具體來看，紫外光從光源系統生成后，被導入照明系統，在這里，光需要被整理，包括改變光的形狀、實時測量光強度、調整光的均勻度，離開照明系統的光還必須控制部分的遮擋與開合，以提供掩模版的掃描。掃描穿過掩模版的光會進入投影物鏡系統。投影物鏡系統將光聚焦在晶圓表面預涂的光阻上，實現把掩模版上的圖案成像在晶圓上。