷售和

95、服務，并為客戶提供整體化解決方案。另一類為環保型、功能性涂料的研發、生產及相關服務業務，并為客戶提供專業的整體涂裝業務解決方案。光刻膠領域，公司積極開展集成電路制造用I線、KrF、ArF干法高端光刻膠研發及產業化項目，以打破技術壁壘，擁有自主研發的產業鏈，提升公司技術競爭能力。目前，公司光刻膠項目不斷取得重大突破，自主研發的KrF光刻膠產品已通過客戶認證，并成功取得訂單，光刻膠產品系列不斷完善，不同料號十余種產品在客戶端認證順利。同時，公司在集成電路制造關鍵工藝材料領域芯片銅互連電鍍液及添加劑、蝕刻后清洗液經過十余年開發成功進入客戶端實現進口替代并已大規模產業化，使我國在該領域擁有了自主供應能

96、力。公司集成電路制造用電鍍、清洗產品國產化率不斷提高，市場份額快速提升。電鍍液及添加劑產品已覆蓋90-14nm技術節點，干法蝕刻后清洗液已經實現14nm以上技術節點全覆蓋，20-14nm電鍍液及添加劑已實現銷售。4.7 4.7 上海新陽上海新陽 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明57雅克科技成立于1997年，經過多年發展，特別是近幾年一系列的并購重組，公司從以前面臨行業規模和市場占有率雙重天花板的阻燃劑行業龍頭公司轉型升級，形成以電子材料業務電子材料業務和LNG保溫板材業務為主，阻燃劑業務為輔的戰略新興平臺型公司。公司電子材料業務涉及的產品主要有半

97、導體前驅體材料/旋涂絕緣介質（SOD）、電子特氣、光刻膠、硅微粉和半導體材料輸送系統（LDS）等。其中，光刻膠產品主要應用于高世代光刻膠產品主要應用于高世代LCDLCD顯示屏和顯示屏和OLEDOLED顯示屏顯示屏，目前擁有彩色光刻膠產能3000噸/年、正性光刻膠產能3000噸/年；同時，公司還規劃建設9840噸/年彩色光刻膠和9840噸/年正性光刻膠產能，規模優勢不斷擴大。在客戶方面，公司光刻膠業務擁有LG顯示、三星、京東方、和華星光電等著名企業。同時，公司下屬的江蘇先科和UP Chemical公司在前驅體材料和旋涂絕緣介質（SOD）材料方面積極開拓國內、國際兩個市場，取得良好進展。2021年

98、，江蘇先科和UP Chemical公司繼續維護與鎂光、鎧俠、Intel、臺積電、中芯國際、華虹宏力、長江存儲與合肥長鑫等國內外半導體芯片頭部生產商原有的業務關系；同時，推進技術研發，在原有產品的基礎上，研制更先進制程的產品。4.8 4.8 雅克科技雅克科技 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明58萬潤股份自成立以來一直專注于化學合成技術的研發與產業化應用，依托于強大的研發團隊和自主創新能力，公司年均開發產品數百種，現擁有超過6000種化合物的生產技術，先后涉足電子信息材料產業、環保材料產業和大健康產業三大領域。電子信息材料產業方面，公司除顯示材料外，

99、積極布局聚酰亞胺材料和光刻膠材料等領域。公司光刻膠材料產品主要包括光刻膠單體與光刻膠樹脂，產品種類及生產技術可覆蓋大部分主要產品。2021年，公司啟動“年產65噸光刻膠樹脂系列產品項目”，根據項目環評，該項目包含4類產品，每類產品分別包含酚醛樹脂、對乙酰氧基苯乙烯與對羥基苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸氟酯聚合物、氰尿酸樹脂等光刻膠樹脂，同時還分別包含重氮萘醌、光致產酸劑等光引發劑，以及其他助劑。通過與各類光刻膠組分相比對，可以發現公司4類產品對應的樹脂、光引發劑涉及i/g線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等，這為公司未來打通高端光刻膠全產業鏈帶來可能。該項目已于2022年5月進行驗收，隨著項目后續

100、完全達產，公司在光刻膠材料領域競爭力將進一步增強。4.9 4.9 萬潤股份萬潤股份 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明59 目錄目錄一光刻膠：半導體產業核心材料二光刻膠市場前景廣闊三國產替代進行時四投資建議五五風險提示風險提示 請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明60風險提示風險提示 下游需求增長不達預期；下游需求增長不達預期；經濟大幅下行；經濟大幅下行；項目投產進度不及預期；項目投產進度不及預期；安全環保風險；安全環保風險；下游認證進程不及預期；下游認證進程不及預期；重點關注公司業績不及預期重點關注公司

