材料體系發生變化，DUV 光刻膠技術難點突破關鍵在于樹脂結構設計。DUV 光刻膠采用光致產酸劑 PAG 作為感光劑，經過曝光后 PAG 可產生酸，使主體樹脂發生脫保護反應，從而帶來曝光部分和未曝光部分的溶解性差異。DUV 光刻膠樹脂結構包含主鏈與功能性支鏈，通過支鏈上的單體調整對光刻膠進行改性從而滿足不同曝光波長下的需求。在 KrF 光刻膠中，以聚 4-羥基苯乙烯（PHOST）為主鏈，通過引入不同的酸致脫保護基團實現其 248nm 波長光下的感光性；在 ArF光刻膠中，以聚甲基丙烯酸酯類（PMA）為主鏈，并通過引入脂肪環類甲基丙烯酸酯類單體來增強其抗刻蝕性。