（metal organic chemical vapor deposition， MOCVD）、 金屬有機鹽沉積 （metal organic deposition，MOD）以及反應共蒸發（reactive co-evaporation，RCE）4 種技術路線，緩沖層鍍膜技術主要包括離子束輔助沉積（ ion beam assisted deposition，IBAD）和傾斜襯底沉積（inclined substrate deposition，ISD）2 種技術路線。