光芯片晶圓制造、芯片加工與測試工藝流程 光芯片制造工藝流程繁多,晶體外延環節最關鍵。光芯片的工藝流程可分為外延結構設計、晶圓制造(晶圓外延結構生長、光柵制作、波導光刻與金屬化制程)、芯片加工和測試(解理鍍膜、自動化芯片測試、芯片高頻測試、可靠性測試驗證)三大部分。 行業數據 下載Excel 下載圖片 原圖定位