圖23.沉積工藝以LPCVD與PECVD為主 本的空間。主要的布局廠商包括晶澳科技、潤陽股份、天合光能等。 3)PVD通過 PECVD形成氧化層,然后由 PVD完成多晶硅沉積,同樣可以實現 其它 下載Excel 下載圖片 原圖定位