（3）KrF 和 ArF/ArFi 光刻機使用準分子激光器作為光源，利用激發態的分子不穩定性發光，從而得到更短的 248nm 與 193nm 的光波長。其工作原理為氪氣與氬氣等惰性氣體在電場和高壓環境下與氟氣，氯氣等鹵素氣體發生反應生成不穩定的準分子。而激發態的準分子又不斷的分解，釋放出了深紫外的光子，通過這種釋放光子的過程，可以得到 248nm和 193nm 的光源。由于準分子激光是脈沖式，所以其主要關注點為脈沖頻率、輸出功率以及持續時間等。