國內 ALD 逐步推進，公司進展走在前列。目前，拓荊科技、北方華創、微導納米等公司均布局 ALD，但側重點各不同。拓荊科技在介質薄膜領域具備先發優勢，北方華創同步布局介質原子層沉積（DALD）和金屬原子層沉積（金屬原子層沉積）。微導納米則重點布局 high k 材料等沉積。拓荊科技率先實現 PEALD 的產業化突破，并于 2018 年取得銷售，供貨 ICRD，PEALD系列可用于高/低溫 SiO2、SiN 等多種介質薄膜的沉積，用于芯片填孔、側墻 spacer、襯墊層等工藝的應用。同時，公司加碼 Thermal-ALD 的研發，用于 28nm 以下制程，2023 年公司首臺 Thermal-ALD（TS-300 Altair）設備通過客戶驗證，取得了突破性進展，該設備主要用于沉積 Thermal-ALD 金屬化合物薄膜及 PECVD ADCⅡ薄膜。跟隨公司 Thermal-ALD 獲得突破，公司在 ALD 上訂單有望放量。2023 年，公司 ALD+SACVD 總收入達 2.5億，同比增長 105%，2024 年 ALD 在公司收入占比有望進一步提升。目前，公司已通過募投在上海臨港建設ALD半導體先進工藝裝備研發與產業化項目預計 2024 年 12 月建成，項目完全建成后，將形成 400 臺（套）ALD 產能，助力公司高速成長。