101、業績不及預期；國產替代實施進度的不確定性；國產替代實施進度的不確定性；技術進步對產業影響的不確定性；技術進步對產業影響的不確定性；請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明61研究小組介紹研究小組介紹李永磊,董伯駿,本報告中的分析師均具有中國證券業協會授予的證券投資咨詢執業資格并注冊為證券分析師，以勤勉的職業態度，獨立，客觀的出具本報告。本報告清晰準確的反映了分析師本人的研究觀點。分析師本人不曾因，不因，也將不會因本報告中的具體推薦意見或觀點而直接或間接收取到任何形式的補償。分析師承諾分析師承諾行業投資評級行業投資評級國海證券投資評級標準國海證券投資評級標

102、準推薦：行業基本面向好，行業指數領先滬深300指數；中性：行業基本面穩定，行業指數跟隨滬深300指數；回避：行業基本面向淡，行業指數落后滬深300指數。股票投資評級股票投資評級買入：相對滬深300 指數漲幅20%以上；增持：相對滬深300 指數漲幅介于10%20%之間；中性：相對滬深300 指數漲幅介于-10%10%之間；賣出：相對滬深300 指數跌幅10%以上?；ば〗M介紹化工小組介紹李永磊，天津大學應用化學碩士，化工行業首席分析師。7年化工實業工作經驗，7年化工行業研究經驗。董伯駿，清華大學化工系碩士、學士，化工聯席首席分析師。2年上市公司資本運作經驗，4年半化工行業研究經驗。湯永俊，悉尼

103、大學金融與會計碩士，應用化學本科，化工行業研究助理，1年化工行業研究經驗。劉學，美國賓夕法尼亞大學化工碩士，化工行業研究助理。5年化工期貨研究經驗。陳雨，天津大學材料學本碩，化工行業研究助理。2年半化工央企實業工作經驗。請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明請務必閱讀報告附注中的風險提示和免責聲明62免責聲明和風險提示免責聲明和風險提示本報告的風險等級定級為R3，僅供符合國海證券股份有限公司（簡稱“本公司”）投資者適當性管理要求的的客戶（簡稱“客戶”）使用。本公司不會因接收人收到本報告而視其為客戶?？蛻艏?或投資者應當認識到有關本報告的短信提示、電話推薦等只是研究觀點的簡要溝通，需以本公司的

104、完整報告為準，本公司接受客戶的后續問詢。本公司具有中國證監會許可的證券投資咨詢業務資格。本報告中的信息均來源于公開資料及合法獲得的相關內部外部報告資料，本公司對這些信息的準確性及完整性不作任何保證，不保證其中的信息已做最新變更，也不保證相關的建議不會發生任何變更。本報告所載的資料、意見及推測僅反映本公司于發布本報告當日的判斷，本報告所指的證券或投資標的的價格、價值及投資收入可能會波動。在不同時期，本公司可發出與本報告所載資料、意見及推測不一致的報告。報告中的內容和意見僅供參考，在任何情況下，本報告中所表達的意見并不構成對所述證券買賣的出價和征價。本公司及其本公司員工對使用本報告及其內容所引發的

105、任何直接或間接損失概不負責。本公司或關聯機構可能會持有報告中所提到的公司所發行的證券頭寸并進行交易，還可能為這些公司提供或爭取提供投資銀行、財務顧問或者金融產品等服務。本公司在知曉范圍內依法合規地履行披露義務。免責聲明免責聲明市場有風險，投資需謹慎。投資者不應將本報告為作出投資決策的唯一參考因素，亦不應認為本報告可以取代自己的判斷。在決定投資前，如有需要，投資者務必向本公司或其他專業人士咨詢并謹慎決策。在任何情況下，本報告中的信息或所表述的意見均不構成對任何人的投資建議。投資者務必注意，其據此做出的任何投資決策與本公司、本公司員工或者關聯機構無關。若本公司以外的其他機構（以下簡稱“該機構”）發

106、送本報告，則由該機構獨自為此發送行為負責。通過此途徑獲得本報告的投資者應自行聯系該機構以要求獲悉更詳細信息。本報告不構成本公司向該機構之客戶提供的投資建議。任何形式的分享證券投資收益或者分擔證券投資損失的書面或口頭承諾均為無效。本公司、本公司員工或者關聯機構亦不為該機構之客戶因使用本報告或報告所載內容引起的任何損失承擔任何責任。風險提示風險提示本報告版權歸國海證券所有。未經本公司的明確書面特別授權或協議約定，除法律規定的情況外，任何人不得對本報告的任何內容進行發布、復制、編輯、改編、轉載、播放、展示或以其他任何方式非法使用本報告的部分或者全部內容，否則均構成對本公司版權的侵害，本公司有權依法追究其法律責任。鄭重聲明鄭重聲明 心懷家國國，洞悉四海海國海研究深圳國海研究深圳深圳市福田區竹子林四路光大銀行大廈28F郵編：518041電話：075583706353國海研究上海國海研究上海上海市黃浦區福佑路8號人保壽險大廈7F郵編：200010電話：021-60338252國海研究北京國海研究北京北京市海淀區西直門外大街168號騰達大廈25F郵編：100044電話：010-88576597國海證券國海證券研究所研究所化工化工研究團隊研究團隊63