DUV光刻主要用于28nm及以上成熟制程 DUV 主要用于 28nm 及以上的成熟制程。中小容量的存儲芯片、模擬芯片、MCU、電源管理芯片、模數混合芯片、CMOS 傳感器、傳感器等主要采用成熟制程。受益于下游新能源汽車、新一代通信技術、安防、云計算等領域的快速發展,射頻、功率半導體等使用成熟制程的芯片需求量大增,帶動DUV 光刻需求爆發。 行業數據 下載Excel 下載圖片 原圖定位